【課題】 超高速での開閉を可能としてチャンバ内での処理効率を高めつつ、衝突や永年劣化による寿命の低下を防止して耐用年数を向上させる。
【解決手段】 真空用ゲートバルブ１０は、開口を有するケーシング１２と、このケーシング１２内を揺動して開口を開閉するバルブプレート１４と、このバルブプレート１４を駆動するモーター１６とを備えている。モーター１６の回転軸１６Ａの動力は、ギアを介さずに同軸上でバルブプレート１４に直接伝達される。この場合、モーター１６の回転力は、モーター１６の回転軸１６Ａに連結されて回転軸１６Ａと共に回転し回転軸１６Ａよりも大径に形成されたフランジ２０と、このフランジ２０及びバルブプレート１４に連結されてフランジ２０と共に回転する回転体２２と、この回転体２２をケーシング１２から離反するように付勢するスプリング２４を介して、バルブプレートに伝達される。フランジ２０は、中空部２０ａを有する。 （もっと読む）

【課題】 超高速での開閉を可能としてチャンバ内での処理効率を高めつつ、衝突や永年劣化による寿命の低下を防止して耐用年数を向上させる。
【解決手段】 真空用ゲートバルブ１０は、開口を有するケーシング１２と、ケーシング１２内を揺動して開口を開閉するバルブプレート１４と、バルブプレート１４を駆動するモーター１６を備え、モーター１６の回転軸１６Ａの動力は、ギアを介さずに同軸上で、回転軸１６Ａと共に回転するフランジ２０と、フランジ２０及びバルブプレート１４に連結される回転体２２を介してバルブプレート１４に直接伝達される。回転体２２は、本体部２２Ａと、本体部２２Ａから延びるシャフト部２２Ｂを有し、本体部２２Ａは、横方向においてはローラーベアリング２８を介して、上下方向においては本体部２２Ａの上下に配置された２つのスラストベアリング３０Ａ、３０Ｂを介して保持されることによりカバー２６内に回転自在に設置される。 （もっと読む）

【課題】圧力差によるバルブプレートの変位を防止して、密閉状態を確実に保持すると共にバルブプレートの損傷を抑制する。
【解決手段】真空用ゲートバルブ１０は、開口１２ａを有するケーシング１２と、このケーシング１２内を揺動して開口１２ａを開閉するバルブプレート１４と、バルブプレート１４のケーシング１２への密着時においては弾性部材を介さず機構的にバルブプレート１４の変位を許容しない位置調整手段を備えている。位置調整手段は、駆動源と、この駆動源により回転する回転体２２と、この回転体２２の回転により回転体２２に対して相対的に昇降する昇降体２４とから成り、この昇降体２４はバルブプレート１４に接してバルブプレート１４の位置を調整する。 （もっと読む）

【課題】半導体装置用ガスを処理表面に対して均一に供給することができると共に、ガスを供給する圧力を適切に調整することができる半導体装置用ガスの流動制御方法を提供する。
【解決手段】半導体装置の製造工程においてチャンバへ供給されるガスの流量をバルブケース１０に収納されるコントロールバルブ１２の開閉により制御する。バルブケース１０の内壁面１０ａとコントロールバルブ１２との間に水平方向及び上下方向のギャップ１４Ａ、１４Ｂを形成し、ガスをこのギャップ１４Ａ、１４Ｂによりコントロールバルブ１２の全周方向から回り込むように対流させてチャンバへ供給する。この場合、コントロールバルブ１２を上下動させることにより、上下方向のギャップ１４Ｂの大きさを制御して、ガスの供給圧力を所定の値に調整する。 （もっと読む）

【課題】モーターの回転子の位置と加速度を考慮してバルブの振動を適切に抑制できる半導体用バルブ駆動モーター制御装置を提供する。
【解決手段】半導体装置用バルブ３を駆動するモーター１２と、このモーター１２の回転子の回転を制御する制御手段１４とを備えている。制御手段１４は、モーター１２の回転子の位置を数値化するサーボ回路部２２と加速度を計測する加速度計測部２４と、サーボ回路部２２及び加速度計測部２４からの情報を処理する中央処理部２６とを有する。中央処理部２６は、サーボ回路部２２からの情報に基づいてモーター１２に流れる電流を制御してモーター１２の回転子の位置を目的位置に調整すると共に、加速度計測部２４により計測されたモーター１２の回転子の回転の加速度の変位からモーター１２の振動状態を診断してモーター１２の振動状態の振幅周期と逆位相の回転状態となるように、モーター１２の回転子の回転の加速度を制御する。 （もっと読む）

【課題】 代表的な半導体プロセス用機械は、ガス制御、真空制御、温度制御、プラズマエナジー、またその他の制御に必要であり、いくつかの制御装置は全て性能が全て異なる。その結果、制御システムは半導体機械におけるシステムを構築、展開してゆく基盤となる技術の統一性に欠けるという問題点がある。
【解決手段】 このシステムは同一のメイン制御装置ユニットと個々のターミナルモジュールで構成される。このメイン制御装置は均一性という特徴を持ち、ターミナルモジュールは特殊なアプリケーションが必要でシステムの役割を明確に果たすことが可能である。その結果、それぞれの制御装置はプロセスの変数について適切に情報を共有することを可能にし、制御システム機能の品質の改良を可能にし、この課題を解決する。 （もっと読む）