【課題】検査時における照明光の光量を安定させた表面検査装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る表面検査装置１は、被検基板の表面に照明光を照射する照明部が、ランプハウス６１からの光のうち所定の波長領域の光を透過させるバンドパスフィルターが設けられた波長選択機構７０，７５を有し、当該バンドパスフィルターを透過して得られた所定の波長領域の光を照明光として被検基板の表面に照射するように構成されており、紫外光を遮断するＵＶカットフィルター６５がランプハウス６１と波長選択機構７０，７５との間の光路上に挿抜可能に設けられ、非検査時にＵＶカットフィルター６５が光路上に挿入されて、ＵＶカットフィルター６５を透過した光が波長選択機構７０，７５のバンドパスフィルターに照射されるようになっている。 （もっと読む）

【課題】基板上のパターンの欠陥を検出する際に被検査画像を２値化して検査用の処理済画像を生成するための閾値を高精度に求める。
【解決手段】欠陥検出装置では、撮像部により基板の被検査画像が取得され、被検査画像にエッジ抽出フィルタを適用した上で２値化することによりエッジが抽出される。そして、被検査画像からエッジが除去されたエッジ除去済画像の濃度ヒストグラムに基づいて、被検査画像を２値化して検査用の処理済画像を生成するための検査用閾値が求められる。濃度ヒストグラムでは、エッジが除去されることにより、配線パターンに対応する濃度分布と基板本体に対応する濃度分布との間の濃度帯において画素の頻度が０となり、２つの濃度分布が明確に分離される。このため、基板本体に対応する濃度分布の最大濃度を検査用閾値とすることにより検査用閾値を高精度に求めることができる。 （もっと読む）

【解決手段】基板処理システム及び方法を提供する。このシステムには、ステージと、このステージ上に装着された第１及び第２のチャックと、このステージに隣接して配置された少なくとも１つの基板処理ヘッドとを設けることができる。前記ステージ及び基板処理ヘッドは、前記基板処理ヘッドが第１及び第２のテスト基板の双方を処理するのに充分な距離に亘って相対移動するように構成されている。基板処理方法によれば、第１及び第２の基板を、ステージに装着したチャック上に配置しうる。前記ステージ及び処理ヘッドは、基板処理ヘッドが基板にまたがって走査するのに充分な第１の距離に亘って、第１の軸に沿う第１の方向で相対的に移動し、次に前記第１の方向に対し平行でない方向に沿って、第２の距離に亘って相対的に移動し、次に前記第１の方向とは反対の方向で、前記ヘッドが前記基板にまたがって走査するのに充分な第３の距離に亘って相対的に移動するようにしうる。前記処理ヘッドは、前記第１の距離及び前記第３の距離の双方又は何れか一方に沿う１つ以上の位置で前記第１の基板及び第２の基板を処理する。 （もっと読む）

【目的】欠陥がセンサの画素領域の境界を跨る場合でも欠陥検出を行なうことが可能な検査装置を提供することを目的とする。
【構成】本発明の一態様のパターン検査装置１００は、パターンが形成されたフォトマスク１０１を載置するＸＹθテーブル１０２と、ＸＹθテーブル１０２と相対的に移動し、フォトマスク１０１の光学画像を撮像するラインセンサ１０５と、ラインセンサ１０５により撮像された第１の画素データと、第１の画素データの位置に対応する位置での第１の参照データとを比較する比較部５２と、第１の画素データとは撮像位置がサブ画素単位ずれた位置でラインセンサ１０５により撮像された第２の画素データと、第２の画素データの位置に対応する位置での第２の参照データとを比較する比較部５４と、を備えたことを特徴とする。本発明の一態様によれば、欠陥の見落としを回避或いは低減することができる。 （もっと読む）

【課題】被測定試料のパターン検査を高速に実行できるパターン検査装置を提供すること。
【解決手段】被測定試料のパターンに対応した測定データを生成する測定データ生成部と、被測定試料の設計データに基づいてイメージデータを生成し、イメージデータ上の図形の有無を検出するイメージデータ生成部と、イメージデータ上の図形の有無の情報を格納する図形有無情報格納部と、測定データとイメージデータを比較する比較処理部と、を備える、パターン検査装置。 （もっと読む）

【目的】擬似欠陥を低減させるパターン検査を行う装置および方法を提供することを目的とする。
【構成】本発明の一態様のパターン検査装置１００は、パターン形成された被検査試料における光学画像データを取得する光学画像取得部１５０と、前記光学画像データと前記光学画像データに対応する参照画像データとを入力し、前記光学画像データの複数の画素値と前記参照画像データの複数の画素値との関係を基に、前記光学画像データの画素値レベルと前記参照画像データの画素値レベルとの少なくとも一方を調整するレベル調整回路１４０と、画素値レベルが調整された前記光学画像データと前記参照画像データとを比較する比較回路１０８と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
従来、半導体ウェハの外観検査装置において、顕微鏡画像の撮像に高解像度のカメラを使用するとフレームレートが低下し、低解像度のカメラを使用すると画質が劣化するという問題があった。
【解決手段】
本発明では、被検物の像を形成する結像光学系と、前記結像光学系で観察する画像を撮像する撮像部と、前記撮像部で撮像した画像を表示する表示部と、前記被検物を前記結像光学系に対して相対的に移動させる移動部とを備える画像取得表示装置であって、前記画像取得表示装置の変化または前記撮像部で撮像する画像の変化を検出する変化検出部と、前記変化検出部の検出結果に基づき解像度を設定して、前記表示部に前記解像度に応じた画像を出力するように制御する解像度制御部とを設けたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】互いに同一であるべき画素同士のグレイレベル差を所定の検出閾値と比べて画素同士の違いを検出する欠陥検査において、グレイレベル差を検出し又は検出閾値を決定する際に、検査画像に含まれるノイズ成分による影響を低減する。
【解決手段】同一の単位パターン５１〜５５が繰り返し現れる検査画像６１内のある検査画素７１に欠陥が存在するか否かを判定する際に、この検査画素７１、及びこの検査画素が含まれる単位パターン５１と異なる他の複数の単位パターン５２〜５５内においてこの検査画素７１にそれぞれ対応する画素７２〜７５のうちの少なくとも３つの画素の画素値のうちのいずれかを基準画素値として選択して、この基準画素値と検査画素７１の画素値とを比較することにより、この検査画素７１が欠陥候補か否かを判定する。 （もっと読む）

【課題】繰り返しパターンが形成された試料の表面を撮像して得られる検査画像において、この繰り返しパターンに対応して繰り返し現れる単位パターンのそれぞれの対応する部分同士を比較することにより、試料の表面に存在する欠陥を検出する欠陥検査において、一部のパターンが欠けた不完全な単位パターンにおいても欠陥検出を可能にする。
【解決手段】試料１００の繰り返しパターンに対応して試料の撮像画像に繰り返し現れる単位パターンＤ１〜Ｄ４のそれぞれの対応する部分同士を比較することにより欠陥を検出する欠陥検査欠陥検出装置５０において、各単位パターンの領域Ｄ１〜Ｄ４を複数のフレームに分割したフレーム（１〜３２）の単位で欠陥検出処理を行う対象領域を指定する。 （もっと読む）

【課題】 搬送機構に影響を受けることなく高精度の位置情報を確実かつ安定して得るとともに、コストダウン及び小型化、更に軽量化及び省エネルギ性向上に寄与する。
【解決手段】 被検査物Ｐの外観を撮像部Ｖにより撮像し、画像処理により欠陥部位の有無を検査する外観検査システム１を構成するに際して、被検査物Ｐ上に表示し、かつ少なくとも被検査物Ｐの搬送方向Ｆｙ（Ｙ座標方向）におけるＹ座標位置に対応するエンコーダパターンを表示したＹ座標パターン部２ｙを有するエンコーダパターン表示部２と、欠陥部位を検出する際に当該エンコーダパターン表示部２を撮像部Ｖにより撮像して得たパターン信号Ｓｐから欠陥部位の位置に対応する少なくともＹ座標位置を検出する検出処理部４を有する検査装置３を備える。 （もっと読む）

【課題】リードフレームや各種配線基板など高精細なパターンを有する平板状の基板に対して、要求される検査精度に見合った高精細画像を撮像するのに必要な搬送装置および検査機を提供することを目的とする。
【解決手段】基板搬送装置であって、所定の隙間を隔てて並列に配置された一対の搬送部を有する直線往復運動装置と、前記直線往復運動装置の動作を制御する直線往復運動装置制御手段と、前記搬送部の隙間に設けられ、１枚以上の基板を載置可能な基板載置部と、前記一対の搬送部それぞれの隙間側に設置され、１枚以上の基板を載置可能なフラップ部と、前記フラップ部の上下動を制御するフラップ駆動制御手段と、前記フラップ部の駆動範囲を制限するためのストッパー手段と、を備えることを特徴とする基板搬送装置。 （もっと読む）

【目的】光源を小型化すると共に、従来必要であったインコヒーレント化するための機器を省略可能な検査装置を提供することを目的とする。
【構成】本発明の一態様の検査装置１００は、それぞれ基本波を発光する複数の面発光レーザ素子１４６を有する光源１４０と、複数の面発光レーザ素子１４６から発光された複数の基本波をフォトマスク１０１に照射する照明光学系１７０と、フォトマスク１０１を載置するＸＹθテーブル１０２と、を備えたことを特徴とする。本発明の一態様によれば、光源を小型化すると共に、従来必要であったインコヒーレント化するための機器を省略することができる。 （もっと読む）

【課題】フォトマスクやウエハ上に形成されたパターンを、設計データとの比較により、回路パターンの欠陥を精度良く、かつ高速に検出する手段の提供。
【解決手段】半導体パターンを撮影した画像からパターンの輪郭データ０１０７を抽出する手段と、前記半導体の設計データ０１０２から、パターンの方向に関するデータを生成する手段と、前記輪郭データからパターンの方向のデータを求め、前記輪郭データのパターン位置に対応する前記設計データから生成したパターンの方向に関するデータとの比較により、パターンの欠陥を検出する手段を備えた評価方法、及び検査システムを構築する。 （もっと読む）

【課題】 処理基板上の規則的な構造を有するパターンに光を入射し、回折して得られる回折光の測定結果から、より正確にパターンの寸法や形状の評価を行う。
【解決手段】 複数の層が積層された基板の光学的な検査方法であって、予測される複数の構造を含む基板構造を複数作成し（301）、複数の基板構造からなる基板構造ライブラリＡを作成し（302）、基板構造について計算された光強度が収められた光強度ライブラリＢを作成し（304）、構造が決定されている層の構造を含む複数の構造を新たに作成する工程と（401）、光強度ライブラリＢの基板構造の中から光強度ライブラリＣを作成し（404）、基板に特定の角度で光を入射し、回折もしくは反射して得られる光強度を検出し（501）、検出した光強度と光強度ライブラリＣに収められた光強度と比較して、前記基板の構造を求める（503）。 （もっと読む）

【課題】微小線幅測定装置等の検査装置においては、カメラのブラックレベルが固定で、調光器により、光量を調整するだけのため、測定するパターンによっては、コントラストが悪い画像となってしまう。
【解決手段】画像処理部と、顕微鏡と、光源と、光源の光量を調整する調光器と、カメラと、調光器による調光を画像の輝度値から行い、測定パターンによってカメラのブラックレベルを最適な値に設定する制御部とを設け、最低輝度の数によって、カメラのブラックレベルを測定パターン毎に最適な値に設定することで、コントラストの高い画像を得る。これによって、カメラのダイナミックレンジを有効利用することが可能となり、高精度な測定を可能とした。 （もっと読む）

【課題】 ノイズの影響を簡便に低減させ、高画質で高品質の画像データを取得する多重スキャンによる画像取得方法、画像取得装置および試料検査装置を提供する。
【解決手段】 マスク１１が載置されたステージに対して、１次元画像センサのライン方向と交差するＸ方向の走行移動と、ライン方向であるＹ方向のステップ移動と、を繰り返して第１スキャン・・・第９スキャン・・・第ｎスキャンの多重スキャンを行い、１次元画像センサによりマスク１１の２次元画像データを取得する画像取得方法において、ステップ移動量を、１次元画像センサのライン方向の画素数からなるセンサ幅Ｗより小さくして、マスク１１の同一領域の画像を１次元画像センサのライン上の異なる画素で複数回撮像し、これ等の異なる画素で撮像して得た画像データを画素間演算し平均化処理あるいは比較処理する。 （もっと読む）

【課題】計測対象の反射率などによらず、フォーカスを合わせて、計測対象の撮影を可能にする。
【解決手段】計測対象である基板２に投影されるパターンを、ビームスプリッタ１６で分岐し、ラインセンサ１９で検出してオートフォーカスを行うオートフォーカス時と、基板２を、二次元ＣＣＤで撮影する撮影時とで、照明用光源１１の光源１１ａ〜１１ｃを切り替え選択できるようにし、オートフォーカス時には、投影パターンのコントラストが十分得られるようにする一方、撮影時には、基板２の画像が鮮明に得られるようにしている。 （もっと読む）

【課題】回路パターンの欠陥検査方法では、検査精度を高めるためには、画像の分解能をあげなければならない。また、回路基板の集積密度も向上しており、画像の分解能は高くする必要性もでる。しかし、画像の分解能を上げると、画像データ量が増える。するとＣＣＤなどの画像変換素子のデータ転送速度がコンピュータの処理速度より低いため、検査時間が増大するという課題があった。
【解決手段】比較的低い分解能で回路パターンの映像を撮り、画像補間によって情報量を増やす。その上で２値化した画像データを用いて欠陥検査を行う。このようにすることで、ＣＣＤなどの画像変換素子からのデータ転送時間を短くすることができ、またデータ補間と２値化によって、誤検出や過検出といったことのない精度よい欠陥検出をすることができる。 （もっと読む）

【課題】撮像領域内に局所的に高輝度又は低輝度の部位が存在しても、画像全体として鮮明な２次元画像及び３次元画像を撮像できる共焦点顕微鏡を実現する。
【解決手段】本発明による共焦点顕微鏡は、フレーム画像信号を高ゲイン及び低ゲインで交互に増幅する増幅手段（３２，３３）と、一連の高ゲイン増幅画像及び低ゲイン増幅画像から全焦点画像をそれぞれ形成する手段（３６，３７，３８，３９）を有する。２つの全焦点画像から適正輝度範囲の画素を抽出して画素合成を行う（４３）。増幅手段のゲイン情報と画素合成手段（４３）からの出力信号とに基づいて、増幅率補正された全焦点画像を形成し（４４）、増幅補正された全焦点画像についてγ補正等の輝度補正を行い（４５）、全ての画素が適正輝度範囲内の２次元画像情報を出力する。 （もっと読む）

【課題】自車両に搭載された２つのカメラから、自車両が走行している遠方の道路勾配を推定する画像処理装置を提供する。
【解決手段】自車両から予め設定された距離より近い領域を近接領域、道路面領域と近接領域が重なる領域を近接道路面領域、及び、近接領域より遠方の領域を遠方領域と設定し、左右画像における近接道路面領域及び遠方領域内のそれぞれから特徴点を検出し、左右画像における特徴点のそれぞれの３次元位置情報を計算し、左右画像のそれぞれから道路面上に存在する白線を検出し、白線を遠方領域へ延長することにより、延長した白線における遠方領域内の水平方向と奥行き方向のそれぞれの位置を推定し、複数の画像におけるそれぞれの遠方領域内における特徴点から一定の長さ以上のエッジセグメントを検出し、エッジセグメントの３次元位置情報を計算し、遠方領域における道路勾配を推定する。 （もっと読む）