説明

ハンファ ケミカル コーポレーションにより出願された特許

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本発明は、浅いトレンチ素子分離用の化学・機械的な研磨スラリーに係り、さらに詳しくは、脱イオン水、研磨粒子、研磨粒子分散剤により構成された研磨剤水溶液と、カルボン酸ポリマー系の化合物、含窒素有機環状化合物、アミン系の化合物により構成された添加剤水溶液と、からなる浅いトレンチ素子分離用の化学・機械的な研磨スラリーに関する。本発明においては、除去選択比を高めるために、アクリル酸ポリマー系の化合物に含窒素有機環状化合物を加えて窒化膜の研磨速度を格段に遅らせ、しかも、シリコン酸化膜の水化加速剤としてのアミン系の化合物を加えてシリコン酸化膜の除去速度を高めており、これにより、高選択比の化学・機械的な研磨スラリーが得られる。 (もっと読む)


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