説明

アグファ・ゲヴェルト・ナームロゼ・ベンノートチャップにより出願された特許

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【課題】
放射線像燐光体又はシンチレータパネルにおいて支持体層と貯蔵燐光体又はシンチレータ層の間の許容可能な接着性及び低い腐食性を達成する。
【解決手段】
陽極酸化層を有するアルミニウム層であってクロムが前記アルミニウム層及び/又は前記陽極酸化層に存在するもの、及び保護被覆でカバーされた、上部に針状燐光体又はシンチレータ結晶を含む蒸着燐光体又はシンチレータ層を連続層の層配置として含む放射線像燐光体又はシンチレータパネルにおいて、前記陽極酸化層が少なくとも0.001の陽極酸化層厚さtに対する平均表面粗さRaの比率を有し、Raが0.01μmから0.30μm未満の範囲にあり、前記陽極酸化層が1μmから10μmまでの範囲の厚さを有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】セシウムユウロピウムハロゲン化物プリカーサーの合成において、望ましくない副反応生成物としてEuOXの形のユウロピウムオキシハライドの生成を減らす方法を提供する。
【解決手段】ユウロピウムをドープされたセシウムハロゲン化物光刺激性燐光体の製造に使用するために好適なプリカーサ化合物の製造方法において、工程の少なくとも一つが本質的にアンモニウムハロゲン化物塩を使用する。均質化工程においてセシウムハロゲン化物塩を三価ユウロピウムハロゲン化物塩と混合し、続いてその溶液を真空蒸発下で乾燥して粉末組成物を形成する工程に加えて、続く工程が本質的にアンモニウムハロゲン化物塩を使用し、そこでは前記粉末組成物の混合が前記混合物の加熱前に、前記プリカーサ化合物の冷却前に専用の雰囲気で専用の温度プロファイルに従って、アンモニウムハロゲン化物塩の過剰で行われることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】
スピード及び像品質を劣化させずに安定性を有する結合剤のない針状貯蔵燐光体パネルを提供する。
【解決手段】
蒸着装置において一つ以上のるつぼ及び/又はるつぼユニットからマトリックス及び/又は活性化剤成分の燐光体プリカーサ原材料を蒸着することによって支持体上に被覆された燐光体層を有する貯蔵燐光体パネルの湿度安定性を増大する方法であって、蒸着の終了後に追加の過剰アニール工程が実施され、前記「過剰アニール」工程が「参照アニール時間(4時間)」を越える時間にわたって「参照アニール温度(170℃)」を越える温度でアニールすることによって行なわれる。 (もっと読む)


【課題】
蒸着工程による貯蔵燐光体プレートの製造方法において燐光体のスピードを最適化する。
【解決手段】
マトリックス成分及び活性化剤成分又はそのプリカーサ成分を燐光体プリカーサ原材料として加熱することによって及び/又はるつぼユニットから蒸着することによって支持体上に貯蔵燐光体層を作る方法であって、前記プリカーサ原材料をるつぼにおいて液体形態で加熱する工程が温度Tまで行なわれ、前記プリカーサ原材料を前記煙突において蒸発された形態で加熱する工程が温度Tまで行なわれる方法において、正の温度差[T−T]が維持されることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】
結合剤のない針状貯蔵燐光体パネルにおいて、良好な内部湿分耐性を有するものを提供する。
【解決手段】
蒸着装置のるつぼユニットからマトリックス成分、活性化剤成分及び/又はそれらの組み合わせを含む燐光体プリカーサ原材料を蒸着することによって専用の支持体上に被覆された燐光体層を有する貯蔵燐光体パネルの製造方法であって、前記方法が(1)前記プリカーサ原材料をるつぼユニットに加え、そして(2)前記燐光体プリカーサ原材料から燐光体層を蒸着し、蒸着がるつぼユニットにおいて高い温度で行なわれ、前記温度が前記マトリックス原材料の溶融温度を70℃より多く越える、工程を含み、前記燐光体層の「活性化剤被覆重量数」が少なくとも7000の値に達する。 (もっと読む)


【課題】点欠陥又は引っ掻き傷に対して敏感でなく、低いスクリーン−構造ノイズに導くトップコートを有するマンモグラフィスクリーンを提供する。
【解決手段】支持体上に貯蔵燐光体層及び最外トップコート層を含む光刺激性貯蔵燐光体スクリーン又はパネルにおいて、前記最外トップコート層が、前記トップコートのプロファイルピーク及び谷に従ってパーソメータによって測定されたピーク間の平均間隔Sが150μm未満であるような粗さプロファイルを有す。前記Sは、トップコートのプロファイルピーク及び谷によって交差される、平均線の一つの粗さプロファイルの周期的交差にわたって、平均線の下方交差と、続く前記平均線の次の下方交差までの上方交差によって規定されるもので、粗さプロファイルの周期的交差間の間隔の平均距離として計算される。DQErelはスクリーン構造ノイズの指標で、高い値が、低いスクリーン構造ノイズに相当する。 (もっと読む)


【課題】
小さな量のスクリーン−構造ノイズに導くマンモグラフィスクリーンを提供する。
【解決手段】
結合剤に分散された貯蔵燐光体粒子を含む光刺激性貯蔵燐光体スクリーンであって、前記粒子が15μm以下のd99を有する粒子サイズ分布を有し、前記d99が粒子サイズ限界を表わし、それより上に1重量%以下の燐光体粉末粒子が前記燐光体粉末に存在する場合において、その構造ノイズパラメータDQE2relが0.70の値を越え、d99(μmで表示)対DQE2relの比が25:1以下であり、DQE2relが式DQE2rel=DQE2(22mR)/DQE2(3mR)で表わされるように22mRの線量のDQE2と3mRの線量のDQE2の比であり、それが空間周波数範囲全体おけるスクリーン−構造ノイズの量を代表する。 (もっと読む)


【課題】一つの同じ蒸着装置による蒸着工程において、少なくとも5個の貯蔵燐光体プレートの一組を連続的に製造する。
【解決手段】それぞれの蒸着を開始する前に、耐火材料表面がそのるつぼユニットにおいてマトリックス成分及び活性化剤成分、燐光体プリカーサ成分又はマトリックス、活性化剤及びプリカーサ成分の組み合わせの液化原材料との接触にもたらされる。前記組の貯蔵燐光体プレート内の一つのプレートから別のプレートまでのスピードの偏差を15%未満にする。前記組の前記プレートの各々の製造における蒸着開始前に、前記るつぼユニットに、粉末、結晶質粒子、非晶質粒子、球体、バー、スティック、インゴット及び巻体又はそれらの組み合わせからなる群から選択される耐火粒子を加えて、耐火表面を回復する。 (もっと読む)


【課題】刺激光に対して改良されたスピード及び改良された応答を示す光刺激性又は貯蔵燐光体を提供する。
【解決手段】針状貯蔵又は光刺激性燐光体を含む貯蔵燐光体シート、プレート又はパネルにおいて、前記針状燐光体はホスト又はマトリックス化合物及び前記ホスト又はマトリックス化合物に対して0.01mol%未満の量のドーパント又はアクチベータ化合物又は要素を含み、前記針状燐光体はさらに、10−3μm〜10μmの範囲のサイズを有する粒子を含有物又は沈殿物として含み、前記粒子は前記パネルに強誘電性を与える強誘電性粒子として存在する。 (もっと読む)


【課題】刺激光に対して改良されたスピード及び応答を有する光刺激性又は貯蔵燐光体の製造方法を提供する。
【解決手段】ホスト又はマトリックス化合物及びドーパント又はアクチベ−タ化合物又は要素から構成される燐光体を含む刺激性燐光体層を製造するための方法であって、10−3μm〜10μmの範囲のサイズを有する沈殿物又は含有物がホスト、ドーパント及び沈殿物のためのプリカーサ化合物を含有する一つ以上のるつぼを準備し、気化された潜燐光体クラウドとしてプリカーサ化合物の全ての蒸発を起こす温度までるつぼの温度を増大し、気化された潜燐光体クラウドを層の形で温度制御された支持体上に蒸着し、支持体を冷却し、さらに燐光体層を35℃〜200℃の範囲の温度でアニールする方法。 (もっと読む)


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