【課題】等高線情報から補間により得られた数値標高データが有する等高線付近の段差を含む各種の不自然な地形を実質的に解消し、しかも段差解消に伴って他の余分な人工的地形を実質的に生じない、実用的な計算時間で実行可能な整形処理方法を備えたＤＥＭ自動生成システムを提供する。
【解決手段】地形図認識処理手段と等高線部標高データ生成手段と未知点補間手段に加え、注目する画素Ｐ０を中心とする３行３列の画素をとりあげ、Ｐ０の標高が縦横斜めの４種の方向のいずれかで極大又は極小値を取る場合は、その方向での画素とＰ０の標高の差の絶対値のうち最大値ｄをとり、ｄの値の大小に応じ平滑化範囲と反復回数を決定し、最近接する等高線からの距離に応じて重み付け平均の範囲を決定して単純平滑化法を前記反復回数分だけ施す整形処理手段を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】「うねり」や「きず」のない、高い面精度と透明度を有し、好ましくはマイクロレンズを一体に備えた、特に大型で高精細のトップエミッション型有機ＥＬ素子のガラスキャップの製法を提供する。
【解決手段】グラファイト又はガラス状カーボン材のプレス型を用いるプレス加工法において、プレス型の材質にカーボンナノチューブを混合して、プレス型の硬度・強度と、熱伝導度・離型性を向上し、さらに好ましくは、前記プレス型が、前記ガラスキャップの内表面にマイクロレンズアレイを一体に形成するプレス機能面を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】簡明な構造でありながら、十分な吸湿能力を得ることができる複合吸湿機能を備えた、有機ＥＬ素子の封止キャップを提供する。
【解決手段】少なくとも透明電極膜、有機ＥＬ層、陰極用電極からなる複数個の有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）のアレイを搭載した透明基板に対応するサイズを備え、縁辺部に脚部を有し前記脚部の先端が前記透明基板の縁辺部に気密接着される有機ＥＬ素子の封止キャップであって、前記ＯＬＥＤのアレイに面する内表面が吸湿性を有し、さらに前記内表面に通水性を有する吸湿材が設置されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ層の選択的成膜の生産性が高く放熱性がよく有機ＥＬ層が変質・劣化する恐れのないトップエミッション型の有機ＥＬ素子の製法を提供する。
【解決手段】上面に有機ＥＬ保護膜を付着し下面に透明電極膜を付着した有機フィルムを形成する段階と、透明電極膜の下面に３原色に対応する有機ＥＬ層の複数の組を形成し、有機ＥＬ層の下表面に陰極用電極を形成する段階（段階２）と、上下両面が絶縁膜で被覆された金属母体からなる金属薄膜を用意する段階と、金属薄膜の上面に各々導電性接着剤層を備えた画素駆動ユニットのアレイを形成する段階と、有機フィルム下面の陰極用電極と金属薄膜上面の導電性接着剤層が接着される段階とを含み、段階２において有機フィルムが離隔された第１、第２のリールに巻かれ、両リールの中間部において有機フィルムの下面の透明電極膜に有機ＥＬ層がマスクを介して選択的に形成される。 （もっと読む）

【課題】熱伝導性が高いので放熱性が高く、有機ＥＬ素子に対する保護能力が高く、しかも製造工程が簡単な、又これに加えて、最小限の額縁領域しか要せず、可撓性のある、トップエミッション型有機ＥＬ素子の基板を提供する。
【解決手段】マグネシウム、アルミニウム、又はそれらを含む合金からなる金属母体と、前記金属母体に設けられたビアと、前記金属母体の、ビアの内面を含む表面を酸化して形成される絶縁層とを含み、さらに好ましくは、第１の表面と第２の表面の各々に、選択的に前記ビアを介して接続された配線からなる第１と第２の配線層を備え、前記第１の表面には少なくとも有機ＥＬ層が付着され、前記第２の表面には少なくとも外部取り出しリード又は駆動回路チップが搭載されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】トップエミッション型有機ＥＬ素子の、基板からの放熱性が高く、有機ＥＬ層の変質を招かないで第２電極であるＩＴＯ膜とその上の保護膜を連続して形成でき、基板表面の絶縁層を経済的に形成できる製法を提供する。
【解決手段】マグネシウム、アルミニウム、又はそれらを含む合金からなる金属母体を用意し、その表面に絶縁層を形成して、金属基板とする第１の段階と、複数本の第１電極を形成する第２の段階と、有機ＥＬ層を形成する第３の段階と、対向ターゲットスパッタ（ＦＴＳ）装置により、ターゲットを酸化インディウム錫（ＩＴＯ）として、第２電極を形成する第４の段階と、前記ターゲットをシリコンに替えて、酸素ガスと窒素ガスを所定の分圧に混合して吹き込むことにより、酸化窒化シリコンからなる保護膜を第２電極に連続して形成する第５の段階とをこの順に含むことを特徴とする。 （もっと読む）