【課題】 結晶シリコンの少なくとも一つの極薄層を含む多層膜を製作する、単純で負担がより少ない方法を提案すること。
【解決手段】 本発明は結晶シリコンの少なくとも一つの極薄層を有する多層膜を製作する方法に関し、前記膜は、結晶構造を有し、予め洗浄された表面を含む基板から製作される。本発明によれば、前記方法は前記洗浄された表面をＳｉＦ_４、水素、及びアルゴンのガス混合物内で生成されたＲＦプラズマに当て、それにより前記基板に接触して微小空洞を含有する界面副層を備える結晶シリコンの極薄層を形成するステップａ）と、結晶シリコンの前記極薄層上に少なくとも１層の材料を堆積させ、それにより少なくとも一つの機械的に強い層を含む多層膜を形成するステップｂ）と、前記多層膜で覆われた前記基板を４００℃より高い温度でアニールし、それにより前記多層膜を前記基板から分離させるステップｃ）とを含む。 （もっと読む）

本発明は、表面が酸化ケイ素の層で覆われているシリコン基板の表面の洗浄方法を提供する。この方法は、上記表面をフッ素化ガスから発生させた高周波プラズマに60秒〜900秒からなる時間暴露させ、上記プラズマによって発生させた出力密度が10mW/cm²〜350mW/cm²からなり、上記フッ素化ガスの圧力が1.333Pa〜26.664Pa (10ミリトール〜200ミリトール)からなり、そして、上記シリコン基板の温度が300℃以下であるステップa)；および、上記表面を水素高周波プラズマに5秒〜120秒からなる時間暴露させ、出力密度が10mW/cm²〜350mW/cm²からなり、水素圧が1.333Pa〜133.322Pa (10ミリトール〜1トール)からなり、そして、上記シリコン基板の温度が300℃以下であるステップb)を含む。 （もっと読む）

本発明は、シリコン基板の表面の気相中でのテクスチャリング方法および太陽電池用のテクスチャード加工シリコン基板を提供する。上記方法は、上記表面をSF₆/O₂高周波プラズマに2分〜30分の範囲内の時間暴露させてピラミッド構造を示すテクスチャード加工表面を有するシリコン基板を製造する少なくとも１つのステップa)を含み、上記SF₆/O₂比が2〜10の範囲内にある。本発明によれば、ステップa)においては、上記高周波プラズマによって発生させた出力密度は2500mW/cm²以上であり、反応チャンバー内の圧力は13.332Pa (100ミリトール)以下であって、転倒タイプのピラミッド構造を有するテクスチャード加工表面を有するシリコン基板を製造するようにする。
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【課題】メモリ装置を製造するための方法。
【解決手段】ナノ粒子２４４を含むメモリ装置１００を製造するための方法であって、少なくとも１つの半導体をベースとする基板において、ソースおよびドレイン領域１１８、１２０と、ソースおよびドレイン領域１１８、１２０の間に配置され、かつメモリ装置１００のチャネル１２１を形成するための基板の少なくとも１つの領域上に少なくとも１つの第１の誘電体２４１とを形成するステップと、少なくとも１つの導電材料のナノ粒子を懸濁した状態で含み、少なくとも第１の誘電体２４１を覆う少なくとも１つのイオン液を堆積するステップと、ナノ粒子２４４の堆積物を少なくとも第１の誘電体２４１上に形成するステップと、残りのイオン液を除去するステップと、ナノ粒子２４４の堆積物の少なくとも一部上に、少なくとも１つの第２の誘電体２５２および少なくとも１つの制御ゲート２５４を形成するステップとを含む。 （もっと読む）

【課題】 角膜を切開するのに十分なエネルギーを示し、１５６５ｎｍないし１６２５ｎｍの波長範囲で動作するエルビウム添加ファイバに基づくサブピコ秒レーザを提供すること。
【解決手段】 本発明は高エネルギーサブピコ秒パルスを増幅するチャープパルス増幅ファイバレーザ（１０）に関し、レーザは発振器（１）と、ファイバ伸張器（３）と、エルビウム添加又はエルビウム−イッテルビウム共添加光ファイバ部（４、７）、及び出力増幅器光ファイバ（７）に結合することにより光学的ポンピングを行うのに適したポンプ（８）を備える一つ以上の前置増幅段並びに一つの出力増幅段と、圧縮器（９）とを備える。本発明によれば、出力段のポンプ（８）は１５３０ｎｍないし１５６５ｎｍの範囲にある少なくとも一つのポンプ波長λ_Ｐを発生させ、レーザパルス（２０）の放射波長は１５６５ｎｍないし１６２５ｎｍの範囲にあり、レーザパルス（２０）のエネルギーは１０ｎＪないし数１０μＪの範囲にある。本発明はまたそのようなレーザを含む眼科手術用用具を提供する。 （もっと読む）

【課題】 太陽電池モジュールの複雑さを著しく増加することなく、単純な製造方法を適用することにより太陽電池モジュールの効率を著しく改善すること。
【解決手段】 発明は直列の少なくとも二つの太陽電池（７、７’）を備える太陽電池モジュール（１）に関し、それぞれの矩形電池（７、７’）はそれぞれ第１の薄膜裏面電極（５、５’）と、前記裏面電極（５）と薄膜（４）で出来た透明導電性（ＴＣ）電極の間にある少なくとも二つの活性材料（３）を有する光起電力積層とを備え、前記ＴＣ電極（４、４’）は前記光起電力積層（３、３’）により発生した電流（１０、１０’）を収集及び伝達でき、前記二つの太陽電池（７、７’）は、前記第１の電池（７）の前記ＴＣ電極（４）と前記第２の電池（７’）の前記裏面電極（５’）の間にある電気接触ストリップ（６）により直列に電気接続される。発明によれば、前記電池（７）の前記ＴＣ電極（４）の局部的厚さ（ｅ）は前記電気接触ストリップ（６）までの距離の関数として変化する。発明はまた透明導電（ＴＣ）膜を堆積及びエッチングして単一モジュール（１）用の複数の電池（７、７’、７”・・・）を同時に製造する方法に関する。 （もっと読む）

【課題】 限界値（０．２ないし０．５７の範囲にある）の間にあり、比較的一様な水準の条件付けを示しながら、３５０ｎｍないし２０００ｎｍのスペクトル域にわたり測定値をもたらすことができる偏光計を提案すること。
【解決手段】 本発明は波長域にわたり入射光ビームを発するのに適した光源と、偏光状態生成器（ＰＳＧ）と、偏光状態分析器（ＰＳＡ）と、検出器とを備える広スペクトル域の分光偏光計システムに関する。ＰＳＧとＰＳＡは光ビームの偏光を変調するそれぞれの手段を有する。本発明によれば、偏光を変調するＰＳＧの手段は各測定波長においてｍ個（ｍ＞４）の偏光状態の列を生成するのに適し、偏光を変調するＰＳＡの手段は各測定波長においてｎ個（ｎ＞４）の偏光状態の列を決定するのに適し、検出器手段は各波長においてＮ個（ただし、１６＜Ｎ≦ｎｘｍ）の測定値の列を取得してそれからサンプルのミューラー行列の偏光計分光測定値を抽出するのに適している。本発明はまた拡張された分光偏光測定方法に関する。 （もっと読む）

【課題】
【解決手段】 発明は、金属酸化物層（２）を有する基板（１）上に半導体ナノワイヤ（５）を製造する方法であって、
ａ）前記層（２）を還元して前記金属酸化物層（２）の表面上に半径（Ｒ_ｍ）の金属ナノドロップ（３）を形成するのに適した時間ｔの間出力Ｐの水素プラズマ（１１）を前記金属酸化物層（２）に照射するステップと、
ｂ）前記金属ナノドロップ（３）を含む前記金属酸化物層（２）上への、前記金属ナノドロップ（３）を被覆するのに適した厚さ（Ｈ_ａ）を有する半導体材料の薄層（４）の低温プラズマ助長蒸着ステップと、
ｃ）前記金属ナノドロップ（３）から薄層（４）として堆積された前記材料の触媒作用によりナノワイヤ（５）の横方向成長を促進するのに十分な温度Ｔにおいて熱アニールするステップと
を含む半導体ナノワイヤ（５）を製造する方法を提供する。発明はまた、発明の方法により得られたナノワイヤ（５）と、半導体ナノワイヤ（５）、例えばソース（１６）、ドレイン（１７）、及びゲート（１８）間に半導体接続部を形成するシリコンナノワイヤ（ＳｉＮＷ）を含むナノメータトランジスタとを提供する。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、前眼部の組織の透過率と散乱を光学的に測定する装置及び方法に関する。本装置は眼の媒質の客観的評価を可能にし、散乱性媒質でさえ可能にする。
【解決手段】 本発明は、前眼部の組織（７）の透過率と散乱を測定する光学装置に関し、前記装置は光源（１）と、特性評価される前眼部の組織（７）にコリメートされた光ビームを向けるコリメータ光学系（２、４）と、前記コリメータ光学系（４）と前記組織（７）の間の光路に配置された光学パターン（６）と、前記パターンと前記組織（７）により透過された光ビームを受光することができ、像検出器（１０）上に前記パターンの像を形成することができる結像光学系（９）と、前記眼の媒質（７）を介する前記パターンの画像（２２）から前記組織（７）に対する変調伝達関数を計算することができる画像処理系（１１）とを含む。発明によれば前記光学パターン（６）は中心点（Ｏ）から放射状に分布する交互に明（１３．１、１３．２・・・）暗（１４．１、１４．２・・・）の複数の所定角の扇形体（１３、１４）のセットを含む。本発明はまた前記組織（７）の透過率と散乱特性を表わす関数を抽出する様々の画像処理方法に関する。 （もっと読む）

本発明は、下記の工程：ａ） 金属凝集体(３)を金属酸化物基体(２)上に形成させる工程；および、ｂ） ナノ構造体(１)を、金属凝集体で被覆した金属酸化物基体(２)上で気相成長させる工程を含み、上記基体を１種以上のプレカーサーガスの存在下に加熱し、ナノ構造体(１)の気相成長を金属凝集体(３)によって触媒する、ナノ構造体(１)の金属酸化物基体(２)上での製造方法に関する。本発明によれば、上記金属凝集体の形成工程ａ）は、上記金属酸化物基体の表面を還元性プラズマ処理によって還元して、上記基体(２)上に金属凝集体(３)の液滴を形成させる操作を含み；上記金属凝集体形成工程ａ）および上記ナノ構造体成長工程ｂ）を単一の共用プラズマ反応器チャンバー(４)内で連続して実施し、上記ナノ構造体成長を金属凝集体(３)の液滴上で直接実施する。 （もっと読む）