【課題】
表面検査装置では、より粒径の小さいＰＳＬを使用することで、より小さい欠陥を検査することが可能となる。しかし、ＰＳＬの粒径は、有限である。このことから、従来の表面検査装置では、近い将来に半導体製造工程の検査で必要となるＰＳＬに設定の無いほど小さい粒径の欠陥をどのように検査するかということに関しては配慮がなされていなかった。
【解決手段】
本発明は、被検査物体で散乱，回折、または反射された光の、波長，光量，光量の時間変化、および偏光の少なくとも１つを模擬した光を発生する光源装置を有し、前記光を表面検査装置の光検出器に入射させる
【効果】
より微小な欠陥を検査することができる。 （もっと読む）

【課題】
観察試料の周縁部での電界乱れを補正して分解能の低下を防ぐことができる試料保持装置、及び、荷電粒子線装置を提供する。
【解決手段】
本発明の実施態様によれば、試料に荷電粒子線を照射し発生する二次信号から画像を生成する荷電粒子線装置に用いられる試料保持装置において、試料が載置される面に設けられた複数の電界補正電極と、荷電粒子線を減速させるリターディング電圧を試料へ印加するリターディング電圧印加用ケーブルとを備え、試料の画像に基づいて電界補正電極へ印加される電圧が調整されることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
磁気ヘッドアッセンブリを磁気ヘッド検査装置のヘッドクランプ台にセットしたときにフレキシブルケーブルとコンタクトユニットとの電気的な接触を確保することが容易な、磁気ヘッドアッセンブリのハンドリングロボット、磁気ヘッド検査方法および検査装置を提供することにある。
【解決手段】
この発明は、吸着ヘッドにより水平に保持されたフレキシブルケーブルの後ろ側の上側面に押さえアームを接触させることで、フレキシブルケーブルの端子パッドが水平状態から上方への反りを防止するものである。 （もっと読む）

【課題】ウエハ処理に従い消耗するフォーカスリング厚さを監視する。
【解決手段】真空容器１と、被加工試料設置手段５と高周波電力導入手段４と高周波バイアス電力導入手段７を有し、真空容器１内に導入されたガスを高周波電力導入手段４から導入された高周波電力でプラズマ化したプラズマにより被加工試料６の表面処理を行うプラズマ処理装置であって、被加工試料設置手段５上に載置された被加工試料６の周囲に円環状部材１１を備え、真空容器１側壁に対向してアスペクト比が３以上の一対の筒を設け、それぞれの筒はその先端をガラス材により真空に封じられ、それぞれの筒はガラス材の大気側に真空容器内に向けて配置された光源１５または真空容器内に向けて配置された受光手段１６を有しており、円環状部材１１表面を通過してきた光を受光手段１６にて受光する。 （もっと読む）

【課題】処理対象とする基板のサイズが大きく変化しても、長辺側，短辺側のいずれを処理する際にも、何等の変更を加えることなく、基板を円滑に搬送、位置決め可能とする。
【解決手段】基板処理装置のステージ１０〜１３間にパネル基板１を搬送する基板搬送手段１４は、基板ピッチ送り駆動部３０と、基板支持部３１と、基板フローティング部３２とから構成される。基板ピッチ送り駆動部３０は、可動ビーム４０と、この可動ビーム４０を昇降及び前後動させる駆動部材４１とからなり、基板支持部３１は全てのステージに対して設けられている固定部材であり、可動ビーム４０及び基板支持部３１はパネル基板１を真空吸着するものであり、基板フローティング部３２はパネル基板１の裏面との間に空気層を形成して、パネル基板１を浮上させることによりパネル基板１が他の部材と摺接することはない。 （もっと読む）

【課題】異方性導電膜を介してパネル基板に電子回路部品を実装するときに、両者の間の電気的な接続状態を良好に維持しつつ熱圧着を行うことを目的とする。
【解決手段】パネル基板１上にＡＣＦ５を介して搭載されたＴＡＢ２を圧着するために、パネル基板１を下方から支承する基板支持台２４と、基板支持台２４に搭載されたパネル基板１上のＴＡＢ２を圧着する圧着ヘッド１６とを備えており、圧着ヘッド１６および基板支持台２４は磁性材料から形成されており、圧着ヘッド１６は加圧ブロック１５に揺動可能に連結されており、基板支持台２４に電磁石コイル２３を設けており、電磁石コイル２３を通電して磁力を発生させることにより、圧着ヘッド１６を基板支持台２４に倣わせるようにしている。 （もっと読む）

【課題】欠陥及び欠陥座標３３の特定が可能な欠陥レビュー装置を提供する。
【解決手段】検査画像２８に基づいて、実パターン２８ａの輪郭をなす画素と輪郭の法線方向に並ぶ各画素との距離値を画素毎に設定した距離検査画像２９を生成する距離検査画像生成部５と、実パターン２８ａに対応する設計パターン２６ａの輪郭をなす画素と輪郭の法線方向に並ぶ各画素との距離値を画素毎に設定した距離設計画像２７を生成する距離設計画像生成部６と、画素毎に、距離設計画像２７と距離検査画像２９の距離値の差分を設定した距離差分画像３０を生成する距離差分画像生成部９と、距離差分画像３０に基づいて、欠陥２８ｂが発生している欠陥座標３３を特定する欠陥座標特定部１０とを有する。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、微小試料の傾斜シリーズ像を短時間で取得することに関する。
【解決手段】
本発明は、傾斜シリーズ像を取得する際の焦点ずれ量と一致度の関係をあらかじめ計測しておき、その関係に基づき一致度から焦点ずれを逆算して、ステージや対物レンズ等を制御して焦点ずれを補正し、傾斜シリーズ像を取得することに関する。また、本発明は、傾斜シリーズ像を撮影する際に参照画像をあらかじめ取得しておき、取得された画像と参照画像との相関を取り、一致度が設定値以下であった場合に、警告メッセージの発信や、画像取得シーケンスの停止、等の処理を実施することに関する。本発明により、傾斜シリーズ像を撮影する際の焦点合わせを高速に行うことが可能となり、傾斜シリーズ像の撮影時間を短縮できる。また、三次元再構築に適さない画像を排除することができる。これにより、半導体や先端材料の不良解析等のスループットを上げることができる。 （もっと読む）

【課題】単分子計測によるmRNA発現解析において、発現解析を行う標的mRNAが２種以上の試料由来である場合に、標的mRNAのハイブリダイズ効率に影響を与えることなく、その試料毎に異なるタグ識別が可能な発現mRNA識別方法を提供する。
【解決手段】オリゴdT配列を有する第１オリゴヌクレオチド１０１および第２オリゴヌクレオチド１０２から形成され少なくとも１個の制限酵素認識配列を有する２種以上の二本鎖DNA複合体であって、該制限酵素認識配列がメチル化修飾様式において互いに異なる該二本鎖DNA複合体を、該オリゴdT配列により標的mRNAに試料ごとにハイブリダイズさせる工程を含む、発現mRNA識別方法。 （もっと読む）

【課題】
半導体ウェーハ上の欠陥を撮像し、撮像画像を外部装置へ転送する機能を有する走査型電子顕微鏡において、スループットの低下を防止する。
【解決手段】
画像データを一時格納する少なくとも２個のメモリと、該メモリのうちの第一のメモリへ格納された第一の画像データの外部装置への転送の開始とともに、次の第二の画像データの撮像条件設定を行う制御部と、該設定された撮像条件で撮像された第二の画像データを第二のメモリへ一時格納させるメモリ選択部とを備える。 （もっと読む）