【課題】研磨パッドのクッション層へのスラリの含浸を、高度な耐久性と信頼性をもって防止することが出来る新規な防浸構造を実現し得る研磨パッド用補助板を提供すること。
【解決手段】回転定盤１４に対して着脱可能とされた補助板本体２０に対して、研磨層３６の裏側にクッション層３８が設けられた研磨パッド１６が補助板本体２０の上面中央部分に設けられたパッド装着凹所３２の表面２４に重ね合わされて固着されると共に、クッション層３８の外周面を覆ってクッション層３８へのスラリーの含浸を防止する外周防浸手段が補助板本体２０によって形成され、更にパッド装着凹所３２の周壁内面４４とクッション層３８との径方向対向面間の隙間の上方への開口部分を封止する封止材６２，６８が設けられている。 （もっと読む）

【課題】化学的機械研磨に際して研磨パッド表面の温度を速やかに且つ省エネルギー効率をもって昇温して適温に維持することができる、新規な構造の研磨パッド用補助板と研磨装置を提供すること。
【解決手段】研磨パッド１６を重ね合わせて固着状態で支持するパッド支持面を表面４０に有していると共に、裏面４２において回転定盤１４に重ね合わされて着脱可能に装着される装着面を有している研磨パッド用補助板１０において、通電により補助板本体３８（パッド支持面４０）を昇温して適温に維持する通電式温度制御手段５０を設けた。 （もっと読む）

【課題】回転定盤に対する研磨パッドの繰り返しの着脱を容易に且つ位置決め精度良く実現することが出来、且つ、各種仕様の研磨装置の回転定盤に対しても大幅な改造を必要とすることなく適用出来る、新規構造の研磨パッド用補助板の提供。
【解決手段】研磨装置１２の回転定盤１４に装着される研磨パッド用補助板１０を下側補助板２０と上側補助板２２で構成し、位置決め手段を上下補助板２２，２０間に設けた。これにより、補助板と回転定盤との間に位置決め手段を設けた従来構造のものに比して、研磨パッド１６の回転定盤１４への中心軸の位置決めを容易に且つ精度良く為し得ると共に、各種仕様の研磨装置の回転定盤１４にも広く適用可能な研磨パッド用補助板１０を実現せしめ得た。 （もっと読む）

【課題】ＣＭＰ装置において研磨中に摩擦によって発生する熱が研磨パッドから回転定盤に伝わるのを防止して、温度上昇に伴う研磨液と基板表面の化学作用の増進によって、研磨液の削減もしくは研磨レートの増大を可能にできる新規な構造のＣＭＰ装置を提供する。
【解決手段】断熱材で構成された回転定盤４上に、表面中央部分にＣＭＰ用研磨パッド１が固着されるパッド支持面が形成された補助板６を両面接着テープ７を介して載置することで、ＣＭＰ加工中に摩擦によって発生する熱がＣＭＰパッド１から前記回転定盤４に伝わることを防止する。 （もっと読む）

【課題】 回転定盤に対する研磨パッドの固着力を充分に確保しつつ、回転定盤に対する研磨パッドの着脱を容易に行うことを可能と為し、特に回転定盤から研磨パッドを取り外すに際しての研磨パッドの損傷を防止することが出来て、研磨パッドの再利用の実現に有利とされ得る、研磨パッド用補助板を用いて研磨パッドの再生利用を実現する新規な研磨パッドの再生方法を提供すること。
【解決手段】研磨パッド用補助板１０を用い、前記研磨パッド２４が使用によって磨耗した場合に、該研磨パッド用補助板１０に装着したままの状態で該研磨パッド２４の表面に再生加工を施す。 （もっと読む）

【課題】 回転定盤に対する研磨パッドの固着力を確保しつつ、回転定盤に対する研磨パッドの着脱を容易に行うことを可能と為し、特に回転定盤から研磨パッドを取り外すに際しての研磨パッドの損傷を防止することが出来る、新規な構造の研磨パッド用補助板を提供すること。
【解決手段】 回転定盤１２の上面に載置される補助板本体１４と、補助板本体１４の上面中央部分に設けられたパッド支持面１４ａと、補助板本体１４の外周縁部に形成されて回転定盤１２の外周に嵌め合わされる嵌合周壁部１８とを備えた研磨パッド用補助板。 （もっと読む）

【課題】 従来１回の使用で廃棄していた研磨用パッドを再使用さらには再生可能にする。
【解決手段】研磨用パッドの裏側にパッドに付いている両面テープを利用して補助板を取り付けて補助板付パッドとする。そして補助板を研磨機の定盤に両面テープ等で固定すれば、研磨機からパッドを取り外しても、パッドが曲がったり、折れたり、収縮したり、破れたりせず、再使用が可能となる。さらに取り外した使用済み補助板付パッドの表面を修正加工すれば、パッドを再生して繰り返し使用することが可能になる。 （もっと読む）

【課題】半導体ＣＭＰ加工に使用するパッドに機械加工により同心円状または碁盤目状の細溝を被削材の物性に応じた加工法を適宜選択して、静電付着なく切粉を排除して均整な溝形状を得ることができる細溝加工機械の提供。
【解決手段】発泡ウレタンパッドを吸着固定する鉛直軸回りでＣ軸制御される円テーブル１と、円テーブルを跨いでＸ軸制御するガントリ形コラム１１と、ガントリ形コラム上でＹ軸移動するサドルと、サドル上でＺ軸制御される刃物台１８，１９と、刃物台で工具交換可能な固定工具（旋削，切断）と回転工具ユニット（フライスカッタ，ドリル）とを設け、加工時に工具近傍に設けたイオンブローノズルの噴出流でパッド及び切粉の静電気を中和して切粉の排除を容易にする。 （もっと読む）

【課題】 ＣＭＰ法をはじめとする各種の高精度な研磨加工において採用され得る、新規な構造の研磨用パッドを提供すること。
【解決手段】 研磨用パッドの裏面２０において、周方向に延びる環状の裏面凹溝２２（３８）を形成する。 （もっと読む）

【課題】 曲率半径の小さい溝を、溝側面の加工面精度を十分に確保しつつ形成することが出来ることに加えて、溝の底面の加工面精度の更なる向上が図られ得ると共に、溝加工に際しての刃先の欠けが防止されて、工具寿命の向上が図られ得る、新規な構造のパッド溝加工用バイトを提供すること。
【解決手段】 前逃げ面１６において刃先から０．０５ｍｍ〜１．０ｍｍの高さ位置で刃幅方向に延びる屈曲線１８を設け、該屈曲線１８よりも刃先側の刃物角：θ１を２５°≦θ１≦７０°とすると共に、該屈曲線１８よりも基部側の刃物角：θ２をθ２＜θ１とした。 （もっと読む）