【課題】装置本体の軽量化に貢献することができると共に強度の確保を実現することができる浮上搬送装置を提供する。
【解決手段】装置本体に複数配置されたノズル部材２２に形成されたノズル２２ｄの各先端から噴射された圧力気体によって板状の被搬送体を浮上させつつ所定方向に搬送すると共に、ハニカム状に構成された天板３１に臨むノズル部材２２を水平面内で回転可能な円柱体から構成した。 （もっと読む）

【課題】ロボットアーム等を用いず、浮上搬送のみでワークを受け渡すことでワークへの傷付きを防止でき、ワークの大型化や薄型化に容易に対応することができる浮上搬送装置を提供する。
【解決手段】圧力気体の噴射でワークを浮上搬送する搬送経路面よりも下方に配置したワーク処理ステージ３００の上方に出没可能な櫛歯状のスライド噴射台４０３を配置し、ワーク処理ステージ３００にはスライド噴射台４０３の隙間から上方向に圧力気体を噴射する噴射部を設け、スライド噴射台４０３がワーク処理ステージ３００上に位置した状態でワークを浮上させたまま受け取り、次に退避してワークＷをワーク処理ステージ３００へと受け渡し、ワーク処理ステージ３００での処理が終了した際には噴射部によりワークＷを搬送面よりも上方へと浮上させた後に再びスライド噴射台４０３がワーク処理ステージ３００上に位置し、ワークを浮上状態で受け取り、搬送経路へと受け渡す。 （もっと読む）

【課題】ワークは搬送方向（水平方向）とは直交する設置スペース等の制約の少ない上下方向に離間した状態で同軸上に複数保持することができ、大量のワークを同時期に処理することができるワーク処理装置を提供する。
【解決手段】ワークＷを離間状態で上下に多重支持するロット１３を内装し且つその多重支持状態でワーク処理を行うワーク処理部１０と、ワーク処理部１０の上方又は下方に接続されたワーク導入部２０と、ワーク処理部１０の下方又は上方に接続されたワーク排出部３０とを備え、ワーク導入部２０及びワーク排出部３０に設けられた導入口２２及び排出口３２に大気側との連通状態を遮断するシャッタ部材２３，３３が設けられている。 （もっと読む）

【課題】ワークの搬送経路を長く確保することができ、搬送経路の設計並びにワーク処理ステージの配置スペースを容易に確保することができる浮上搬送システムを提供する。
【解決手段】所定方向に圧力気体を噴射して板状のワークＷを浮上搬送する浮上搬送ステージ２０２，２０３を上下複数段備えたワーク浮上搬送ユニット２００が複数隣接設置されて所定の搬送経路が形成されると共に、複数のワーク浮上搬送ユニット２００に隣接してワーク処理ステージ３００，４００，５００及びワークＷの上下搬送の引き継ぎのためのワーク昇降ステージ６００が設けられている。 （もっと読む）

【課題】ワーク受け渡し用の接触式搬送ロボットアームを用いることなく、一連の製造工程における搬送経路上もしくは搬送経路に隣接して表面処理工程を行うことができるスリットコータを提供する。
【解決手段】ワークＷの搬送経路の一部を構成する浮上搬送部兼表面処理部としての浮上搬送フレーム１０２にワークＷが直接搬送されるため、ワークＷの受け渡し用の接触式搬送ロボットアームを用いることなく、一連の製造工程における搬送経路上もしくは搬送経路に隣接して表面処理工程を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】MOCVD膜堆積装置に用いられる気化装置は、複数のガス通路が上方向からガスを導入する構造であったため、噴出ノズルの位置合わせが困難で、気化部に噴出する原料溶液を混合したキャリアガスの圧力と流量を正確に制御できず、MOCVD膜の組成の高精度制御が困難であった。
【解決手段】複数のガス通路を平面円盤型基板上に配置することにした。噴出ノズルの正確な位置合わせが容易になり、MOCVD膜の組成を高い精度で制御できるようになった。 （もっと読む）

【目的】 本発明は上記の状況に鑑みてなされたもので、窒化ホウ素膜を用いて
表面保護および表面不活性化を実現できる半導体表面処理、成膜方法およびその
表面保護技術や表面下活性化技術を用いて作製した高性能半導体装置並びに半導
体装置を含む通信システムの電子装置を提供することを目的とする。
【解決手段】少なくともホウ素及び窒素原子を含むことを特徴とする膜を有する
ことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】総菌数および特定の食中毒菌を迅速、高感度に、しかも簡単に測定できるバイオセンサを提供すること。
【解決手段】異なる種類のイオン交換繊維膜を組み合わせることによって、濃縮、細胞壁溶解、選択性を得ることができる簡易バイオセンサーに関するものである。また、選択性を高める上で、電気泳動法を用いて分離精度を向上する構造についても提案する。したがって、従来のように培養に時間を要したり、高額な分析機器を必要とせず、携帯できるサイズのセンサを提供できる。 （もっと読む）

【課題】 気化器の噴出口近傍の周囲に薄膜原料が付着する現象を排除したＭＯＣＶＤ用気化器を得る。
【解決手段】 キャリアガス＋少量酸化ガス供給部１１が内部に形成されたガス通路を介して供給される原料溶液を含むキャリアガスを気化部へ供給し、気泡防止＋原料溶液供給部１２が原料溶液を含むキャリアガスの気泡の発生を防止させる原料とその原料溶液とをキャリアガスへ供給し、溶媒の気化抑制冷却システム１３が溶媒の気化を抑制し、渦流防止用ガス供給部１４が気化部のガス出口近傍において渦流の発生を防止させるためのガスを供給する。微細噴霧化部１５は気化器２０から噴出される原料溶液を含むキャリアガスを微細な噴霧状態に形成させ、完全気化用高性能気化菅１６は気化器２０から噴出される原料溶液を含むキャリアガスを完全に気化する。これによれば、目詰まりなどを起こすことがなく長期使用が可能であり、かつ、反応部への安定的な原料供給が可能となる。 （もっと読む）

【課題】良好な残留分極特性が得られる最適な組成を有し、かつ信頼性の高いビスマス系層状結晶構造を有する強誘電体薄膜を制御性・再現性良く形成する事ができる。
【解決手段】層状結晶構造であり、組成式を、ＳｒＢｉ_ｙＴａ_２Ｏ_９±ｄもしくはＳｒ_ｘＢｉ_ｙ（Ｔａ，Ｎｂ）_２Ｏ_９±ｄ（但し、０．６０≦ｘ＜１．００、２．００＜ｙ≦２．５０、０≦ｄ≦１．００）とすることを特徴とする強誘電体薄膜。カーボン含有量は３０〜４０ａｔ％の５〜２０％であることを特徴とする。 （もっと読む）