【課題】ノイズの多いデータに対してヒストグラム又は標本データ列のピーク値を決定する。
【解決手段】正規直交展開に基づいてモデル化された曲線をデータ列に当てはめ、データ列に当てはめられた曲線における勾配の変化を表す微分曲線を取得し、微分曲線における少なくとも一つの根を発見し、微分曲線における少なくとも一つの根の各々について、データ列に当てはめられた曲線上の対応値を算出し、少なくとも一つの根の各々について算出された対応値の中の最大値に基づいて、データ列のピーク値を決定する。 （もっと読む）

【課題】広範囲ズーム機能を備えた超広帯域紫外（ＵＶ）カタディオプトリック映像顕微
鏡システムが開示される。
【解決手段】カタディオプトリックレンズ群及びズーミングチューブレンズ群を含む顕微
鏡システムは、極ＵＶ波長で高光学解像度と、連続的に調整可能な倍率と、高開口数とを
有する。このシステムは、部品点数を削減し、システムの製造プロセスを簡単化するため
、対物レンズ、チューブレンズ及びズーム光学系のような顕微鏡モジュールを統合する。
好ましい実施例によれば、全屈折ズーミングチューブレンズと組み合わせることにより、
非常に広い極紫外スペクトル域に亘って優れた画質が得られる。ズーミングチューブレン
ズは、一般的に性能を制限する高次色収差を補償するように変更される。 （もっと読む）

【課題】非破壊的方法により基板の表面上の絶縁層を介して電気的に基板を接地する。
【解決手段】基板の表面上の絶縁層を介して、導電経路を形成する装置に関する。第１の放射線源は、絶縁層の第１の領域へ放射線を放出するように構成され、且つ、第１の電気接点は、第１の領域へ第１のバイアス電圧を印加するように構成される。第２の放射線源は、絶縁層の第２の領域へ放射線を放出するように構成され、且つ、第２の電気接点は、第２の領域へ第２のバイアス電圧を印加するように構成される。領域の伝導性は、伝導経路がそれらの領域で絶縁層を介して形成されるように、放射によって増加する。一実施態様において、装置は、電子ビーム装置において使用され得る。別の実施形態は、絶縁層を介して導電経路を形成する方法に関する。 （もっと読む）

【課題】干渉計測システムなどの振動感知システムのために、データ取得中は音響ノイズを最小限にしながら、環境制御をするための方法およびシステムの提供。
【解決手段】計測機器を含む振動感知計測システムのために環境制御を提供するための装置であって、前記振動感知計測システムを囲う熱的に安定したミニ・エンバイロメントを提供するための手段と、音響ノイズおよび振動から生じる前記振動感知計測システムの測定誤差を最小限にするための手段とを備える。 （もっと読む）

【課題】反射電子ビームリソグラフィ装置のパターン生成器の画素素子の革新的なレイアウトを提供する。
【解決手段】一実施形態は、対象基板上にパターンを書き込むための装置に関する。この装置は、画素素子の複数の配列を含み、各配列は、互いにオフセットされている。加えて、この装置は、複数の配列上に合焦させる入射ビームを生成するための発生源１２０２およびレンズと、パターン化ビームを形成するために、画素部分が入射ビームを選択的に反射するように各配列の画素素子を制御するための回路と、を含む。さらに、この装置は、対象基板上にパターン化ビームを投射するための投射器１２１４を含む。また、他の特徴、態様および実施形態も開示される。 （もっと読む）

【課題】基板の２つ以上の連続するレイヤ間の相対的ズレを決定するための重ね合わせマークを提供する。
【解決手段】 重ね合わせマークは第１方向における基板の第１および第２レイヤ間の相対的ズレを決定する少なくとも一つのテストパターンを含む。テストパターンはワーキング・ゾーンの第１セットと、ワーキング・ゾーンの第２セットとを有する。第１セットは基板の第１レイヤ上に配置され、対角線上に対向し互いに空間的にオフセットされた少なくとも２つのワーキング・ゾーンを有する。第２セットは基板の第２レイヤ上に配置され、対角線上に対向し互いに空間的にオフセットされた少なくとも２つのワーキング・ゾーンを有する。ワーキング・ゾーンの第１セットは、ワーキング・ゾーンの第２セットに対して一般に角度をつけられ、よって「Ｘ字」形状のテストパターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】電子ビーム経路長さを低減する。
【解決手段】反射電子ビームリソグラフィーのための装置に関し、電子源１０２とパターン状電子反射器生成器構造とステージ１２４と縮小電子レンズ１１２，１２０とＥｘＢセパレータ１１０とを含む。ＥｘＢセパレータは、電子ビームの軌跡をダイナミックパターンジェネレータ構造１１８に向かって屈曲させるように構成される。パターン状電子反射構造は、パターン状電子ビームを形成するように電子ビームの選択部分を反射するように構成される。ＥｘＢセパレータは、パターン状電子ビームが縮小電子レンズに向かって直線状に通過できるように構成される。縮小電子レンズは、パターン状電子ビームを縮小し、縮小されたパターン状電子ビームを目標基板１２２上に投射するように構成される。装置は、直線状の投射軸を有し、（磁気プリズムを用いた従来の装置と比較して）電子ビーム経路を実質的に３分の１まで低減する。 （もっと読む）

【課題】マスクレスのため低コストで電子ビーム投影リソグラフィを可能にする、電子反射板のアレイから制御可能に電子を反射する方法と、反射電子ビームリソグラフィのためのダイナミックパターン生成機の装置を提供する。
【解決手段】入射電子ビームが電子源から形成され、入射ビームは電子反射板のアレイに導かれる。第１の複数の反射板は、反射板を出る反射した電子が合焦ビームを形成する第１反射モードで電子を反射するように構成される。第２の複数の反射板は、反射板を出る反射した電子がデフォーカスする第２反射モードで電子を反射するように構成される。 （もっと読む）

一実施形態は、基板の欠陥検査及び／又は点検、或いは基板上の特徴部の限界寸法を測定する電子ビーム装置に関する。この装置は、電子銃及び電子柱を含む。電子銃は電子源及び調整可能なビーム制限開口部を含み、電子源は、電子ビーム用の電子を発生させるように構成されており、調整可能なビーム制限開口部は、多様な開口部サイズから１つの開口部サイズを選択して使用するように構成されている。別の実施形態は、装置に電子ビームを供給することに関する。高感度と高処理能力の両方を得るように大きいビーム電流を維持しながら、本開示の装置及び方法はスポットのぼやけを有利に低減する。 （もっと読む）

【解決手段】フォトレジスト体積内における酸発生剤およびクエンチャの個数を判定するステップと、フォトレジスト体積により吸収された光子の個数を判定するステップと、酸に変換された酸発生剤の個数を判定するステップと、フォトレジスト体積内における酸とクエンチャとの反応の回数を判定するステップと、フォトレジスト体積の現像を計算するステップと、フォトレジスト体積の現像およびフォトレジストプロファイルの寸法特性の計測により形成された３次元的にシミュレーションされた走査型電子顕微鏡画像をプロセッサを用いて生成するステップとによる、フォトレジストプロファイルの寸法特性を計測するための、プロセッサに基づく方法が提供される。 （もっと読む）