【課題】画像データ処理用回路基板の開発において、ハードウエア（回路基板）を変更、あるいは新たに開発することなく、多種多様な画像処理装置をフレキシブルに実現する方法を提供する。
【解決手段】所定の画像データ処理を行うための画像データ処理用回路基板であって、
配線板上にマイクロプロセッサおよびロジックアレイおよびメモリおよびこれらを接続する接続手段と、外部との信号入出力のための少なくとも１つの外部接続端子とを有し、前記ロジックアレイに組み込まれるソフトウエアによりデータ処理内容が決定されることを特徴とする基板（以下、セル基板と呼ぶ）複数個を備え、前記セル基板の外部接続端子と他のセル基板の外部接続端子とをセル基板間接続手段により接続して、複数のセル基板を所定の配置で接続することにより、当該画像データ処理用回路基板で実施すべきデータ処理内容を実行することを特徴とする画像データ処理用回路基板。 （もっと読む）

【課題】パターンの画像を測定しているパターン付き基板上の位置を正確に決定する方法および装置を提供することである。
【解決手段】基板特性の測定方法は、放射ビームＢがマスクＭＡを通過するように構成されたパターン付きマスクを生成してパターンを取得すること、マスクを使用してパターンが与えられたパターン付き放射ビームでの基板Ｗの照射をシミュレーションしてシミュレーションパターンを獲得すること、パターニングの誤差が発生しやすいシミュレーションパターンの少なくとも１つの位置を決定すること、および、リソグラフィプロセスを使用して前記パターン付き放射ビームで前記基板を照射することを含む。方法は、パターニングの誤差が発生しやすいとして決定された基板上のパターンの少なくとも１つの位置の少なくとも１つの特性の精度を測定し、測定に従ってリソグラフィプロセスを調整することも含む。 （もっと読む）

【課題】欠陥検査の条件設定にかかる負荷を軽減すると共に、条件設定を含む欠陥検査を効率化することができる欠陥検査装置を提供する。
【解決手段】カメラに対してウェハを移動させながら撮像し、撮像された画像に基づいてウェハｗの欠陥を検査する欠陥検査装置において、ウェハの撮像領域を分割して複数の分割領域を生成する撮像領域分割部２０８し、分割領域がカメラに撮像されるウェハの撮像位置を少なくとも含むパラメータを設定するパラメータ設定部２０３、撮像位置にウェハが達するタイミングを検出し、トリガ信号を発する撮像タイミング制御部２０２を設け、トリガ信号をトリガとしてカメラがウェハを撮像するよう構成する。 （もっと読む）

【課題】高い輝度を拡散光において達成することである。
【解決手段】反射器（５）が管状であり、光進出スリット（７）に、製品ウェブ（６）から反射された光の進出のための少なくとも１つの監視スリット（８）が相対して位置しているようにした。 （もっと読む）

【課題】液浸液および装置コンポーネントの汚染のリスクを低減するための方法を提供する。
【解決手段】第１および第２の層が載った基板を検査する方法が開示されている。この方法は、層のエッジ部に向けて鋭角で電磁放射のビームを誘導すること、散乱されたおよび／または反射された電磁放射を検出すること、および第２の層のエッジ部が第１の層のエッジ部に重なっているか否かを検出の結果から確定することを含む。 （もっと読む）

【課題】撮像手段と被検査体の距離を変えたときに、撮像した画像中の被検査体の位置がずれることによって、位相再生法による被検査体の元形状再生像がぼやけたり擬似像が発生したりする現象に対処する方法および装置に関する。
【解決手段】被検査体の形状の光学的測定方法であって、被検査体への照明光照射段階と、被検査体と撮像手段の間の距離検知段階と、被検査体からの反射光の撮像段階と、予め取得済み基準画像との比較から撮像した画像の面内方向のずれ量を算出するずれ量算出段階と、そのずれ量相当だけ撮像手段の位置補正を行う位置補正段階と、その後に形状計測用の画像を取得する画像取得段階と、被検査体との撮像手段の間の距離調節段階と、これら手順を所定回数繰り返して画像群を取得する画像群取得段階と、画像群から被検査体の元形状画像の再生計算を行う元形状再生段階とを備えることを特徴とする形状測定方法。 （もっと読む）

【課題】
安定した測定を簡便に行うことができる光学測定装置、及び基板保持装置を提供する。
【解決手段】。
本実施の形態にかかる光学測定装置は、試料を透過した透過光を用いて測定を行う光学測定装置であって、試料５０の端部が載置される載置台１２と、試料５０の下側においてＹ方向に移動可能に設けられ、試料を吸着する吸着口を有する吸着台１８と、吸着台１８に設けられ、前記試料を下側から照明光を出射する照明光源４１と、照明光源４１から試料を透過した透過光を試料５０の上側で受光する測定ヘッド２２と、試料５０の下側に設けられ、載置台１２よりも内側において試料５０を支持する複数の支持部材１６と、吸着台１８に設けられ、支持部材１６と当接することによって一部の支持部材１６の上端を試料５０から離間させる当接部４８と、を備えるものである。 （もっと読む）

【課題】 封止樹脂層の形成時において高い精度を要求されることなく、センサ機能の損なわれることのない指紋情報取得装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 指を接触させて指紋情報を取得する複数の画素領域で構成された指紋センサ２と、指紋センサ２が備える複数の画素領域のうち指紋情報の取得が可能な有効画素領域に係る有効座標情報を記憶する不揮発性メモリ素子５と、指紋センサ２に対して、所定の対象座標に位置する画素の読み出し指示を行う読み出し指示部５１と、を備え、読み出し指示部５１が、対象座標に係る前記指紋情報の読み出し指示を受けると、不揮発性メモリ素子５から有効座標情報を読み出すとともに、当該有効座標情報が示す有効座標と対象座標とに基づいて実際に読み出し対象となる修正対象座標を算出し、指紋センサ２に対して修正対象座標に位置する画素の読み出し指示を行う。 （もっと読む）

【課題】基板外観検査において、不良見落としの確率を低くするとともに、虚報を低減する。
【解決手段】撮像手段1110、データ読出手段1120、対象領域抽出手段1310、領域辞書作成手段1340、領域位置合わせ手段1330、検査領域設定手段1350、密度辞書作成手段1360及び検査手段1370を備えて構成される。対象領域抽出手段は、CADデータ1510及び色基本データ1520から計算された対象領域の色と、撮像手段が取得した撮像画像データ1112の色との比較を行って、パッド画像データ1412を抽出する。領域位置合わせ手段は、撮像画像データとCADデータの位置合わせを行って、合わせ画像データ1432を作成する。密度辞書作成手段は、隣り合う対象領域の間隔が閾値以下の場合は高密度領域と判定し、閾値よりも大きい場合は低密度領域と判定する。検査領域設定手段は、高密度領域における非検査領域を、低密度領域における非検査領域よりも小さく設定して、検査画像を生成する。 （もっと読む）

【課題】印刷マスクに対する高精度の検査を容易に行うことが可能な印刷マスクの検査装置及び印刷マスクの検査方法を提供する。
【解決手段】印刷マスクの検査装置は、電子部品を基板に実装する際に用いる印刷マスクに対する検査を行う。画像取得手段は、スキャナによって印刷マスクに形成された複数の貫通孔の画像を取得する。そして、計測手段は画像に基づいて複数の貫通孔に対する計測を行い、表示制御手段は計測結果を表示する。上記の印刷マスクの検査装置によれば、比較的安価な市販のスキャナなどを用いて、容易に、印刷マスクに形成された複数の貫通孔に対して高精度の計測を行うことができる。具体的には、微小なサイズの貫通孔に対して高精度の計測を行うことができると共に、多数の貫通孔に対して短時間で計測を行うことができる。よって、印刷マスクに対する検査を精度良く行うことができる。 （もっと読む）

【課題】検出系からの検出画像信号を補正することにより、照明系、光学系、検出系など構成要素の特性ばらつきによる、複数の検査装置（機体）間での検査感度の機体差を低減する。
【解決手段】被検査対象に光束を照射する光源と、被検査対象から反射する反射散乱光を導く光学系と、反射散乱光を電気の検出信号に換える複数の光電セルが配列されている光電イメージセンサと、光電イメージセンサを分割した複数の領域毎に、それぞれに対応する信号補正部、Ａ／Ｄ変換器および画像生成部から構成されるチャンネルをもつ検出信号伝送部と、検出信号伝送部が出力する部分的な画像を合成して被検査対象表面の画像を作成する画像合成部と、合成された画像を処理することで被検査対象表面の欠陥あるいは異物の検査を行なう検査装置において、検出信号伝送部は、光電セルからの検出信号を各チャンネル毎に定めた基準検出信号強度の基準目標値に近づけるように補正できる。 （もっと読む）

【課題】表示パネルの点・線欠陥を検出する場合に、回路規模の増大を回避し、利用効率の低下及び処理速度の低下を抑制し得る画像処理装置を提供する。
【解決手段】画像メモリ１２の表示パネル画像データから水平１ライン分の画像データを読み込むアドレスを、垂直方向ｃｎ毎となるように設定する垂直メモリアドレス制御回路（入力用）２３ａと、水平１ラインの（（ｈ−１）×ｃｍ＋１）の各画素データを連続して格納するｈ個のラインバッファメモリ２４を１組として、ｖ組設けたラインバッファメモリユニットと、水平ラインの各画素データを画像メモリ１２から複数ライン分をライン毎に順に読み込み、ラインバッファメモリ２４に格納する画像メモリ制御回路２１と、ラインバッファメモリ２４から出力された比較演算対象画素データを用いて画素間比較演算を行う比較演算処理回路２５と、演算結果を格納する画像メモリ１２とを備える。 （もっと読む）

【課題】欠陥を高速かつ容易に検出し、分類する手法を提供する。
【解決手段】欠陥分類装置では、基板上の検査領域の画像データから複数の欠陥要素が特定され、各欠陥要素の代表点の座標値が取得される。欠陥要素ペア決定部５３では各欠陥要素の代表点を母点としてドローネ三角形分割を行い、複数の三角形を構成する各辺の両端点の欠陥要素により構成される欠陥要素ペアが求められる。判定部５２では、同一欠陥に由来する欠陥要素により構成される複数の欠陥要素ペアが取得される。クラスタ生成部５６では、２分探索木の構造を有し、それぞれが同一の欠陥に由来する欠陥要素の集合である複数のクラスタが生成される。そして、各クラスタに含まれる欠陥要素を包含する欠陥画像が抽出されて特徴量が算出され、各クラスタに対応する欠陥が分類される。これにより、欠陥が高速かつ容易に検出され、適切に分類される。 （もっと読む）

【課題】反射照明光と透過照明光を利用して、パターンの表面に生じているピットと突起とを区別し、ピットのみを不良として検出すること。
【解決手段】光透過性基板１上に形成されたパターン２に照明光の撮像画像に基づいてパターン２の良否判定するパターン検査装置において、中心光線が基板１に対して略直交する照明光を照射する第１照明手段３１と、基板１の裏面側に設けられ検査領域６（第１照明手段３１により照明される領域）を基板１に対する法線方向に投影した領域外から基板１に対して照明光を照射する第２照明手段３２と、第１照明手段３１による照射方向と同方向に設けられた撮像手段３３と、第１照明手段３１と第の照明手段３２を制御する制御手段４とを備え、制御手段４は第１照明手段３１と第２照明手段３２による照明とを同時に行い、撮像手段３３は同時に照明されているパターン２を撮像する。 （もっと読む）

【課題】ワークに形成された穴の実測された位置と設計上の位置とのずれを高精度に測定できる穴位置確認システムを提供すること。
【解決手段】穴位置確認システム１は、ワーク表面を走査し走査線上の複数の点の位置を測定する測定ロボット１０と、複数の点を実測点として仮想空間に表現する実測データ仮想化部２１と、穴の設計上の位置を設計位置として仮想空間に表現する設計データ仮想化部２２と、穴の設計上の大きさに略等しくかつ実測点のうち端部に位置するものに近接する第１の近接円を仮想空間に形成する第１の近接円形成部２３と、第１の近接円を中心とする許容範囲を仮想空間に形成する許容範囲形成部２４と、許容範囲に含まれる実測点のうち第１の近接円に近接するものに近接する第２の近接円を仮想空間に形成する第２の近接円形成部２５と、第２の近接円を実測位置とし、実測位置と設計位置とのずれを算出する位置ずれ算出部２６と、を備える。 （もっと読む）

【課題】試料表面の面粗さや正常な回路パターンからの散乱光の影響を抑制し、かつ、欠陥や異物からの散乱光の利得を高くして、高感度に試料表面の欠陥等を検出することが可能な欠陥検査装置を実現する。
【解決手段】ＮＡ値が大きいレンズを使用するとレンズ外径は１０ａとなり斜方光学系とウエハとの角度はα１である。ウエハ表面粗さや酸化膜下の面粗さ、回路パターンからの散乱光を低減して、欠陥散乱光を多く検出するために斜方検出系の仰角を下げると仰角α２＜α１となるがレンズの外径１０ｂはレンズ外径１０ａより小となり散乱光の集光能力が低下する。集光能力を向上するためレンズ径を広げた１０ｃとするとレンズとウエハ７とが干渉を起こす。干渉部分を削除したレンズの創作により低仰角α２を保持してレンズの開口寸法を１０ｂより大とすることができ欠陥検出能力の向上とレンズ性能の向上が同時に成立する。 （もっと読む）

【課題】使用可能なすべての情報を効果的に使用し、プロファイルスペースを構成する公称プロファイル及びそのバリエーションをユーザが設定するのを手助けする。
【解決手段】オブジェクトのイメージ42を取り込み、このイメージ上に、手動又は自動によって推定プロファイル20を重畳すること、を含む。推定プロファイルは数学的に定義され、かつ、上記イメージと一致するようにセグメント毎にハンドル30を調節40する。あるいは又はこれに加えて、ユーザは、既知のイメージのプロファイルをトレース（又は自由描写）し、その後、多項式、スプライン、又はベクトル等の数学関数の形状定義物を推定プロファイル上に描くことにより、未知のオブジェクトのプロファイルをその回折パターンから再構成する際に使用し得る、プロファイル及び当該プロファイルの一つ以上の可変例を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】マークの重心位置を高精度で検出する。
【解決手段】撮像されたマーク２２周辺の画像から、近接して配置される所定面積以上のマーク構成要素２２ａを特定する工程と、求められたマーク構成要素２２ａの集合体に外接する図形から仮重心Ｇｐを求める工程と、求められた仮重心Ｇｐを中心として、マーク構成要素２２ａの集合体の外周部を含む輪郭領域３２を抽出する工程と、輪郭領域３２の内部に位置するマーク構成要素２２ａの輪郭と輪郭領域の内側境界３２ａとで構成される閉曲線を形成し、当該閉曲線の内外で輝度の差異が生じる色を塗り分ける工程と、閉曲線の輪郭形状３４を外側から仮重心の中心方向に向けて一方向に走査線４０ｘ，４０ｙでスキャンして、当該走査線の両側に位置する一対の輝度の変化点の中心点を順次算出して中心点４２ｃ，４４ｃの集合を求める工程と、求められた中心点の集合からマークの重心Ｇ０を算出する工程とを有する方法。 （もっと読む）

【課題】 この発明は，従来のカメラ画像を使ったパターンマッチングによる物体検出方法を改善し，対象物がシーン中で回転や傾いている時でも，演算量を少なくして高速に検出する。
【解決手段】 この物体検出方法は，距離センサを使って対象物とシーンの計測により、それぞれの形状データを求めて、それらを構成する点同士の位置の偏差を求め，その出現回数から対象物の移動量や回転量を求める。この物体検出方法は，従来のパターンマッチングと比べて，扱うデータ量が少なく，演算も加減算だけでよいため，シーン中の対象物を高速で検出することができる。さらに、実際の形状データを利用することにより見かけの形に影響されず、対象物の回転や傾きにも対応できる。 （もっと読む）

【課題】被検査試料のパターンの欠陥を検出する機能を高めること。
【解決手段】被検査試料のパターンの測定パターンデータを取得する測定パターンデータと、被検査試料の設計データから測定パターンデータに対応した展開パターンデータを生成する展開パターンデータとを比較して被検査試料のパターンの欠陥を検出する。 （もっと読む）