【課題】実施容易なフローティングゲートの製造方法を提供する。
【解決手段】少なくとも２つの重合体を備え、かつ、基板３に垂直のラメラ構造を有するダイブロック共重合体層が、基板に形成された第１のゲート絶縁体４に堆積される。そして、ダイブロック共重合体層の重合体のうちの１つは、除去され、並列の溝が共重合体層に形成される。溝は、第１の金属または半導体材料６により充填され、共重合体層の残りは除去される。第２の誘電材料７が堆積され、第２のゲート絶縁体が形成される。そして、フローティングゲートの第２のゲート絶縁体は、それぞれ第１（６）および第２（７）の材料の、並列の第１および第２のラインの交互配列を備えることになり、第２の材料７は、第１の材料のラインを封入することになる。 （もっと読む）