【課題】高多層プリント配線基板の配線パターンを検査する際に誤報告の少ないキャリブレーション位置を決定すると共に、その検査性を評価しベリファイ作業時間を予測することができる検査システムを提供する。
【解決手段】検査システムにおいて、検査対象のプリント配線基板を構成する各層のＣＡＤデータとその層構成情報を元に検査面より透視した輝度成分マップを生成する。そして検査面を構成する輝度成分の組を求め、全組を網羅する１つ以上の輝度評価領域を決定した後、検査装置にて領域を撮像、各輝度成分に対応する統計輝度値を求め輝度成分マップに代入し、検査閾値を決定するための最適キャリブレーション位置を求め検査を行う。 （もっと読む）

【課題】第８世代や第１０世代のガラス基板に対する欠陥検査や欠陥修正に対応できる基板保持装置を実現する。
【解決手段】本発明による基板保持装置は、固定端とテンション端との間に張架されると共に第１の方向に沿って延在する支持ワイヤ（７〜１０）を含む複数のワイヤ支持機構（３〜６）と、ワイヤ支持機構の各支持ワイヤに対して第１の方向に沿って移動可能に連結されたステージ（３０）と、ステージを第１の方向に案内するガイド手段（４４）と、ステージを第１の方向に沿って移動させる駆動装置（５１，５３）とを具える。ワイヤ支持機構の各支持ワイヤは、同一の平面内において互いに平行に張架され、複数の支持ワイヤ上に基板が載置された際、当該ステージは、支持ワイヤ上に載置された基板の裏面と直接対向しながら第１の方向に移動する。ステージは、基板の裏面と直接対向しながら第１の方向に移動するので、支持ワイヤによる影響を受けることなく各種処理を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィのための検査方法を提供すること。
【解決手段】基板上でリソグラフィプロセスに使用されるリソグラフィ装置の焦点を決定するために使用される方法である。リソグラフィプロセスは、少なくとも２つの周期構造を基板上に形成するために使用される。各構造は、基板上のリソグラフィ装置の焦点の異なる関数として変化する互いに反対側の側壁角度間に非対称性を有する少なくとも１つのフィーチャを有している。放射のビームを少なくとも２つの周期構造上に導くことによって生成されるスペクトルが測定され、かつ、非対称性の比率が決定される。比率と、構造毎の焦点と側壁非対称性の間の関係とを使用して、基板上のリソグラフィ装置の焦点が決定される。 （もっと読む）

【課題】照明手段を備えた二次元測定機において、測定物を常に高コントラストで撮像できるようにするとともに、常に充分な光量を得ることできるようにする。
【解決手段】測定物（１）を拡大する顕微鏡（５）と、測定物を照明する照明手段（１１）とを備えた二次元測定装置において、照明手段は、それぞれ異なる波長（λ_１、λ_２、λ_３、λ_４、λ_５）の光（１４）を出射する複数のＬＥＤ照明（１２）を備えており、複数のＬＥＤ照明のうちから選択した１つのＬＥＤ照明から出射された光（１４）が、コリメータレンズ（１３）で平行光線とされ、顕微鏡内に配置された半透明プリズム（１６）で測定個所（２０）に向けて反射される。 （もっと読む）

【課題】被検査物が複雑な形状である場合でも、精度よく欠陥検出をすることができる欠陥検方法および欠陥検出装置を提供することを目的とする。
【解決手段】欠陥検出方法は、被検査物を撮像し、撮像画像データを取得する撮像工程ＳＴ１と、エッジ検出工程ＳＴ３と、頂点検出工程ＳＴ４と、基準検出工程ＳＴ６と、欠陥検出工程ＳＴ９とを備える。基準検出工程ＳＴ６はエッジ追跡方向に沿って順に各頂点のエッジ回転方向を検出した際に、エッジ回転方向の向きが変化する頂点の直前の頂点を基準点として設定し、エッジ追跡方向に沿う基準点間のエッジに対し、後段の基準点におけるエッジ回転方向を基準回転方向として設定し、欠陥検出工程ＳＴ９は基準点間のエッジを追跡し、エッジ回転方向が、基準回転方向と異なる点を欠陥点として検出する。 （もっと読む）

【課題】パターン付基板を検査対象とした欠陥検査において，実際の検査対象物物が存在しない状態で、検査条件を設定することにより、検査装置の稼働率を向上させる。
【解決手段】パターン設計データ１１１から得られるパターンデータを基本パターンに分解（１２１）し、プロセス条件データ１１２、材料定数データ１１３、装置パラメータ１１５を加味して基本パターンの検出出力の計算を行い（１２２）、基本パターンの検出出力を統合して推定画像を作成する（１２４）。一方、基本欠陥データ１１４、材料定数データ１１３、装置パラメータデータ１１５を用いて欠陥の出力データを作成する（１２３Ａ）。推定画像１２４および欠陥データ１２３Ａを用いて検査装置の検査条件を設定する。これによって検査条件をオフラインで設定でき、装置の稼働率を向上させることが出来る。 （もっと読む）

【目的】検査時間の増大を抑制しつつ、検査精度を向上させるパターン検査装置を提供する。
【構成】被検査試料のパターン面に形成されたパターンを検査するパターン検査装置であって、光源と、パターン面のフーリエ変換面に設けられ光源から射出された光線を異なる形状および方向を有する第１および第２の照明光に分割する機能を備える光学素子を有し、第１および第２の照明光によりパターン面の第１および第２のパターン領域をそれぞれ異なる照明条件で照明する照明光学系と、第１および第２のパターン領域を照明した第１および第２の照明光を透過する対物レンズと、第１および第２の検出センサと、対物レンズを透過した第１および第２の照明光をそれぞれ第１および第２の検出センサに結像する第１および第２の結像光学系とを備えることを特徴とするパターン検査装置。 （もっと読む）

【課題】本発明は、パターン検査の検査精度を向上させることができるパターン検査装置、パターン検査方法、および微細構造体の製造方法を提供する。
【解決手段】被検査体に形成されたパターンに関する参照データと、前記パターンを検出することで得られた検出データと、を比較して前記パターンの検査を行うパターン検査装置であって、前記パターンを複数の領域に分割して前記複数の領域毎または前記複数の領域間毎の補正条件を求め、前記複数の領域毎または前記複数の領域間毎の少なくともいずれかにおいて対応する補正条件を適用して前記参照データを作成する補正処理部を備えたこと、を特徴とするパターン検査装置が提供される。 （もっと読む）

【課題】複数のカメラを備えた３次元形状測定装置において、真値に近い内部パラメータと外部パラメータとを算出して被測定物の測定精度を向上させることができるキャリブレーション方法を提供する。
【解決手段】３次元形状測定装置は、カメラ１２Ｒ，１２Ｌにより互いに異なる５つの視点から撮像して複数の特徴点の位置が既知の既知パターン画像撮像データＫＤと濃淡が連続的に変化するグレースケール画像データＧＤとを取得するとともに、取得データに基づいてカメラ１２Ｒ，１２Ｌの内部パラメータＡ、外部パラメータ［Ｒ，ｔ］、回転ベクトルＲＶ_ｎおよび並進ベクトルｔｖ_ｎを計算する。そして、回転ベクトルＲＶ_ｎと並進ベクトルｔｖ_ｎとを用いて基準視点に向きを合わせた射影グレースケール画像ＰＧ_ｎと基準視点におけるグレースケール画像Ｇ_０との総ての画素値の差の総和が最小となるように内部パラメータＡと外部パラメータ［Ｒ，ｔ］とを最適化する。 （もっと読む）

【課題】導体パターンの検査と、導体パターンから露出する絶縁層の上に存在する異物の検査とを、容易かつ同時に実施することのできる、配線回路基板の製造方法を提供する。
【解決手段】ベース絶縁層２と、その上に形成される導体パターン３とを備える配線回路基板１を用意し、配線回路基板１を、支持台４の上に配置し、光１０を、配線回路基板１の上側から配線回路基板１に向けて照射することにより、パターン反射光７と台反射光８と異物反射光９とを検知して、それらの間のコントラストによって、導体パターン３および異物１１を検査する。この検査工程において、台反射光８の反射率を３０〜７０％に調整し、異物反射光９の反射率を１０％以下に調整する。 （もっと読む）

【課題】撮像画像に写った矩形枠の四つ角を撮像画像の歪みの影響によらず正しく検出可能な「画像処理装置および矩形枠の四つ角検出方法」を提供する。
【解決手段】輪郭形状抽出部３１によって撮像画像中から抽出された輪郭形状２０２の内部を塗り潰す塗り潰し部３２と、塗潰し画像２１０の外周に沿って円形の走査点２２０を１画素ずつ順次走査させ、各走査点２２０の周囲に設定した検出枠２２１のコーナー値を算出するコーナー値算出部３３と、全走査点２２０に対応するコーナー値のうち、値が小さい方から４つに対応する走査点２２０を輪郭形状２０２の四つ角として検出する四つ角検出部３４とを設け、矩形枠が写った撮像画像中の輪郭形状に外接する長方形の中心点からの距離とは無関係に、輪郭形状の中で最も角度が小さい方から４つの点を矩形枠の四つ角として検出することができるようにする。 （もっと読む）

【課題】二次元測定機で線幅を測定する際に、照明レベルが線幅測定の安定領域に維持されるように、自動調光のパラメータ設定を作業員に負担をかけずに短時間で容易にできるようにする。
【解決手段】測定物を照明する照明装置と、測定物を撮像する撮像部と、該撮像部からの映像信号の輝度変化から線の縁を検出して線幅を測定できる二次元測定装置において、照明装置の照明レベルを段階的に変化させる照明レベル変化手段（Ｓ６、Ｓ７、Ｓ８、Ｓ１５）と、照明レベルの各段階毎に線幅を測定する線幅測定手段（Ｓ９〜Ｓ１３）と、線幅、該線幅を測定したときの照明レベル、最大輝度及び最小輝度を記憶する測定値記憶手段（Ｓ１４）と、記憶した測定値に基づいて線幅測定の安定領域を検出して映像信号の輝度範囲を設定する輝度設定手段（Ｓ１６）と、映像信号の輝度を設定された範囲内に保持する自動調光手段とを備える。 （もっと読む）

【課題】パターン形状に起因するパターンの加工不良を正確かつ容易に検証できるパターン検証方法を提供すること。
【解決手段】基板上に生成されるパターン形状４３からパターン形状４３の輪郭４４を抽出する輪郭抽出ステップと、輪郭４４上にパターン形状４３の検証位置となる評価点ｐ１〜ｐ７を所定の間隔で設定する評価点設定ステップと、評価点ｐ１〜ｐ７における輪郭４４上の曲率を算出する曲率算出ステップと、曲率が予め設定された所定の閾値を満たすか否かに基づいて、パターン形状４３を検証する検証ステップと、を含む。 （もっと読む）

【課題】 ウェーハを検査するための方法およびシステム。
【解決手段】 このシステムは、光検査ヘッド、ウェーハテーブル、ウェーハスタック、ＸＹテーブルおよび振動絶縁装置を含む。光検査ヘッドは、複数の照明器、画像収集装置、対物レンズおよび他の光学部品を含む。このシステム及び方法は、明視野画像、暗視野画像、３Ｄ形状画像および検査画像の収集を可能にする。収集画像は、画像信号に変換され、かつ処理のためにプログラマブルコントローラに伝送される。ウェーハが動いている間、検査が実行される。収集画像は、ウェーハ上の欠陥を検出するための基準画像と比較される。基準画像を作り出すための例示的な基準作成プロセスおよび例示的な画像検査プロセスもまた、本発明によって提供される。基準画像作成プロセスは、自動プロセスである。 （もっと読む）

【課題】本発明は、集積回路ダイ又はチップを特徴とする半導体ウェーハのパターン化構造において、ランダムに存在する製造欠陥を電気光学的に検出するための方法及びシステムに関する。
【解決手段】パルス式レーザの短い光パルスで、顕微鏡レンズを有する電気光学カメラシステムの視野を照射し、各々４つの二次元ＣＣＤマトリックス光検出器のアレイを含む６つの検出器集合体から形成された光学撮像システムの焦点面に光検出器の表面を光学的に形成する焦点面アセンブリ上に移動中のウェーハを撮像する。二次元ＣＣＤマトリックス光検出器の各々が、２００万ピクセルのマトリックス電子画像を作成し、異なるＣＣＤマトリックス検出器の同時作成画像を画像処理技術により並行処理し、撮像視野を、基準となる別の視野と比較し、対応ピクセルの差異を、ウェーハダイ欠陥の存在を示すものとして検出する。 （もっと読む）

【課題】繰り返しパターンの異常の原因を特定することが可能な評価装置を提供する。
【解決手段】評価装置１において、第１撮像素子３１は、検光子２１の透過軸の方位が偏光子１７の透過軸に対して９０度±３度の傾斜角度となるように検光子２１を回転させて、それぞれの条件でフーリエ画像を撮像し、演算処理部４０は、２枚のフーリエ画像における信号強度の差分に基づいて、ドーズ量の変化に起因する繰り返しパターン３の状態変化を検出し、２枚のフーリエ画像における信号強度の平均に基づいて、フォーカスの変化に起因する繰り返しパターン３の状態変化を検出するようになっている。 （もっと読む）

【課題】回路パターンの欠陥検査方法では、基準となるパターンの画像データを膨張・収縮といった操作を行い、許容できる最大の寸法と最小の寸法を有するマスタパターンを作製し、被検査物から得た画像データをこのマスタパターンと比較することで欠陥を発見する。このマスタパターンを作製する膨張・収縮という画像処理においては、画素毎にその周囲の画素を加減する処理が行われるが、様々な線幅が含まれる基準パターンの場合は線幅の比率によって一定の割合で膨張・収縮することが困難であった。
【解決手段】基準パターンに属する画素に背景からの距離データを付与し、周辺の画素に自分より大きな距離データがなくなるまで画素を削除し、基準パターンの骨格を代表する骨格パターンを作製する。この骨格パターンに属する画素が有する距離データに所定倍率をかけた範囲にある画素をマスタパターンとする。 （もっと読む）

【課題】自動車のナンバープレート等の標板等の表示内容を、出荷される形態で画像処理技術によって確実に検査すること。
【解決手段】予め設定された生産データを基に、検査対象の標板を一連の撮像工程によって撮像し、画像処理を用いた判定工程によって、前記検査対象の標板が前記生産データにて指示されたものであることを照合して確認するともに、照合の結果生成された標板データを用いて管理用データを生成する標板検査方法である。具体的には、外部から収納物を撮像可能な構造の収納袋に、複数枚の標板の表面の文字や図形を同時に撮像可能な状態に収納する収納工程と、前記複数枚の標板の表面の文字や図形を同時に撮像する撮像工程と、撮像された画像を解析して、前記複数枚の標板に、それぞれ所定の文字や図形が標示されているか否かを判定する判定工程とを含んでいる。 （もっと読む）

【課題】
干渉光学系において干渉縞のある取得画像からアライメントマーク位置を検出する方法およびこれを用いた高速な装置を提供する。
【解決手段】
干渉光学系における撮像画像は撮像対象面３０Ａと参照面１５から同一光路を戻る反射光同士の干渉現象により、撮像装置１９で撮像した画像には干渉縞が現れる。このとき、分布干渉縞の角度θだけ画像を回転させた回転画像を作成し、その画像に対して１次元微分フィルタを掛けることにより干渉縞の輝度変動の影響を無くす事が出来、取得画像のアライメントマークの位置を正しく検出する事が出来る。 （もっと読む）

【課題】検査対象を撮像して検査する場合の検査の高速化を図る。
【解決手段】ラインセンサカメラ６を、液晶パネル９に対して、矢符Ａ１に示すように正方向に移動させて液晶パネル９を撮像し、矢符Ｂ１に示すようにライン幅方向にずらし、矢符Ａ２に示すように逆方向に移動させて液晶パネル９を撮像し、以下同様にラインセンサカメラ６を、正方向および逆方向に移動させて液晶パネル９を１ライン分ずつ撮像する。正方向に移動させて撮像した画像３０と、逆方向に移動させて撮像した画像３１とは、上下が反転するので、正逆方向判別部１７でいずれの方向であるかを判別し、画像処理部１８では、テンプレート画像１９を、判別された方向に応じて、反転処理し、あるいは、反転処理することなく、マッチングを行い、更に、欠陥を検査する。 （もっと読む）