【課題】官能基の濃度が高く充分な官能基の特性を得ることができ、幅広い波長領域において高い透明性を有する含フッ素ポリマーおよびその製造方法、ならびに該含フッ素ポリマーを含むレジスト組成物の提供。
【解決手段】下記式で表される含フッ素モノマーが環化重合してなるモノマー単位に由来する単位を有する含フッ素共重合体。
ＣＦ₂＝ＣＦＣＦ₂Ｃ（ＣＦ₃）（ＯＲ⁷）−（ＣＨ₂）_nＣＲ⁵＝ＣＨＲ⁶
（式中、Ｒ⁵およびＲ⁶は、それぞれ独立に水素原子、フッ素原子または炭素数１２以下のアルキル基を表す。Ｒ⁷は、酸によって水素原子に置換される基であり、炭素数２０以下のアルキル基、炭素数１５以下のアルキルカルボニル基、炭素数１５以下のアルコキシカルボニル基またはＣＨ₂Ｒ⁸（Ｒ⁸は炭素数１５以下のアルコキシカルボニル基である。）。 （もっと読む）

【課題】官能基の濃度が高く充分な官能基の特性を得ることができ、幅広い波長領域において高い透明性を有する含フッ素ポリマーおよびその製造方法、ならびに該含フッ素ポリマーを含むレジスト組成物の提供。
【解決手段】下記式で表される含フッ素モノマーが環化重合してなるモノマー単位に由来する単位を有する含フッ素共重合体。
ＣＦ₂＝ＣＦＣＦ₂Ｃ（ＣＦ₃）（ＯＲ⁷）−（ＣＨ₂）_nＣＲ⁵＝ＣＨＲ⁶
（式中、Ｒ⁵およびＲ⁶は、それぞれ独立に水素原子、フッ素原子または炭素数１２以下のアルキル基を表す。Ｒ⁷は、酸によって水素原子に置換されない基であり、炭素数２０以下のアルキル基、炭素数１５以下のアルキルカルボニル基、炭素数１５以下のアルコキシカルボニル基またはＣＨ₂Ｒ⁸（Ｒ⁸は炭素数１５以下のアルコキシカルボニル基である。） （もっと読む）

【課題】化学増幅ポジ型レジスト材料として使用されて高解像性、優れた基板密着性を有し、現像後に側壁荒れの小さいパターンを与える。
【解決手段】酸と反応してアルカリ現像液に可溶な極性基を与える基を有する繰り返し単位と、式(1)及び／又は(2)で示される含フッ素ジエンが環化重合してなる繰り返し単位と、式(3)〜(7)で示される単量体から選ばれる単量体に基づく繰り返し単位とを含有する高分子化合物(A)、酸発生化合物(B)、及び有機溶剤(C)を含むレジスト材料。 CF₂=CFCF₂C(CF₃)(OH)CH₂CH=CH₂ (1) CF₂=CFCH₂CH(C(CF₃)₂OH)CH₂CH=CH₂ (2)
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【課題】 脂環式オレフィンのメタセシス開環重合体を含有してなる感放射線性樹脂組成物を安全に且つ簡便に短時間で製造する方法、この方法によって得られる感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 溶媒中で開環メタセシス重合触媒と連鎖移動剤との存在下に脂環式オレフィンを重合して得た脂環式オレフィン開環メタセシス重合体含有重合反応溶液に、感放射線化合物を配合することを特徴とする感放射線性樹脂組成物の調製方法。上記脂環式オレフィン開環メタセシス重合体含有重合反応溶液を水素添加反応に供して該重合反応溶液に含まれる重合体を水素添加して得た脂環式オレフィン開環メタセシス重合体水素添加重合体含有反応溶液に感放射線化合物を配合する感放射線性樹脂組成物の調製方法。この感放射線性樹脂組成物の調製方法により得られた感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

２５０ｎｍ以下のエキシマレーザーのレジスト材料用ベースポリマーに好適な含フッ素ポリマーを提供すること。下記式（３）で表される含フッ素ジエン化合物が環化重合したモノマー単位を有する含フッ素ポリマー。ＣＦ_２＝ＣＦＣＦ_２−Ｃ（ＣＦ_３）（Ｒ^５）−ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２ （３）ただし、Ｒ^５は−ＣＨＲ^７−Ｏ−Ｒ^８によりブロック化された水酸基または該水酸基を有する有機基であり、Ｒ^８は、置換基を有していてもよいシクロアルキル基などの環式飽和炭化水素、該環式飽和炭化水素を有する有機基を表す。 （もっと読む）