【課題】空間内の効率的な気体置換を簡易に行うことができる技術を提供する。
【解決手段】気体置換装置１は、空間１０Ｓを形成するグローブボックス１０内の気体を置換するためのものであり、前記気体置換装置１は、窒素ガスを供給する送風部４０と、前記グローブボックス１０に接続されて前記送風部４０から供給される窒素ガスを前記グローブボックス１０に導入する導入管２１を含む導入部２０と、前記グローブボックス１０内の窒素ガスを排出する排出部３０と、前記導入管２１の開口面積を変更する三方バルブを備え、前記三方バルブは、前記グローブボックス１０内について、気体が置換される前よりも置換された後において、前記導入管２１の開口面積が大きくなるように変更する。 （もっと読む）

【課題】基板の主面への処理液の飛散を抑制しつつ基板の端面を局所的に処理できる技術を提供する。
【解決手段】基板処理装置１００は、硬脆性基板の一種であるガラス基板（基板９０）の側端面９１Ｓをエッチングする。基板処理装置１００は、その外周面が基板９０の側端面９１に当接される当接面を形成するスポンジ体２１３（当接部材）と、スポンジ体２１３を回転させるスポンジ体回転駆動部２４０（回転駆動部）と、スポンジ体２１３に処理液を供給する処理液供給管２５１（処理液供給部）とを備える。搬送ローラー３１により＋ｙ方向に搬送される基板９０の側端面９１Ｓに対して、ｚ軸回りに回転するスポンジ体２１３の外周面が押し当てられることにより、基板９０の側端面９１Ｓのエッチングが行われる。 （もっと読む）

【課題】塗布膜に対する洗浄液の浸透を抑制し、それにより有効領域における塗布膜の隆起や傾斜を抑制することができる洗浄液供給装置、端縁洗浄装置、端縁洗浄液、および端縁洗浄方法を提供する。
【解決手段】基板の端縁からレジスト膜を除去するための洗浄液として、有機溶剤と純水との混合液を使用する。これにより、有機溶剤を単独で使用した場合と比べてレジスト膜に対する洗浄液の浸透が抑制される。したがって、基板の端縁に向けて吐出された洗浄液が有効領域のレジスト膜中に浸透することが抑制され、その結果、有効領域におけるレジスト膜の隆起や傾斜が抑制される。洗浄液中の純水の比率は、１．０重量％以上かつ５．０重量％未満とすればよく、３．０重量％以上かつ４．０重量％未満とすればより望ましい。 （もっと読む）

【課題】レジスト膜等の保護膜を使用することなく、また、基板の形状に関わらず、基板の一方の面のみに選択的に処理液を供給することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置１は、エッチング液の液面に沿って配列された複数の搬送ローラ１５により基板９を搬送する。各搬送ローラ１５の外周部１５ｂは、スポンジ材料により構成されているため、各搬送ローラ１５はエッチング液を吸収して保持し、基板９の下面に供給する。このため、基板９の上面にレジスト膜を形成することなく、基板９の下面のみに選択的にエッチング液を供給することができる。また、基板９の形状にかかわらず、基板９の下面のみに選択的にエッチング液を供給することができる。 （もっと読む）