【課題】光の干渉による影響を大幅に抑制し、検査対象物の外観検査を極めて高精度に行うことが可能な外観検査装置を提供する。
【解決手段】外観検査装置１０は、透明テーブルＴと、素体供給ユニットＡ１０と、第１姿勢矯正ユニットＢ１０と、第２姿勢矯正ユニットＣ１０と、第１撮像ユニットＤ１０と、第２撮像ユニットＥ１０と、第３撮像ユニットＦ１０と、第４撮像ユニットＧ１０と、第５撮像ユニットＨ１０と、第６撮像ユニットＩ１０と、良品回収ユニットＪ１０と、不良品回収ユニットＫ１０と、制御部１２とを備える。透明テーブルＴの周縁近傍には、透明テーブルＴの回転方向（矢印Ｒ方向）に沿って、第１撮像ユニットＤ１０、第２撮像ユニットＥ１０、第３撮像ユニットＦ１０、第４撮像ユニットＧ１０、第５撮像ユニットＨ１０及び第６撮像ユニットＩ１０がこの順に配置されている。 （もっと読む）

【課題】半導体チップの有無に応じて検査エリアを設定し、効率的に外観検査が行える半導体チップの外観検査方法を提供する。
【解決手段】半導体チップ２６が配列された領域を含む外観検査エリア４０を格子状に区分けして、複数の第１外観検査エリア４２を設定するステップと、第１外観検査エリアに斜め上方から光を照射し、半導体チップの有無を検出し、検出された半導体チップの座標を求めるとともに、半導体チップの第１外観検査を行うステップと、半導体チップの座標データに基づいて、第１外観検査エリア４２を、半導体チップが配列されていない領域５１はスキップするとともに、同一の半導体チップを２度検査しないように区分けして、複数の第２外観検査エリア５２〜５５を設定するステップと、第２外観検査エリアに上方から光を照射し、半導体チップの第２外観検査を行うステップと、を具備する。 （もっと読む）

【課題】プロジェクターとスクリーンとの相対位置を容易に測定可能な測定方法、測定装置、測定プログラムおよびプロジェクターを提供する。
【解決手段】プロジェクター２とスクリーンとの位置関係を測定する測定方法は、カメラ４を構成する撮像素子の幾何学的な中心に対して点対称となるパターン画像をプロジェクター２からスクリーンに投射させるパターン画像投射工程と、投射されたパターン画像をカメラ４により撮像する撮像工程と、撮像工程において撮像された撮像パターン画像に対して、対称中心を挟んで互いに点対称となる色領域に分割するとともに、これらの分割された色領域にそれぞれ互いに補色関係となる色を付与する色付与工程と、点対称中心点に対して互いに対称となる一対の色領域において、一方の色領域にあるパターン画像と対称となる疑似画像を、一方の色領域と同一色で重ね合わせる色重ね合せ工程と、を具備した。 （もっと読む）

【課題】マークを検出する処理を効率よく行う。
【解決手段】候補数決定部３７は、マークの探索の対象となる探索領域の画像の面積と、マークを含む大きさのテンプレート画像の面積との比率に基づいた候補数を決定する。粗探索部３３は、探索領域の画像における所定の対象領域を対象としたテンプレート画像とのマッチングを行い、その結果を示すマッチングスコアの出力を、探索領域の全域にわたって行う。そして、精密探索部３４は、粗探索部３３において出力されるマッチングスコアのうちの、マッチングスコアが高いものから前記候補数分マッチングスコアが求められた対象領域を対象として、テンプレート画像とのマッチングを精密に行い、テンプレート画像と合致する対象領域の位置を、マークの位置として検出する。本発明は、例えば、シリコンウェハに形成されたマークの位置を検出する検出装置に適用できる。 （もっと読む）

【課題】複数の基本パターンが反復する反復パターンが形成された試料表面を走査し、複数の基本パターン相互の対応部分の画像同士を比較する欠陥検査において、ダブルデテクションで比較される３画像を同一方向に向かう主走査で取得しかつ正逆両方向において主走査を行う。
【解決手段】欠陥検査装置１は、試料の表面を撮像する撮像手段１３、撮像手段１３及び試料を相対移動させる移動手段１１、この相対移動により撮像手段１３で試料を２次元走査する走査制御手段４０、３個以上の基本パターン上で行われる反対向きの主走査を含む２回以上の主走査で得られる画像を格納する画像記憶手段２２、格納された画像のうち複数の基本パターンの対応部分を同一方向に向かって主走査して得られた画像を選択する選択手段２３、選択された画像間で比較を行い欠陥候補を検出する欠陥候補検出手段２４、欠陥候補がどの基本パターンにあるのかを決定する決定手段２５を備える。 （もっと読む）

【課題】移動ウェブに関する速度、変位、歪みを効率的に測定する。
【解決手段】移動するウェブ部材14の近くに第１、第2の光センサ配列16、18を設置する。第１、第2の光センサ配列１６，１８はウェブ部材14の走行方向に沿って所定距離ｄだけ離れている。第１、第２の光センサ配列16、18の双方に結合されている処理装置40は、第1、第2、第3のコード区画それぞれにより制御され、それぞれ、第１の光センサ配列16でウェブ部材１４上のパターンを検出させ、第２の光センサ配列18でウェブ部材１４上で前記検出されたパターンを認識させ、そして、ウェブ部材１４の速度、距離ｄ、および第１のコード区画に応答するパターンの検出と第２のコード区画に応答するパターンの認識との間の経過時間に基づきウェブ部材１４の歪みを計算する。 （もっと読む）

【課題】マスク全体の光学画像及び参照画像を用いてマスクの欠陥検査を行うことが可能なマスク検査装置及びマスク検査方法を提供する。
【解決手段】マスク１０１の光学画像が検査ストライプ単位で取得され、予備検査部１２０に入力される。参照画像生成部１１８によりマスク１０１の参照画像が検査ストライプ単位で生成され、予備検査部１２０に入力される。予備検査部１２０により検査ストライプ単位の光学画像及び参照画像を用いて予備検査が行われる。検査ストライプ単位の光学画像及び参照画像はフラッシュメモリ１２２に逐次格納される。マスク１０１全体の光学画像及び参照画像が格納された後、欠陥検査部１２４によりこのマスク全体の光学画像及び参照画像を用いてマスク１０１のパターン欠陥検査が実行される。 （もっと読む）

【課題】大型のガラス基板の目視検査を容易にする検査装置の提供
【解決手段】この検査装置１００は、検査ステージ１０２と、検査ステージ１０２に対してガラス基板１０を相対的に動かす駆動機構１４１を備えている。さらに、この検査装置１００は、駆動機構１４１がガラス基板１０を動かす方向に対して幅方向外側からガラス基板１０を見た像を、検査ステージ１０２から確認できるように映す観察部１０８を備えている。この検査装置１００によれば、ガラス基盤１０の目視検査が容易になる。 （もっと読む）

【課題】
近年、半導体製造工程においては、製造時間の短縮および歩留まり低下要因の早期発見のため、ウェハの検査時間を短くすることが要求されている。これは、実際に検査する時間のみならず、検査の条件設定時の時間も短縮する必要がある。
【解決手段】
搬送系２の速度または位置の変動情報を用いて、検出器の蓄積時間や動作速度の制御もしくは取得画像の補正により、搬送系２の加減速時にも検査を行う。また、検出部の観察画像の表示を一定時間で切り替えることにより、検出部の視認性を向上させ、欠陥の有無を短時間で確認する。 （もっと読む）

【課題】特定の方向からのみ見える意匠癖を確認することを支援する意匠確認装置等を提供する。
【解決手段】意匠確認装置１は、光源方向・視点方向設定手段２１により、媒体表面に対する光源方向と視点方向を設定し、媒体表面のハイトフィールドデータ２９、光源方向・視点方向設定手段２１により設定された光源方向、視点方向を用いて、輝度値算出手段２３が全画素の輝度データ３１を算出する。投影変換手段２５は、輝度データ３１を媒体の鉛直方向に投影変換し、各画素のｘｙ座標の輝度データ３１を算出し、画像出力手段２７は、算出した輝度データ３１を画像に変換して出力する。 （もっと読む）

【課題】製造エラーが起こる前に機能不良のプリンターによりもたらされる印刷エラーを
特定し補正する手段を提供すること。
【解決手段】取り込まれる画像および画像に基づくシミュレートされた基準ビットマップ
の設定パラメーターに基づき、カメラと画像を支持する二次元面を有してなる画像取り込
みシステムを較正することができ、二次元面における取り込まれる画像の位置は較正パラ
メーターに基づき決定される。また１つのスキャンで取り込めない画像における部分の画
像シーケンスを取り込むことができる。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、被検査体全面において短時間で不良領域を検出でき、かつ検出結果を検査工程以降の工程に反映することのできる検査装置及び検査方法を提供することを課題とする。
【解決手段】
本発明は、基体の表面に微細な凹凸パターンを形成した被検査体に放射波を照射する照射機構と、被検査体を透過した放射波を検出する検出機構を備えた検査装置、検査方法において、前記照射機構は前記被検査体の表面または裏面のいずれか一方に配置され、前記検出機構は被検査体を介して照射機構とは相対する面に配置されており、検出機構で得られた被検査体の面内の透過率分布から凹凸パターンの不良領域を検出することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】モデルを利用した位置合わせにおいて、人間の関与を極力減らし、画像認識に資する部分を効率的にモデル化するための技術を提供する。
【解決手段】位置合わせを行う対象物と同じ種類の基準物に含まれる基準パターンである回路パターン２を撮像した撮像画像１から、特徴点抽出処理により特徴点３ａ〜３ｄなどの複数の特徴点が抽出される。そして、抽出された複数の特徴点それぞれの座標を含むモデル特徴箇所座標群５を含む基準モデルが記憶される。基準モデルは、各特徴点の周辺から切り出した画像を含むモデル特徴箇所画像群４をさらに含んでもよい。対象物を撮像して取得した対象撮像画像から抽出された複数の特徴点それぞれの座標と、基準モデル内のモデル特徴箇所画像群４とを利用して、基準パターンと対象パターンのずれを表すずれ量を算出して対象物に関する位置合わせ処理を行うことが可能である。 （もっと読む）

【課題】回路パターンの検査において、ソルダレジストが塗布された部分は画像データの輝度が低くなるため、画像処理を利用した欠陥検査では回路パターンを取得しにくかった。ソルダレジストが塗布された部分の回路パターンを得るためには、照射する光を強くする必要があるが、ソルダレジストを塗布しなかった部分は白飛びになってしまい、ソルダレジストがある部分と無い部分を検査するための検査装置が必要であった。
【解決手段】回路パターンに光を照射する照明手段と、前記回路パターンの画像データを取得する撮像手段と、撮像手段によって得られた画像データ中の反射光強度分布が異なる領域の画素値を各々１箇所以上測定する画素値測定手段と、測定された画素値に基づいて回路パターンに照射する光の照射角度を調整する光照射角度調整手段と、撮像手段によって得られた画像データに基づいて欠点を検出する欠点検出手段を有する回路パターンの検査装置。 （もっと読む）

【課題】 バンドパスフィルタを用いて制限した光を被検物の表面に当てて、その反射光により被検物の表面を安定的に観察する。
【解決手段】 被検物を照射する光の光源と、該光源の光から所定の波長成分を抽出する第１のフィルタと、記第１のフィルタを通過した光のうち前記所定の波長成分の範囲内であり前記第１のフィルタよりも狭い帯域の抽出特性を有する第２のフィルタと、前記第１のフィルタと前記第２のフィルタとで抽出された前記光で前記被検物を照明する照明光学系と、前記照明された前記被検物の観察を行う観察光学系とを用いる。 （もっと読む）

【課題】画素分解能を高め、また、放射線によるノイズを排除することで、欠陥検出能力の高いパターン欠陥検査装置及び検査方法を提供する。
【解決手段】第１の方向に沿って第１の画素ピッチで配列した複数の第１の画素を有し、被検査体の光学像の第１の画像データを出力する第１のセンサと、第１の方向と略直交する第２の方向に並列して設けられ、第１の方向に沿って第１の画素ピッチで配列し且つ第１の方向において第１の画素位置から第１の画素ピッチの１／Ｎ（Ｎは１以上の整数）だけずれた位置に配置された複数の第２の画素を有し、被検査体の光学像の第２の画像データを出力する第２のセンサと、第１の画像データ及び第２の画像データに基づいて被検査体の欠陥を検出する欠陥検出部と、を備えたことを特徴とするパターン欠陥検査装置が提供される。 （もっと読む）

【課題】広い間隔の波長または波長範囲を使用して測定することができるスキャトロメー
タ測定方法および装置を提供する。
【解決手段】スキャトロメータは、異なる第一および第二波長範囲の放射を放出すること
ができる放射源を有する。どちらの波長範囲を使用しているかに従って必要に応じて色補
正を実行するために、可変光学要素が設けられている。したがって、１つのスキャトロメ
ータが、広い間隔の波長を使用して測定を実行することができる。 （もっと読む）

【課題】ラインセンサ等の撮像素子を移動させて画像取得する方式において、取得画像の品質の劣化を抑制しつつ、生体情報取得装置の薄型化を図る。
【解決手段】生体情報取得装置７０は、ヒトの指に対する光照射に基づいてヒトの指の静脈像を取得する。生体情報取得装置７０は、ライトガイド１６を介して発光素子８からの出射光をヒトの指に照射する光照射部と、複数の画素の配置により形成された１列以上の画素列を有する撮像部９と、画素列に含まれる画素の配置方向に交差する方向に光照射部及び撮像部を直接的又は間接的に移動させる駆動機構と、を備える。ライトガイド１６を介して発光素子８からの出射光をヒトの指に照射する光照射部を採用し、かつこの光照射部を撮像部とともに移動させる。 （もっと読む）

【課題】マークの重心位置を高精度で検出することが可能なマーク位置認識装置およびマーク位置認識方法を提供する。
【解決手段】撮像されたマーク周辺の画像から、所定面積以上のマーク構成要素を特定し、求められたマーク構成要素に外接する図形から仮重心Ｇｐを求め、仮重心Ｇｐを中心として、マーク構成要素の輪郭領域を抽出し、その内部に位置するマーク構成要素の輪郭と輪郭領域の内側境界とで構成される閉曲線を形成し、当該閉曲線の内外で輝度の差異が生じる色を塗り分ける輪郭形状特定手段と、閉曲線の輪郭形状３４を仮重心Ｇｐの中心方向に向けてスキャンして、当該走査線の両側に位置する一対の輝度の変化点の中心点を順次算出して中心点４２ｃの集合を求め、中心点の集合からマークの重心Ｇ０を算出するマーク位置認識装置。 （もっと読む）

本発明は測定対象物の表面の２Ｄイメージを撮像する表面形状測定装置に関する。本発明による表面形状測定装置は、第１単色光を前記測定対象物の表面に照射する第１光源と；前記第１単色光と相異なる色相の第２単色光を前記測定対象物の表面に照射する第２光源と；前記第１光源及び前記第２光源から照射されて前記測定対象物の表面で反射した前記第１単色光及び前記第２単色光を撮像する白黒カメラと；前記第１単色光及び前記第２単色光が前記測定対象物の表面にそれぞれ照射される状態で前記第１単色光及び前記第２単色光にそれぞれ対応する第１白黒イメージデータ及び第２白黒イメージデータが獲得されるように前記第１光源、前記第２光源及び前記白黒カメラを制御し、前記第１白黒イメージデータ及び前記第２白黒イメージデータを利用して前記測定対象物の表面に関する合成カラーイメージを生成する制御部とを含むことを特徴とする。これにより、低コストの白黒カメラを利用してカラー２Ｄイメージが獲得でき、カラーカメラより処理速度が速い白黒カメラを利用することによって処理速度も向上することができる。
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