説明

株式会社ウインズにより出願された特許

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【課題】ガラス基板の品質劣化を防止できるガラス基板収納ケース、ガラス基板収納ケースから別のケースにガラス基板を自動で入れ替えるガラス基板入替、ガラス基板を個別に管理するガラス基板管理装置、ガラス基板を専用のガラス基板収納ケースに収納させて取引するガラス基板流通方法、気密効果を高めるシール部材及びこのシール部材を用いたシール構造を提供する。
【解決手段】レチクルRが載置される底部材12と、底部材12に載置されたレチクルRを覆うように底部材12に合わせられ底部材12との間に空間部を形成する蓋部材20と、底部材12又は/及び蓋部材20に設けられ蓋部材20が底部材12に合わせられた状態で空間部を気密にするシール部材18と、蓋部材20に設けられ底部材12に引っ掛けられて蓋部材20が底部材12に合わせられた状態を維持するフック部材24と、を有する構成とした。 (もっと読む)


【課題】半導体基板などの被処理物の厚みを考慮することなく表面処理を行うことにより表面処理効率の低下を防止することができ、かつ、被処理物のプラズマダメージを大幅に低減することができる大気圧プラズマ処理装置及び大気圧プラズマ処理方法を提供する。
【解決手段】大気圧又はその近傍の圧力下においてプラズマにより被処理物の表面処理を行う大気圧プラズマ処理装置10であって、アースに接続され被処理物Mの表面に対して略直交するように配置された第1電極28と、第1電極28に対向するように配置され第1電極28との間に放電空間34を形成する第2電極22と、第2電極22にマッチング回路24を介して接続され第2電極22に高周波電力を供給する高周波電源26と、放電空間34に処理ガスを供給する処理ガス供給手段20と、を有する構成とした。 (もっと読む)


【課題】逆圧に耐えることにより、一部の部屋をメンテナンスしている場合でも他の部屋を用いて半導体基板などの被処理物を同時に処理することができる真空用ゲートバルブを提供する。
【解決手段】複数の部屋を区画する壁部64に形成された開口部74、76を開放又は閉塞する真空用ゲートバルブ10であって、壁部64の内部を移動すると共に、開口部74、76の外縁又はその近傍に位置する壁部64を押圧し壁部64の内部から開口部74、76を閉塞するゲートバルブ本体12と、ゲートバルブ本体12を移動させる移動手段56、58と、を有する構成とした。 (もっと読む)


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