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Fターム[2F065AA56]の内容

光学的手段による測長装置 (194,290) | 測定内容 (27,691) | 輪郭 (4,339) | 面内パターン (323)

Fターム[2F065AA56]に分類される特許

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【課題】高次局所自己相関特徴を用いて異常の有無と共にその位置を高い精度で検出できる高速かつ汎用的な異常領域検出装置を提供すること。
【解決手段】異常領域検出装置は、画像データから画素毎に高次局所自己相関によって特徴データを抽出する手段、画素毎に、その画素を含む所定の範囲の画素群について特徴データを加算する手段、正常領域を示す部分空間に対する特徴データの異常さを示す指標を計算する手段、指標に基づき異常判定する手段、異常と判定した画素位置を出力する手段とを備える。変位幅の異なる複数の高次局所自己相関特徴データを抽出してもよい。更に、特徴データから主成分分析手法により主成分ベクトルに基づく正常領域を示す部分空間を求める手段を備えていてもよい。画素対応に異常判定が可能であり、異常領域の位置を正確に検出可能である。 (もっと読む)


【課題】 アライメントマークの計測の高速度化を図りつつ、マーク位置を高精度に計測できるようにする。
【解決手段】 ウエハWを載置して移動するウエハステージWSと、ウエハステージWS上に載置されたウエハWに形成されたアライメントマークAM1〜9を検出するアライメントセンサAS1〜3と、アライメントマークAM1〜9をアライメントセンサAS1〜3で検出する際のウエハステージWSの移動方向であるY方向に沿って、ウエハステージWS上に配列的に設けられた複数のステージマークSM1R〜SM9R,SM1L〜SM9Lと、アライメントセンサAS1〜3がウエハマークAM1〜9を検出しているときに、ステージマークSM1R〜SM9R,SM1L〜SM9Lを検出するステージマークセンサSS1〜2と、これらセンサAS1〜3,SS1〜2の検出結果に基づいて、アライメントマークAM1〜9の位置を求める制御装置FIAUとを備えて構成される。 (もっと読む)


【課題】測定時間が増えたり、検査装置が大型化・高コスト化したりすることなく配線パターンの良否を適正に検出できるようにする。
【解決手段】TABテープTの裏面側に鏡面仕上げのドラム32を配設して表面側から照明光を照射すれば、光透過性絶縁フィルム60部分では透過した光がドラム32で反射され間接透過光となって光透過性絶縁フィルム60を透過して表面側に戻ることから、反射法が主となり、透過法が従となるように、TABテープTの裏面側にドラム32を配設して表面側から照明光を照射し表面側で検査箇所Dの配線パターン像を撮像することで、反射法による利点を活かした配線パターン61の良否判定を可能にし、かつ、反射法では検出困難な光透過性絶縁フィルム60上での短絡系の欠陥は間接透過光を利用することで光透過性絶縁フィルム60よりも暗い暗欠陥として同時に検出できるようにした。 (もっと読む)


【課題】イメージ処理能力、データ処理効率及び伝送速度を向上させたポイント入力システムのイメージ処理方法の提供。
【解決手段】本発明は、前記ポイント入力システムのイメージ処理能力及びデータ処理とその伝送効率を高めるために、キャッチ装置からカラーチャネルイメージを現わしてイメージ処理を行なうことを含むポイント入力システムのイメージ処理方法である。 (もっと読む)


【課題】周期的なパターンを持つ対象物を撮影する場合、使用するカメラの分解能と対象物のパターン周期の値が近いと、撮影した画像にモアレが見られることがある。画像の不鮮明化をほとんど生じさせることなく、モアレを解消した画像を得る観察方法およびそのモアレを解消した画像を利用する観察装置や欠陥検査装置を提供することを課題とする。
【解決手段】周期的パターンを持つ対象物を撮像することによって周期的パターンの観察を行う観察方法であって、対象物からの入射光を、対象物のパターン周期の概n+1/2倍(nは整数、0を含む)だけシフトさせた半周期シフト画像を取得し、対象物からの入射光を、対象物のパターン周期の概m倍(mは整数、0を含む)だけシフトさせた全周期シフト画像を取得し、前記半周期シフト画像と前記全周期シフト画像を重ね合わせた合成画像を観察することで、周期的パターンを持つ対象物を観察する観察方法。 (もっと読む)


【課題】ピクセル単位の位置合わせを行う必要がなく、また、光学的なずれや機械的なずれが存在していても虚報を生じさせないような検査方法において、検査対象物の各部位毎に正確な検査を行えるようにする。
【解決手段】あらかじめ基準対象物となるピクセルの位置毎に、輝度と、許容輝度幅α1と当該ピクセル位置(x,y)を基準として検査対象物の対応するピクセルを探索するための探索距離d1をテーブル化して記憶しておく。そして、検査対象物11を検査する場合、基準対象物10のピクセル位置(x,y)での輝度を読み出し、許容輝度幅テーブルや探索距離テーブルを参照して許容輝度幅や探索距離を抽出し、検査対象物11における位置(x,y)からの探索距離d1内に許容輝度幅α1内のピクセルが存在するか否かを判定する。 (もっと読む)


【課題】 繰り返しパターンの方向が分からなくても高感度な欠陥検査を行う。
【解決手段】 被検基板の表面に形成された繰り返しパターンを直線偏光により照明する手段と、直線偏光の振動面の方向と繰り返しパターンの方向との成す角度を任意の角度φに設定して、繰り返しパターンから発生した正反射光のうち直線偏光の振動面に垂直な偏光成分の光強度を測定する手段(S1,S2)と、上記の成す角度を、角度φとは異なる φ+45度 , φ−45度 , φ+135度 , φ−135度 の何れかの角度に設定して、繰り返しパターンから発生した正反射光のうち直線偏光の振動面に垂直な偏光成分の光強度を測定する手段(S3,S4)と、測定された各々の光強度を加算して、加算後の光強度に基づいて、繰り返しパターンの欠陥を検出する検出手段(S5,S6)とを備える。 (もっと読む)


【課題】 表面欠陥の良否判別をより詳細に実施する表面検査装置を提供する
【解決手段】 本発明の表面検査装置は、偏光観察状態では、偏光方向の異なる2つの偏光素子を照明光路と受光光路にそれぞれ設け、照明光の振動面に対して被検基板のパターンを斜め向きに設定する。この状態で受光光路の光束を結像して光強度信号を生成する。この光強度信号の第1信号レベルを、予め記憶する良否の判定条件(第1条件)で良否判定する。一方、本発明の表面検査装置は、偏光素子の少なくとも一方を光路から外してオープン観察状態とする。この状態で得られる光強度信号の第2信号レベルを、予め記憶する良否の判定条件(第2条件)で良否判定する。この2種類の良否判定によって被検基板の良否判定を一段と詳細に行うことができる。 (もっと読む)


【課題】 繰り返しパターンの複数種類の欠陥に対して十分な検出感度を確保できる表面検査装置を提供する。
【解決手段】 被検物体20の表面に形成された繰り返しパターンを照明し、繰り返しパターンの形状変化による正反射光L2の強度の変化を測定する第1測定手段(13〜15)と、繰り返しパターンを直線偏光により照明し、繰り返しパターンの繰り返し方向と直線偏光の振動面の方向との成す角度を斜めの角度に設定し、繰り返しパターンの形状変化による正反射光L2の偏光状態の変化を測定する第2測定手段(13〜15)と、第1測定手段と第2測定手段との各々が繰り返しパターンを照明する際に用いる光L1の波長を異なる波長に設定する設定手段(44〜46)とを備える。 (もっと読む)


【課題】半導体パターンに形成された欠陥を容易に探し出すことのできる集積回路装置製造用マスクの検査装置及びその検査方法を提供する。
【解決手段】集積回路装置製造用マスクに形成された半導体パターンの欠陥有無を検査するマスク検査装置において、マスクに入射される光ビームによって発生するマスクイメージと外部から入射される基準ビームとを受け、マスクイメージと基準ビームとを結合して結合されたイメージを生成し、マスクに形成された半導体パターンに対応する波形を含むマスクイメージと同じ光路方向に出射するイメージ結合部と、イメージ結合部から出射された結合されたイメージが入射され、入射された結合されたイメージの光度を増大させる2次非線形光学システムと、2次非線形光学システムから出射されるイメージを検査して、マスクに形成された半導体パターンの欠陥有無を判定する検査部とを有する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、確実に良好な検査を行うことのできる表面検査方法、及びそれに好適な表面検査装置を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の表面検査方法は、被検基板上のパターンを偏光した照明光で照明すると共に、そこで生じた正反射光の偏光状態を示す反射信号を取得し、その反射信号に基づき前記被検基板の検査を行う表面検査方法であって、前記被検基板の検査に先立ち、前記照明光の波長を切り替えながら(S1,S3,S4)、予め用意されたテスト基板の前記反射信号を繰り返し取得し(S2)、取得された複数の反射信号に基づき前記被検基板の検査用の波長を決定する(S5)ことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】孔版印刷機において、タイミングローラ等による用紙供給及び搬送を、スリップ等に対しても安定した状況で行えるようにすることを目的としている。
【解決手段】タイミングローラ18と印刷用版胴11との間の用紙搬送経路上に変位検出装置41を配置する。該変位検出装置41は、印刷用紙の表面に発光部44から光を照射し、イメージセンサー48により、前記光が照射される一定領域内の印刷用紙表面から反射する光を受光して、周期的に明暗パターンを読み取り、電気信号に変換する。制御装置50は、イメージセンサー48により周期的に読み取った複数の明暗パターンの共通部分の位置を比較し、印刷用紙の変位量を演算する。上記検出した変位量に基づき、印刷用紙のスリップ等を検出し、タイミングローラ18の回転を制御する。 (もっと読む)


【課題】オーバーレイパターンを計測してオーバーレイ補正値を生成するオーバーレイ計測装置及びそのオーバーレイ計測方法を提供する。
【解決手段】光源で生成された可視光から単一の波長を選別して複数個のオーバーレイパターンに入射し、オーバーレイパターンで反射した可視光を用いてオーバーレイパターンを所定の色相で投影する光学モジュールを備える。単一の波長帯域おけるオーバーレイパターンイメージは、撮像部で映像信号が取得される。撮像部で取得された映像信号は、順にデータベースに蓄積され、選択部においてより鮮明度の高いオーバーレイパターンが選択される。制御部は、選択部で選択されたオーバーレイパターンイメージを投影させるために使用される単一の波長帯域に対する情報を用いてオーバーレイパターンが投影されるように光学モジュールに制御信号を出力する。 (もっと読む)


【課題】レーザ光を用いたパターン投影装置又はパターン検査装置において、干渉縞の発生を低減すること。
【解決手段】レーザ光を発生するレーザ発生装置と、パターンを有するマスクと、レーザ発生装置とマスクの間に配置され、レーザ光をマスク上に照射し、パターンを対象物に投影する光学系と、光学系内に配置される回転位相板と、回転位相板を回転する駆動装置と、回転位相板と光学系間の振動伝播を阻止する緩衝材と、を備えている、パターン投影装置、及び、パターン検査装置。 (もっと読む)


【課題】 本発明によれば、事前に物体のタイプの知識(形状または他の性質)の習得、物体の確認、膨大な計算時間または大きい計算手段などを必要とせず、イメージ画像を処理し、風景内での物体の移動を検出することが可能である。
【解決手段】 本発明は、カメラ(1)によって撮像された複数の風景イメージ(21)に対して逆透視マッピングを実施することによって、風景内静止物体にまつわる所定の情報や変換イメージの対応ピクセル間の色強度変化に基づいて移動マップ(26)が作成され、このマップによって、移動物体の位置を示すことが可能な物体移動の検出方法及び検出装置である。 (もっと読む)


【課題】 照明系と受光系の各凹面反射鏡の配置に応じたノイズ成分のバラツキを小さく抑えることができる表面検査装置を提供する。
【解決手段】 被検物体20の表面に直線偏光L1を照射して表面を照明する照明手段13と、表面から直線偏光の入射面3Aに沿って発生した光L2のうち、直線偏光の振動面に交差する偏光成分を受光する受光手段14とを備え、照明手段および受光手段の各々の光路中には凹面反射鏡35,36が配置され、照明手段の光路と受光手段の光路との少なくとも一方には、入射面に交差する光路(例えば光路6B)が含まれる。 (もっと読む)


【課題】 照明系と受光系との各々に反射鏡を配置して高精度な欠陥検査を行うことができる表面検査装置を提供する。
【解決手段】 被検物体20の表面に直線偏光L1を照射して表面を照明する照明手段13と、表面から発生した光のうち、直線偏光の振動面に交差する偏光成分L4を受光する受光手段14とを備える。照明手段および受光手段の各々の光路中には反射鏡35,36が配置される。そして、反射鏡には、基材側より順にバインダー層と反射層と保護層とが積層され、保護層の厚さは、5nm〜20nmであり、反射鏡に対する光の入射角度を15度以下とする。 (もっと読む)


【課題】浅い角度から深い角度の斜光を被検査体の全面域に照射する上で有利な開口パターンの検査装置を提供する。
【解決手段】検査装置用ステージ34にフォトマスク等の被検査体20を載置すると、被検査体20の上面は支持部材14の上方に露出し、被検査体20の下面は支持部材14の下方に露出した状態となる。したがって、光源30によって浅い角度から深い角度まで検査光可動範囲が大きく取れるため、斜光の照射を必要とする透過・反射測定では自由度の高い検査を行う事が可能で、被検査体の平面の外周余白部分と厚み方向の断面部で位置決めが可能なため、平面の外周余白部を除く全面の検査が容易となり、被検査体を正確に位置決め出来ることから位置の再現性も向上される。 (もっと読む)


【課題】ウエハに転写されたパターンに線幅の誤差が発生する線幅欠陥を高感度に検出するパターン検査装置及びパターン検査方法を提供する。
【解決手段】 照明光源11と、照明光源11からの光を集光して試料10に出射する照明光源系と、試料10の像を撮像するため、照明光源系から試料10に出射された光のうち試料10を透過又は反射した光の輝度を検出する検出器18と、検出器18から出力される輝度データに基づいて、第1の像に対して、第1の像に設けられたパターンの輪郭に対応する輪郭画素を抽出する輪郭画素抽出部233と、輪郭画素抽出部233で抽出された複数の輪郭画素の輝度データと、複数の輪郭画素に対応する第2の像の複数の画素との輝度データとに基づいて線幅欠陥を検出する欠陥検出部238とを備える検査装置。 (もっと読む)


【課題】 プロジェクション処理(信号ノイズの低減)を行う場合でも、画像から選択した直線部の傾きやコントラストの不均一に影響されず、正確に重ね合わせずれ量を求める。
【解決手段】 基板11の異なる層に形成された第1マークと第2マークの画像を取り込む手段26と、第1マークの第1直線部から生成した第1信号波形と、第2マークの第2直線部から生成した第2信号波形とを用いて、第1マークと第2マークとの重ね合わせずれ量を求める手段27とを備える。そして、少なくとも一方の信号波形を生成する際に、直線部の異なる複数の箇所で、それぞれ、該直線部を測定方向に横切ったときの明暗変化を抽出し、該明暗変化のコントラストを互いに揃えた後、該明暗変化を測定方向と垂直な方向に積算する。 (もっと読む)


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