【課題】実施が容易であり、かつ結晶化しやすいガラスのフロート中であっても望ましくないエッヂ部分における失透を防止できるガラスフロート方法を提供する。
【解決手段】容易に結晶化し易い平板ガラスの製造方法であって、フロートガラス装置で、液状ガラスをガラス流の形態で、液状ガラスが所望の幅及び厚さをもつガラスリボンに形状化される注ぎ領域中の金属上へ注ぎ、それによって注ぎ領域中のガラス流をウエットバックタイル及び／または制流タイルへ衝突させる工程を含むものにおいて、注ぎ領域中のウエットバックタイル及び／または制流タイルとガラス流との間にフロート浴金属から成る膜が形成され、及び前記フロート浴金属から成る膜によって液状ガラスとウエットバックタイル及び／または制流タイル間の直接接触が防止されるように構成する。 （もっと読む）

【課題】実施が容易であり、結晶化し易いガラスのフローティング（すなわちガラスセラミックプレートを製造するための未加工ガラス）でも、ガラスリボン中で歪が増大せず、しかも徐冷炉でガラスが割れないような程度まで縁領域の好ましくない失透を防止する、フロート方法を提供する。
【解決手段】フロートガラスユニットにおいて、所定の幅と厚みのリボンに付形する注入ゾーン内の金属浴に、ガラス流の液体ガラスを注入し、それにより前記注入ゾーン領域内のガラス流が少なくとも１つの加熱境界壁に当接し、前記注入された液体ガラスはガラスセラミックの前駆体ガラスであり、少なくとも１つの加熱境界壁をガラスの上失透限界（ＵＤＬ）以上の温度まで加熱し、そして少なくとも１つの加熱境界壁を間接的に加熱する工程を含む、平坦ガラスを製造する方法 （もっと読む）

【課題】低放射性のガラスを製造する方法であって、可能な限り少数の方法ステップしか有しておらず、かつ従来技術に記載された方法よりも著しく少ない手間及び費用しか必要としない方法を提供する。
【解決手段】放射線感受性のセンサ、特に半導体テクノロジーにおける放射性感受性のセンサのための、僅かなα固有放射しか伴わない低放射性のカバーガラスを、中間形状を形成することなく、平面ガラスとして直接的に形状付与することによって製造する方法が提供される。 （もっと読む）

【課題】放射線の少ないガラスに求められる要件を高度に満たすガラス組成を提供することである。
【解決手段】本発明は、特に半導体テクノロジーにおける、放射線に敏感なセンサのための放射線の少ないカバーガラスに関するもので、α自己放射が少なく、アルミノケイ酸塩ガラス、アルミノホウケイ酸塩ガラス、特に無アルカリのホウケイ酸塩ガラスから選ばれ、ＴｉＯ_２含有量が０．１重量％超１０重量％以下の範囲、特に１−８重量％の範囲であるガラス組成である。 （もっと読む）

【課題】少なくとも１種の重金属酸化物を含むマトリックスガラスを含有する光増幅器用のガラスファイバにおいて、散乱光によって生じる雑音を最小限にし、それによって増幅器の信号出力を増大させる。
【解決手段】マトリックスガラスがＢｉ、Ｔｅ、Ｓｅ、Ｓｂ、Ｐｂ、Ｃｄ、Ｇａ、Ａｓの酸化物、および／もしくは混合酸化物、ならびに／またはこれらの混合物から選択される少なくとも１種の重金属酸化物、および、少なくとも１種の希土類化合物を含有するコアを備えるガラスファイバであって、それによって上記コアが少なくとも２層のガラスクラッドに囲まれ、コアから第１クラッドへの屈折率変化Δｎが０.００１〜０.０８の範囲内にあり、かつ第１クラッドの屈折率がコアよりも低いガラスファイバとする。 （もっと読む）

【課題】低転移温度と共に屈折率ｎ_ｄが１．９１≦ｎ_ｄ≦２．０５、アッベ数ｖ_ｄが１９≦ｖ_ｄ≦２５である鉛及び砒素非含有の環境保護的考慮がなされた光学ガラスを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、次の組成（酸化物に基づく重量％で）、即ち Ｂｉ_２Ｏ_３を５５〜７０、ＧｅＯ_２を１３〜２１、ＳｉＯ_２を０〜９、Ｂ_２Ｏ_３を０〜１０、Ｌｉ_２Ｏを０〜５、 Ｎａ_２Ｏを０〜５、Ｋ_２Ｏを０〜５、Ｃｓ_２Ｏを０〜６、ＭｇＯを０〜１０、ＣａＯを０〜１０、ＳｒＯを０〜１０、ＢａＯを０〜１０、ＺｎＯを０〜１０、ＴｉＯ_２を０〜５、Ｌａ_２Ｏ_３を０〜７、Ｗｏ_３を０〜６、Ｎｂ_２Ｏ_５を０〜６、Σアルカリ酸化物を０〜５、Σアルカリ土類酸化物を０〜１０、Σ（Ｌａ_２Ｏ_３＋ＷＯ_３＋Ｎｂ_２Ｏ_５＋ＴｉＯ_２）を０〜８、通常の清澄剤を０〜２を含んで成り、Ｂｉ_２Ｏ_３とＧｅＯ_２の比を５以下とすることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ガラスリボンの正味部分における一端から他端へ至る温度配分が可能な限り均質であるガラス焼きなまし炉を提供する。
【解決手段】ガラス焼きなまし炉内部に収容されるローラーコンベヤと、ローラーコンベヤ上方及び下方に送り方向に対して横方向に次々と位置して延びる列状に２つ一組で配置され、かつ位置依存的方式で測定される実温度値及び所定の連携所望値を与える温度制御装置と連携される加熱装置２を備える。長期間継続して所望の温度配分を得るため、及び平板ガラス中に応力が生ずることを防止するため、列中の特定位置に位置する少なくとも１対の加熱装置２に対して、該列の別の位置において測定された少なくとも１つの実温度値に基づいて算出された加熱出力の所定部を、前記位置領域に必要な温度配分のために必要とされた加熱出力とする制御量を設定するフィードバックループ装置３、４、５が設けられる。 （もっと読む）

【課題】酸、特に硫酸の使用を回避し、そして該プロセス時に適した非イオン性洗浄剤を利用したマスクブランクを洗浄する有効なプロセスを提供すること。
【解決手段】以下のプロセス工程、すなわち、ａ）ＵＶ−処理工程、ｂ）フルジェット洗浄工程、ｃ）メガソニック洗浄工程、ｄ）ＤＩ水リンス工程、及び必要なら基板を乾燥する工程を含む基板を洗浄するための方法。 （もっと読む）

【課題】オプトセラミックから成る光学素子の提供。
【解決手段】屈折性、透過性あるいは回析性を有する光学素子が、下記式、（１−ｍ）｛ｚ１［ＺｒＯ_２］ｚ２［ＨｆＯ_２］（１−ｚ１−ｚ２）［Ｘ_２Ｏ_３］｝ｍ［Ａ］または（１−ｍ）｛ｚ１［ＺｒＯ_２］ｚ２［ＨｆＯ_２］（１−ｚ１−ｚ２）［ＭＯ］｝ｍ［Ａ］、で表され、 式中、ｚ１＋ｚ２は０．９２以下、好ましくは０．９０以下の数であり、ｚ１、ｚ２及びｍは０またはそれ以上の数であり、及びｍは０．１０未満、好ましくは０．０６未満、最も好ましくは０または０の近似値であり、ＸはＹ、Ｓｃ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ及びＬｕから選択され、ＭはＣａ及びＭｇから選択され、及びＡは特にＳｉＯ_２、Ｎａ_２ＯあるいはＴｉＯ_２から選択される１または２種以上の付加成分である、で表すことができる微結晶がＺｒＯ_２型の立方晶結晶構造を持つ。 （もっと読む）

ガラス融液を分割するため及び光学的融液の流量及び透過率を高めるために、６７０℃以下の温度で１０^７．６ｄＰａ・ｓの粘度を有する低粘度ガラス、特にブランクプレス用のガラス又は低Ｔ_ｇガラスを正確に分割するための本発明の方法は、分割部分の平均重量を基準とした相対及び／又は絶対重量偏差が５％未満である０．２〜１０グラムの重量範囲の分割部分を、複数の出口（７）が設けられたノズル（３）を備えるクロック式ニードルフィーダ（１００）によって反復供給することである連続溶融プロセスに基づく。 （もっと読む）