強度の高い光源により光学部品に生じる損傷を防止する１つの方法は、光学部品を所定の時間アニーリングすることを含む。他の方法は、フッ化物イオン及び二フッ化水素イオンを含むエッチング液中で光学部品をエッチングすることを含む。該方法はまた、プロセスの間にエッチング溶液を超音波で攪拌すること、次いで光学部品をすすぎ浴ですすぐことを含む。 （もっと読む）

【課題】高出力な固体レーザの励起に適したダイオードレーザポンプアレイ、およびダイオードレーザポンプアレイに使用する回折型ホモジナイザの製造方法を提供する。
【解決手段】アレイ構成で配設された複数の半導体ダイオードレーザバーにより構成されるダイオードポンプアレイ１００から出射する不均一な光強度プロファイルを持つレーザビームを、回折型ホモジナイザ４１０を通過させることで均一化し利得媒体４２０に照射する。 （もっと読む）

半導体レーザシステムは、ダイオードレーザタイルを備える。ダイオードレーザタイルは、第１の側面及び第１の側面の反対側に位置する第２の側面を有する取付台と、取付台の第１の側面に接合された半導体レーザポンプアレイとを備える。半導体レーザシステムは、ダイオードバーに熱的に接合された電気パルス発振器、並びにダイオードバー及び電気パルス発振器に熱的に接合された冷却部材も備える。 （もっと読む）

【課題】ビームホモジナイザの高出力レーザアプリケーションにおいてレーザビームを均一化する改善された光学系、方法及びシステムを提供する。
【解決手段】回折光学素子を製造する方法であって、部分的に透過性のスライドを用意するステップ６１０と、光熱屈折（ＰＴＲ）ガラスを用意するステップ６１２と、ＵＶ放射を前記部分的に透過性のスライドを介して前記ＰＴＲガラスに入射するように向けるステップ６１４と、前記ＰＴＲガラスの所定部分を前記ＵＶ放射に露光するステップ６１６と、露光された前記ＰＴＲガラスを熱処理するステップ６１８と、更なるＰＴＲガラスを用いて、前記ＰＴＲガラスを用意するステップ及び処理するステップを繰り返すステップ６２０と、を含む方法。 （もっと読む）

空間フィルタは、第１のフィルタ素子及び第１のフィルタ素子とオーバラップする第２のフィルタ素子を含む。第１のフィルタ素子は、第１の距離だけ離れた第１の対の円柱レンズを含む。第１の対の円柱レンズのそれぞれが第１の焦点距離を有する。第１のフィルタ素子は、第１の対の円柱レンズの間に配置された第１のスリットフィルタも含む。第２のフィルタ素子は、第２の距離だけ離れた第２の対の円柱レンズを含む。第２の対の円柱レンズのそれぞれが第２の焦点距離を有する。第２のフィルタ素子は、第２の対の円柱レンズの間に配置された第２のスリットフィルタも含む。 （もっと読む）

光学素子を仕上げ処理する方法は、上記光学素子と重なる複数の基準を有する光学マウント内に上記光学素子を取り付けるステップと、上記光学素子と上記複数の基準の為に第１計量マップを取得するステップとを含む。また、この方法は、複数の基準を伴わずに光学素子の為に第２の計量マップを取得するステップと、上記第１計量マップと上記第２計量マップとの間の差異マップを形成するステップと、上記第１計量マップと上記第２計量マップとを整列させるステップとを含む。上記方法は、上記異なるマップを使用して上記第２計量マップ上に数学的基準を配置し、第３計量マップを形成するステップと、上記第３計量マップを上記光学素子に関連付けるステップとを更に含む。さらに、上記方法は、上記光学素子をＭＲＦツール内の取付け具に取り付けるステップと、上記取付け具に上記光学素子を位置決めするステップと、上記複数の基準を除去するステップと、上記光学素子を仕上げ処理するステップと、を含む。
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