【課題】ワークの処理面に傷や損傷を与えることなく、かつ、パーティクル等による汚染のおそれを排除しながらワークを確実に粘着保持させることができる粘着チャック装置、及びこれを用いたワークの粘着保持方法を提供する。
【解決手段】保持板の表面に有した第１の粘着部材を介してワークを粘着保持する粘着チャック装置であって、保持板の表面に対して相対的に上下し、かつ、先端に第２の粘着部材を有したリフトピンを備えて、該リフトピンを第１の粘着部材からなる基準面より突出させてワークを受け取り、第２の粘着部材にワークを粘着させながら前記基準面よりリフトピンを下げることで、ワークを第１の粘着部材に加圧させて粘着保持する粘着チャック装置であり、また、これを用いたワークの粘着保持方法である。 （もっと読む）

【課題】上部及び下部のシート材間に被封止物を挟み込んでこれらシート材間を加熱接合し、シート材間に形成される閉空間内に被封止物を封入するに際し、上部シート材と下部シート材との間の位置合せを正確に行うことができ、しかも、閉空間内に封入される被封止物に対して熱の影響を可及的に低減することができる加熱封止装置を提供する。
【解決手段】環状加熱部を有する加熱手段を備え、上部及び下部のシート材間に被封止物を挟み込み、被封止物の外周部外側において環状加熱部によりシート材間を加熱接合させて環状封止部を形成し、これにより形成される閉空間内に被封止物を封入する加熱封止装置であり、環状加熱部の内側に、内部電極層、誘電体層、及び断熱層を有する静電チャックを配置し、シート材間の加熱接合の際に、誘電体層により上部シート材を吸着して固定し、また、断熱層により被封止物への熱伝導の一部を遮断する加熱封止装置である。 （もっと読む）

【課題】ヒータの低背化と昇温及び冷却の短時間化を図ることができる基板ヒータを提供する。
【解決手段】基板ヒータ１は、ウエハＷを載置するヒータプレート２と、ヒータプレート２の下面に設けられたヒータ電極３と、ヒータプレート２と等しい熱伝導率を有する緩衝プレート４と、冷却プレート５と、複数のピストン６とを備える。緩衝プレート４とヒータプレート２とは、その間に間隔ｄ１の第１の空間Ｓ１を画成している。また、冷却プレート５は、緩衝プレート４を支持する複数のシャフト４２に、昇降自在に組み付けられている。ピストンロッド６１は、冷却プレート５を緩衝プレート４の下方に位置させて、間隔ｄ２の第２の空間Ｓ２を緩衝プレート４と冷却プレート５との間に形成する。また、ピストン６は、冷却プレート５を上昇させて、緩衝プレート４に接触させる。 （もっと読む）

【課題】抵抗体とこれを覆う絶縁被覆層とをスクリーン印刷によって形成した場合において、抵抗体の抵抗値が上昇する問題を解消した面状発熱体を提供する。
【解決手段】導電性粒子を含んだインクを用いて、スクリーン印刷によって基材１上に形成された抵抗体３と、耐熱性の樹脂を含んだインクを用いて、スクリーン印刷によって抵抗体を覆うように形成された絶縁被覆層４とを有した面状発熱体であって、前記抵抗体は、少なくとも、絶縁被覆層と接し、かつ、厚み方向の表層部が、カーボン粒子を含んだインクによって形成されていることを特徴とする面状発熱体である。 （もっと読む）

【課題】材料起因によるパーティクル汚染をほぼ完全に防止することができるワーク保持装置及びそのエンボス形成方法を提供する。
【解決手段】真空チャック１は、ベース２上に吸着部３を設けた構成である。ベース２は、アルミニュウム製の本体部２１と軸部２２とを備える。吸着部３は、エンボス２３と外周壁部２４とを樹脂フィルム４で覆った構造である。具体的には、樹脂フィルム４によって、本体部２１の表面２１ａに突出したエンボス２３と外周壁部２４とを覆い、樹脂フィルム４を、エンボス２３と外周壁部２４との形状に沿って密着させ、接着樹脂シート５を介してこれらに接着した。 （もっと読む）

【課題】従来の高電圧発生装置と比較して入力電力が非常に小さくて済む静電チャック用の高電圧発生装置を提供する。
【解決手段】低電圧電源２によって駆動される発振回路３から出力される高周波信号を増幅するとともに、高周波トランスを用いて高電圧を発生させる高電圧発生回路１２１と、高電圧発生回路によって発生された高電圧を整流しつつ昇圧する昇圧整流回路１２２、１２３と、昇圧整流回路１２２、１２３によって整流しつつ昇圧された高電圧が印加されるとともに放電抵抗Ｒ６、Ｒ７が並列に接続された容量性負荷としての静電チャック２２と、起動時は、発振回路３を低電圧電源によって直接駆動するとともに、起動時から予め定められた時間が経過した後は、発振回路３を静電チャック２２の静電容量及び放電抵抗Ｒ６、Ｒ７の抵抗値で決定される時定数よりも短い周期で間欠的に駆動するように制御する制御回路１１０と、を備える。 （もっと読む）

【課題】シリコン接着剤に対するプラズマ浸食をほぼ完全に防止することができる構造にして、ウェハ等のワークに対する支障のない円滑なプラズマ処理作業を可能にした静電チャック及びその製造方法を提供する。
【解決手段】静電チャック１は、ベース２とセラミックプレート３と接着部４とを備える。接着部４は、シリコン接着剤４１とエポキシ接着剤４２とポリイミドフィルム４３とで構成される。具体的には、シリコン接着剤４１は台座部２０の表面２０ａに塗布され、台座部２０の段部２０ｂとセラミックプレート３の周縁部下面とで構成される広い間隙４０内に、エポキシ接着剤４２とポリイミドフィルム４３とが装着されている。これにより、接着部４は、シリコン接着剤４１の外周面をエポキシ接着剤４２で覆い、エポキシ接着剤４２の外周面をポリイミドフィルム４３で覆った構造になっている。 （もっと読む）

【課題】 縦方向に２層の電極構成を有する静電チャックにおいて、吸着時にその吸着面側の電極層の開口部上部にできる吸着面の凹部と被吸着基板の間に溜まるであろう空気等のガスをその吸着面以外のところへ逃がす構造を設け真空排気に要する時間を改善し、又予期せぬ放電発生を防止する。
【解決手段】 吸着面に溝を施し、その溝が前記吸着電極層の開口部分上部の領域を連接し、前記吸着面の前記吸着面の周辺部又は一つ若しくは複数の定められた箇所へ延長することを特徴とする静電チャックとする。 （もっと読む）

【課題】パーティクルの発生もなく、しかも、装置の寿命を縮めることなく残留電荷と絶縁破壊との防止を図ることができるワーク保持装置を提供する。
【解決手段】ワーク保持装置１は、ウエハＷを吸着して保持するチャックであり、ベース２と吸着フィルム３とを備える。ベース２には、冷却水路２０やリフトピン２１が設けられている。吸着フィルム３は、接着剤４を介して、ベース２の表面２ａに貼り付けられている。かかる吸着フィルム３は、ウエハＷが接触した際に、ウエハＷをファンデルワールス力で吸着することができる表面構造と柔軟性とを有している。好ましくは、吸着フィルム３をシリコーンゴムで形成する。 （もっと読む）

【課題】半導体ウエハ等の保持面から剥がれ易く且つ低コストで製造することができ、しかもパーティクル吸着性能が高いクリーニングウエハを提供する。
【解決手段】クリーニングウエハ１は、基板２と吸着フィルム３とを備える。基板２は、半導体ウエハ等に対応した円板体であり、反りが発生し難いポリカーボネートを使用する。吸着フィルム３は、接着剤４を介して、基板２の表面２ａのほぼ全面に貼り付けられている。かかる吸着フィルム３は、保持面に接触させた際に、保持面上のパーティクルをファンデルワールス力で吸着することができる表面構造と柔軟性とを有している。好ましくは、吸着フィルム３をシリコーンゴムで形成する。 （もっと読む）