本発明は、照明光を短波長化しなくても、確実に繰り返しピッチの微細化に対応できる表面検査装置および表面検査方法の提供を目的とする。そのため、被検基板２０の表面に形成された繰り返しパターンを直線偏光Ｌ１により照明する手段１３と、表面における直線偏光Ｌ１の振動面の方向と繰り返しパターンの繰り返し方向との成す角度を斜めに設定する手段１１，１２と、繰り返しパターンから正反射方向に発生した光Ｌ２のうち、直線偏光Ｌ１の振動面に垂直な偏光成分Ｌ４を抽出する手段３８と、偏光成分Ｌ４の光強度に基づいて、繰り返しパターンの欠陥を検出する手段３９，１５とを備える。 （もっと読む）

放射散乱／反射要素の位置を判定するための方法及びシステムであって、放射透過性要素面で放射入射する面に放射エミッタが設けられる。この入射放射は散乱／反射要素により散乱／拡散／反射され、透過性要素により、この要素位置を判定できる検出器に向けてガイドされる。
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透過および反射型の空間ヘテロダイン干渉法（ＳＨＩＲＴ）測定のシステムおよび方法が記載される。方法は、第１の基準ビームおよび対象ビームを用いて、第１の空間的にヘテロダイン化されたホログラムをデジタル記録し、第２の基準ビームおよび対象ビームを用いて、第２の空間的にヘテロダイン化されたホログラムをデジタル記録する。また方法は、第１の解析されるイメージを規定するために、デジタル記録された第１の空間的にヘテロダイン化されたホログラムをフーリエ解析し、第２の解析されるイメージを規定するために、デジタル記録された第２の空間的にヘテロダイン化されたホログラムをフーリエ解析し、第１の結果を規定するために第１の解析されたイメージをデジタルフィルターし、第２の結果を規定するために第２の解析されたイメージをデジタルフィルターし、そして第１の結果に第１の逆フーリエ変換を施し、第２の結果に第２の逆フーリエ変換を施す。
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