【課題】めっき処理時に見られるような線幅の太りがなく、かつ簡便な方法によって、高精細かつ高導電性の配線パターンが得られる導電性材料の製造方法を提供する。
【解決手段】基材の少なくとも一方の面に銀画像パターンを形成する工程と、該銀画像パターン上に銀を主体とする金属微粒子を含む金属コロイド溶液を塗布し金属微粒子膜を形成する工程と、該銀画像パターンと該銀画像パターン上の金属微粒子膜に対して水溶性ハロゲン化物を作用させる定着工程と、水洗工程を少なくともこの順に行うことを特徴とする導電性材料の製造方法。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、高精細な配線パターンが要求され、且つ、高い導電性が求められる用途の導電性パターンの形成方法において、導電性を低下させることなく、且つ厚付け無電解めっき浴を用いてめっきした際に導電性パターン以外の部分に発生する好ましくない金属の析出を抑制した導電性パターンの形成方法を提供することにある。
【解決手段】基板上に、少なくとも一層の感光性ハロゲン化銀乳剤層を有する写真感光材料を、（Ａ）画像状露光、（Ｂ）硬化現像処理、（Ｃ）未硬化部の除去を実施した後、無電解めっき処理を施すまでの処理工程の少なくとも一工程で、ハロゲン化銀溶剤を含有する処理剤で定着処理することを特徴とする導電性パターンの形成方法。 （もっと読む）

【課題】透過率の高い光透過性導電膜及び電磁波遮蔽材料を提供する。
【解決手段】支持体上にハロゲン化銀粒子を含む少なくとも１層の乳剤層を有する感光材料をパターン露光後、連続して現像処理工程、定着処理工程、物理現像処理工程を施すことによる導電性金属部形成方法において、更に、銀溶解処理工程を施すことを特徴とする導電性金属部形成方法及び光透過性導電膜、並びに光透過性が高い電磁波遮蔽材料。 （もっと読む）

【課題】導電性材料の製造方法において、透明性と導電性が共に高く、かつ生産性の良い導電性材料が得られるための製造方法を提供する。
【解決手段】支持体上に少なくとも１層のハロゲン化銀乳剤層を含有する導電性材料前駆体を露光後、現像処理、定着処理、めっき処理を少なくともこの順に施す導電性材料の製造方法において、該導電性材料前駆体を露光、現像後にチオ硫酸塩を含有しないか、若しくは０．０５モル／Ｌのチオ硫酸塩を含有する定着液で定着処理することを特徴とする導電性材料の製造方法、若しくは支持体上に少なくとも１層のハロゲン化銀乳剤層を含有する導電性材料前駆体を露光後、現像処理、めっき処理、定着処理を少なくともこの順に施す事を特徴とする導電性材料の製造方法を用いる。 （もっと読む）

【課題】 高電導度と高透光性の導電性膜を提供すること。さらに細線パターン形成された高いＥＭＩシールド性と高い透明性とを同時に有する電磁波シールド膜を提供すること。電磁波シールド能を劣化させることなく膜を安価に大量生産できる透過性電磁波シールド膜及び導電性膜の製造方法を提供すること。
【解決手段】 黒白ハロゲン化銀写真感光材料に現像処理と定着処理を施して金属銀部を形成し、続いて該金属銀部にめっき処理して導電性を付与する工程を少なくとも含む導電性膜の製造方法に用いる定着液であって、該定着液が処理温度３０℃〜６０℃、かつ、処理時間５秒〜４０秒で用いられることを特徴とする透光性導電性膜形成用定着液。これを用いた透光性導電性膜、透光性電磁波シールド膜。 （もっと読む）