この発明は、両親媒性ブロックコポリマー、その製法、及びその自己安定性ラテックスの形態における利用に関するものである。このコポリマーは、式R⁵-O-[-CH₂CH₂-O-]_n-C(=O)-CR³R⁴-[CH₂CR⁶R⁷]_m-S-C(=S)-S-R¹を有し、式中：Ｒ¹は、直鎖又は分枝鎖アルキル基、一つ以上の−Ｃ＝Ｃ−結合を有するアルケニル基、又は一つ以上の−Ｃ≡Ｃ−結合を有するアルキニル基を表し、該基は、８〜１８炭素原子を有し；２０≦ｎ≦１００であり；Ｒ³及びＲ⁴は、各々、互いに独立的に、Ｈ、１〜４炭素原子を有するアルキル基又はニトリル基を表し、Ｒ³及びＲ⁴の少なくとも一つは、Ｈでなく；Ｒ⁶は、フェニル基又はアルコキシカルボニル基（式中、アルコキシ基は、１〜８炭素原子を有する）を表し；Ｒ⁷は、水素原子又はメチル基を表し；そして２０≦ｍ≦１０００である。製法は、化合物Ｒ¹−Ｓ−Ｃ（＝Ｓ）−Ｓ−ＣＲ³Ｒ⁴−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲ²｛式中、Ｒ²は、Ｒ⁵−［−Ｏ−ＣＨ₂ＣＨ₂−］_n−基であり、Ｒ⁵は、親水基であり、２０≦ｎ≦１００である｝の水溶液を調製し；該溶液に、式(ＩＩ)Ｒ⁶−ＣＲ⁷＝ＣＨ₂の一種以上の疎水性モノマー及び遊離基重合開始剤を加え；そして該水溶液を６０〜９０℃の温度に加熱することを含む。 （もっと読む）