【課題】レーザクリーニングにおいて、エネルギ消費量も抑えつつ短時間に精度良く付着物を除去することができる付着物の除去方法を提供する。
【解決手段】作業者は、周期構造形成装置１００を用いて被処理対象物ＷＫの表面に複数の微細な凹凸形状からなる周期構造を形成する。周期構造形成装置１００は、ステージ装置１０６により被処理対象物ＷＫを変位可能に支持しつつ、レーザ光源１０１からフェムト秒レーザ光Ｌ_１００を照射して被処理対象物ＷＫの表面に周期構造を形成する。一方、作業者は、付着物が付着した被処理対象物ＷＫに対してクリーニング装置２００を用いてクリーニングを行なう。クリーニング装置２００は、レーザ光源２０１から出射され被処理対象物ＷＫ上に集光するレーザ光Ｌ_２００をガルバノミラー２０３によって被処理対象物ＷＫ上を走査することにより、被処理対象物ＷＫの表面に付着した付着物を剥離させて除去する。 （もっと読む）

【課題】発光層または電極層を含む転写層を熱的な影響を受けることなく簡単な構成で、かつ高精度にガラス基板上に転写することができる有機ＥＬパネルの製造に用いる転写装置を提供する。
【解決手段】転写装置１００は、有機ＥＬパネルを構成する陰電極層３１と有機ＥＬ層３２とから構成される転写層３０が一時的に形成された担持体２０を保持する担持体保持部１０３と、同担持体２０に対向した状態で有機ＥＬパネルを構成するガラス基板１０を保持する基板保持部１０２と、互いに対向配置された担持体２０およびガラス基板１０に向けてパルスレーザ光を照射するレーザ光源１０４とを備えている。担持体２０における転写層３０が形成される形成面２１には、複数の微細な凹凸形状からなる溝状の周期構造２２が形成されている。この周期構造２２は、担持体２０の形成面２１上にフェムト秒レーザ光を照射することによって形成される。 （もっと読む）

【課題】シャドーマスクのクリーニング時における塑性変形を抑えてシャドーマスクの再利用率を向上させ有機ＥＬディスプレイの製造コストを低減させることができるシャドーマスクのクリーニング方法を提供する。
【解決手段】クリーニング装置１００は、シャドーマスク１０を磁気吸着するためのマグネットプレート１０３を備えたマスク保持具１０２を備えている。マグネットプレート１０３の下面には、シャドーマスク１０を構成する素材と同一の素材であるインバー材からなる補強層１０４が形成されている。補強層１０４は、インバー材の熱拡散長よりも長い厚さに形成されている。マスク保持具１０２の下方には、シャドーマスク１０にレーザ光を照射して蒸着物質を除去するための光源１０６，集光レンズ１０７およびガルバノミラー１０８が設けられている。この場合、レーザ光Ｌはシャドーマスク１０に付着した蒸着物質表面での反射率が最小となる入射角θ_Ｂで照射される。 （もっと読む）