【課題】内層中の気泡ができるだけ少ない石英ルツボの製造方法を提供する。
【解決手段】石英ルツボが、内部のシリカ粒子１６を介して周囲雰囲気を引き出すことができる形式のモールドキャビティにおいて製造される。シリカ粒子１６の層がモールドキャビティ内に形成され、ヘリウム、窒素、水素又はそれらの混合物を含み得るガスがモールドキャビティに導入される。シリカ粒子１６の層は、シリカ粒子１６を介して周囲雰囲気を実質的に引き出すことなく加熱される。その後、シリカ粒子１６の層の少なくとも一部がシリカ粒子１６を介して周囲雰囲気を引き出しながら溶融される。ガスがモールドキャビティ内の空気を追い出すことで、窒素酸化物及びオゾンを低減させる。 （もっと読む）

公知の方法では、石英ガラス製の基体上に、ＳｉＯ_２スラリーを噴霧することによりＳｉＯ_２含有スラリー層を塗布し、このスラリー層を乾燥させて、焼結させてＳｉＯ_２含有機能層にする。ドーム状の表面又は垂直方向に傾斜している表面の場合でも、層の均一性に関して高い要件を満足する厚い層厚さを有する石英ガラス製の機能層を再現可能に製造するために、本発明の提案によれば、スラリーは、分散液中に、以下の成分を含有する、すなわち、粒度分布のＤ_５０値範囲が、３μｍ〜３０μｍであり、全固体含量に対する重量割合が少なくとも１０重量％である破砕状非晶質ＳｉＯ_２粒と、粒径分布のＤ_５０値範囲が、１μｍ〜５０μｍであり、全固体含量に対する重量割合が少なくとも３０重量％である球状非晶質ＳｉＯ_２粒子と、粒径１００ｎｍ未満で、全固体含量に対する重量割合の範囲が０．２重量％〜１０重量％であるＳｉＯ_２ナノ粒子と、分散液の体積に対する割合の範囲が０．００５％〜０．５％の非イオン性で無アルカリの界面活性剤とを含有する。 （もっと読む）

一定の外面形状を有し、反射コーティングが設けられるように意図され、かつミラー基板を意図されるように使用する際に高い負荷を受ける帯域として規定される、表面区域（surface region）を有する、ＥＵＶリソグラフィに使用されるミラー基板用の、高シリカ含有量を有するチタンドープガラス（ガラス）のブランクを製造する既知の方法に基づき、低コストで製造することができるにもかかわらず、均一性並びにブリスタ及び脈理がないことについて高い要件を満たすブランクを提供するために、（ａ）外面形状を包含するのに十分な大きさよりも大きい寸法を有するチタンをドープした高品質のガラスの前部体を作製する方法工程と、（ｂ）チタンドープガラスから円筒形の支持用基体（supporting body）を作製する方法工程と、（ｃ）前部体と支持用基体とを結合させる方法工程であって、複合体を形成する、前部体と支持用基体とを結合させる方法工程と、（ｄ）複合体を加工する方法工程であって、ミラー基板用ブランクを形成する、複合体を加工する方法工程とを含む手法が提案され、ここで、前部体を作製する工程は、ケイ素含有化合物の火炎加水分解によってストランドの形態で得られる出発用基体（starting body）をねじり加工して、前部体ブランクを形成することを伴う均一化プロセスを含み、支持用基体は、前部体よりも均一性の低い一体構造のガラスブロックとして形成される。 （もっと読む）

本発明は、低ドーパント濃度で、２５４ｎｍの動作放射線に対する少なくとも８０％／ｃｍの可能な限り高いスペクトル透過率、およそ２５０ｎｍ未満の波長範囲における可能な限り低い透過率及び２３０ｎｍ〜２５０ｎｍの波長範囲内の端波長λ_Cを示すドープ石英ガラス製の光学フィルタ材料に関する。２５０ｎｍ未満の波長範囲において吸収帯の極大を有し、したがって端波長λ_Cを決定するガリウム化合物を含むドーピングによりこの目的が達成されることが見出された。
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【課題】精度の良い内径および管壁の厚みを有する石英ガラス管を提供する。
【解決手段】２台のカメラ７，８を用いて、管状ストランド２の外側輪郭の第１の縦縁を示す第１の光学画像と、外側輪郭の第２の縦縁を示す第２の光学画像とを生成する。次にこれらの光学画像を、画像処理装置により第１の画像及び第２の画像内のそれぞれの縦縁１０，１１の相対位置の位置データが算出し、これらの位置データから、第１の画像と第２の画像との所定の空間関係を考慮して計算された管状ストランドの外径の実際値を使用して管の直径を制御する。 （もっと読む）

窒素でドープされた石英ガラスを製造する既知の方法において、ＳｉＯ₂粒の形態又は該ＳｉＯ₂粒から作製される多孔質半製品の形態でＳｉＯ₂ベース製品を準備し、該ＳｉＯ₂ベース製品を、窒素を含有する反応ガスを含有する雰囲気中で熱間プロセスにおいて、内部で窒素が化学結合した石英ガラスへと加工する。この出発点から、可能な限り高い割合の化学結合した窒素となる石英ガラスへの窒素ドーピングを達成する方法が提供される。この目的は、窒素を含有する反応ガスとして酸化窒素を使用し且つ熱間プロセスにおいて酸素欠乏型欠陥濃度が少なくとも２×１０¹⁵ｃｍ^-3であるＳｉＯ₂ベース製品を使用し、ＳｉＯ₂ベース製品が、２００ｎｍ〜３００μｍの範囲の平均粒径（Ｄ₅₀値）を有するＳｉＯ₂粒子を含む本発明により達成される。
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【課題】無転移シリコン単結晶の引上げの際に、るつぼ内壁からの不純物の放出を最小限にして、高歩留りで無転移シリコン単結晶の引上げを可能とする石英ガラスるつぼの製造方法を提供する。
【解決手段】壁体と、壁体の内側と外側を連通するように壁体に設けられた開口通路８とを有する溶融型１を提供する工程と、第１の粗大なＳｉＯ_２微粒子から構成される外側層微粒子体を提供し、外側層微粒子体からなる外側微粒子層１２を溶融型１の壁体の内面に形成する工程と、第２の微細なＳｉＯ_２微粒子から構成されるバリア層微粒子体を提供し、バリア層微粒子体からなるバリア微粒子層１６を外側微粒子層１２の内面に形成する工程と、溶融型１の壁体の外側に負圧を適用する工程と、透明な内側層を有する石英ガラスるつぼを形成するためバリア微粒子層１６及び外側微粒子層１２を加熱する工程と、を含む。 （もっと読む）

本発明は、ＳｉＯ₂内層顆粒が、軽ガスを含有する雰囲気中でプラズマの作用下で、遮熱材（２）によって少なくとも部分的に覆われた回転する溶融モールド（１）内でガラス化されて透明内層が得られ、軽ガスの少なくとも一部が、遮熱材のガス入口（８、９）を通して溶融モールド（１）に供給される石英ガラスるつぼの製造方法から始まる。エネルギー及び材料に関して最小限の労力で、気泡含有量が特に少ない内層を形成するために、ガラス化工程に先立つ層形成工程において、ＳｉＯ₂内層顆粒の顆粒層（１４）が内壁上に形成され、プラズマ領域（１３）とガス入口（８、９）を有する遮熱材（２）とが、少なくとも回転軸に垂直な方向に可動であり且つ顆粒層（１４）をガラス化するようにガラス化工程中に顆粒層（１４）の方向に横方向に移動することが提案される。
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【課題】石英ガラス出発シリンダから石英ガラス管を製造する非常に生産的な方法を提示する。
【解決手段】第１の成形ステップでは、出発シリンダが、第１の加熱ゾーン温度を有する加熱ゾーンの前方加熱ゾーン部分内で、所定の壁厚を有する内部にキャビティを含む一時的なアプセット形状を形成しながら、長手方向軸線と同軸上に配置されている穿孔器によって連続的にアプセットされる。第２の成形ステップでは、アプセット形状が、第２の加熱ゾーン温度を有する加熱ゾーンの後方加熱ゾーン部分内で、キャビティ内に内部過剰圧力を加えることによって成形器具の方に吹き付けられ、石英ガラス管を形成しながら長手方向軸線の方向に連続的に引き出される。 （もっと読む）

【課題】コンパクション及び中央の複屈折に関して最適化された合成石英ガラスの光学部材を提供する。
【解決手段】石英ガラスブランクに、下記工程を含む多段階アニール処理を施す。（ａ）１１３０℃〜１２４０℃の高温度範囲で処理される第１の処理段階工程、（ｂ）第１の（高速）平均冷却速度で１１００℃未満の急冷温度まで石英ガラスブランクを冷却させる工程であって、１１００℃以上の高平均値を有する仮想温度が石英ガラス中で達成される、冷却させる工程、（ｃ）第２の（低速）平均冷却速度で石英ガラスブランクを冷却させることを含む第２の処理段階工程であって、石英ガラスブランクが、９５０℃〜１１００℃の低温度範囲で処理されることにより、工程（ｂ）に記載の仮想温度の高平均値よりも少なくとも５０℃低い低平均値を有する仮想温度が石英ガラス中で達成される、第２の処理段階工程。 （もっと読む）