【課題】偏光モード結合の量と偏光モード分散とを減らすと共に偏光保持能を増加させたファイバを提供すること、及び大きな外側クラッドがファイバコア内モード結合の減少を確実にしながらポンプ光が内側クラッド内を導波されるような偏光保持大外径の高効率ファイバ増幅器あるいはレーザを提供する。
【解決手段】ファイバコアと、このコアを囲む第１クラッドと、この第１クラッドを囲む被覆と、１２５μｍ以上の最小ファイバ外径をもつファイバに結合する偏光モード結合を最小にする手段とを有する。 （もっと読む）

【課題】繰り返し周波数が可変の複数の超短光パルスを備えるパルスレーザビームを生じさせるレーザ光源を提供する。
【解決手段】このレーザ光源は、光パルスを出力するファイバ発振器と、光パルスを受け取るために配置されるパルスストレッチャとを備える。光パルスは光パルス幅を有する。パルスストレッチャは、光パルス幅を拡大し、引き伸ばされた光パルスを生じさせる分散を有する。レーザ光源は、引き伸ばされた光パルスを受け取るように配置されるファイバ増幅器を更に含む。ファイバ光増幅器は、引き伸ばされた光パルスを増幅するための利得を有する。レーザ光源は、光パルス幅を減少させる分散を有する自動的に調整可能なグレーティングコンプレッサを含む。グレーティングコンプレッサは、異なった繰り返し周波数についてこの分散を自動的に調整する。 （もっと読む）

【課題】 フェムト秒台の高出力光パルスを発生させる手段を提供すること。
【解決手段】 本発明の高出力光パルスの発生装置は、信号光を生成するファイバー発振器１０と、非線形位相遅れをもち信号光を受光して増幅するとともに圧縮するソリトン・ラマン圧縮器（ＳＲＣ）を兼ねた増幅ファイバー１１と、増幅された光パルスを周波数変換して高出力光パルスとする周波数変換器であるＰＰＬＮ（周期性ポーリングＬｉＮｂＯ₃）２０とを有する。分散補償ファイバー１８により分散が補償される。また、ファラデー回転鏡（ＦＲＭ）１９により光パルスが反射されてダブルパス形態を取っている。ポンプ１６から注入されるポンプ光からのエネルギーを得て、信号光は増幅されるとともに圧縮され、ＰＰＬＮ周波数変換器２０により周波数変換された波長で、フェムト秒台の高出力光パルスが得られる。 （もっと読む）

【課題】振動や空気の乱れ、温度変化などの環境条件の変動により生じるタイミングジッターを最小限に低減する短パルスファイバーレーザーの安定化法を提供する。
【解決手段】ファイバーレーザー２１０，２２０を外部環境から隔離する隔離ステップと、該ファイバーレーザー２１０，２２０をファイバースプール２８０に巻き付ける巻き付けステップと、該ファイバーレーザー２１０，２２０が該ファイバースプール２８０に巻き付けられたままで該ファイバーレーザー２１０，２２０を動作させる動作ステップとを有する。ファイバーレーザー２１０，２２０がファイバースプール２８０に巻き付けられ、外部環境から隔離されるので、環境条件の変動の影響を受けることがなく安定化される。 （もっと読む）

【課題】大口径コアおよび／または高いドーピングを可能にするガラスを提供すること。
【解決手段】本明細書に記載の様々な実施形態には、コア・サイズの大きい光ファイバおよびロッドで使用されてもよい、希土類がドープされたガラス組成物が含まれる。このような光ファイバおよびロッドは、ファイバ・レーザおよびファイバ増幅器で使用されてもよい。ガラスの屈折率は、実質上均一でもよく、実施形態によってはシリカの屈折率に近くてもよい。これらの特徴に対する実現可能な利点には、コア内での追加導波路の形成を低減させることが含まれ、コア・サイズが大きくなるにつれて、ますます問題になる。 （もっと読む）

【課題】 透明材料をスクライビングないし溶接する方法を提供する。
【解決手段】透明材料をスクライブするため、材料を横切るレーザビームのシングルパスで多重スクライブ造作を創るために、超短レーザパルスを使用し、該スクライブ造作の少なくとも一つは材料の表面下に形成され、クリーンな割断を可能にする。透明材料を溶接するための方法は、局在化された加熱を通して接合を創り出すために、超短レーザパルスを使用する。超短パルス持続時間は、レーザ放射の非線形吸収を起こし、レーザの高繰り返し率は、材料内に熱のパルスからパルスへの蓄積を起こす。レーザは材料の界面近くに集光され、溶接されるための領域に高エネルギーフルーエンスを生成し、材料の残部への損傷を最小化し、きれいな溶接線を可能にする。 （もっと読む）

【課題】 小型低廉な１００ｍＷ〜１０Ｗの高出力チャープパルス増幅装置と、同装置に好適なコンプレッサーとを提供すること。
【解決手段】 伸長されたパルス光である伸長パルスを発生させる発生源１０と、該伸長パルスを増幅する出力増幅段２０と、該伸長パルスを出力増幅段２０から受け取り圧縮するコンプレッサー４０とを備えており、出力増幅段２０には二重クラッドファイバーおよびポンプを有し、超短パルスを発生する高出力チャープパルス増幅装置。コンプレッサー４０には、レーザーパルス信号を非線形効果の閾値未満の持続時間に圧縮するファイバー格子とパルス信号をさらに圧縮するためにファイバー格子で圧縮された前記パルス信号を受け入れる回折格子とを備えていることが好ましい。クラッドポンプファイバーのチャープパルス増幅作用で、小型低廉でありながら高出力のチャープパルス増幅ができる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、固体ターゲット材料の超高速パルスレーザ融除を利用して、選択したサイズのナノ粒子を生成し、これを基板表面上に堆積させるためのワンステップ工程を提供する。
【解決手段】このシステムはパルスレーザ、光学系、及び真空室を含む。パルスレーザは数フェムト秒から数十ピコ秒までの多様なパルス時間を有する。光学系は、ビームを適切な平均エネルギー密度および適切なエネルギー密度分布にてターゲット表面上に集束できるようにレーザビームを成形する。真空室の内部にはターゲットと基板が設置され、バックグラウンドガスとその圧力が適切に調整される。 （もっと読む）

【課題】高次モードの伝搬を制限し、低次モードを伝搬させる光ファイバを提供する。
【解決手段】大コアマルチモード光ファイバのような光導波路を有する。このマルチモード光ファイバはコアとクラッド領域を有する。この光ファイバは複数の穴を持つマトリックス材料を含み、複数の穴はクラッド領域にあり、コア領域の境界を与える。前記マトリックスはシリカガラスを含み、穴は空気でもよい。穴あきロッドを含む。該ロッドと光ファイバは、光増幅システム、レーザ、短パルス発生器、Ｑスイッチレーザ等の多くの光システム使用される。 （もっと読む）

【課題】ｐ型の半導体酸化亜鉛（ＺｎＯ）膜と、この膜の製造方法を提供する。
【解決手段】パルスレーザ堆積法（ＰＬＤ）を使用してｐ型ＺｎＯ材料を成膜させる。この方法では、ＬｉとＰの両方を含有する化合物とＺｎＯとの混合物からなる固体ターゲット上にパルスレーザビームを集光させる。集光されたレーザパルスの高いパワー密度により、ターゲット表面上の材料が融除されてプラズマが形成され、これが基板表面上に堆積する。また、パルスレーザ源を含んだ透明な基板と、パルスレーザの波長に対し透明である基板と、マルチターゲットシステムとを使用するパルスレーザ成膜プロセスについて説明する。パルスレーザの光路は、パルスレーザが基板の裏から入射して基板を通過し、ターゲット上に集光するように配置されている。基板をターゲットに向かって並進運動させ、アブレーションプルームのルートを利用した微細パターンの付着が可能になる。 （もっと読む）