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Fターム[2H045CB02]の内容

機械的光走査系 (27,008) | その他の走査歪補正、制御、特性改善 (1,830) | ビーム径(ビーム整形を含む) (776) | 一走査線上での変化 (268)

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【課題】光学結晶で偏向した光ビームを照射対象物の所定の位置に一定時間以上照射しても、光ビームのビームスポット径の歪みを抑制することができる光偏向装置、光走査装置および画像形成装置を提供する。
【解決手段】光偏向素子3で+θ1偏向された光のうちの半分が、第1ハーフミラー43により反射され、照射対象物Tの所定の位置Aに照射される。また、光偏向素子3で−θ1偏向された光のうち半分が、第2ハーフミラ−43により反射され、反転ミラー46で反転され再び第2ハーフミラー44へ入射する。そして、第2ハーフミラー44、第1ハーフミラー43を透過した光が、照射対象物Tの偏向角度が+θ1のときの光が照射する箇所と同じ箇所Aに照射される。 (もっと読む)


【課題】装置構成が簡易であり、容易に良否検査が可能なビーム走査検査装置およびビーム走査検査方法を提供する。
【解決手段】主走査方向においてスポット径よりも幅の狭い領域で受光し、主走査方向における複数の像高位置で走査光学系から射出されたビームのピーク光量をビーム走査している状態で算出し、主走査方向における各像高位置に対するピーク光量を基に良否を検査する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、光源と偏光部材との間に偏光ビームスプリッタを介したことに起因して生じる光量ムラの発生を抑制可能な光走査装置を提供する。
【解決手段】
レーザビームを、ポリゴンミラー151により偏向させ、反射ミラー群20を介して、感光体ドラム31Y〜Kを露光走査する光走査ユニット10であって、
直線偏光のレーザビーム群LKおよびLSをそれぞれ出射する光源部22Kおよび22Sと、それぞれ異なる方向から入射したレーザビーム群LKおよびLSを、その偏光面の傾きに応じて透過・反射させることにより、ポリゴンミラー151に向かう同一の光路上に射出するビームスプリッタユニット120と、これから選択的に射出されるレーザビーム群LKおよびLSに応じて光学軸の方位角が異なる1/4波長板124bを透過させて、各直線偏光のレーザビーム群LKおよびLSを、円もしくは楕円偏光状態に変換する円偏光部材124とを備える。 (もっと読む)


【課題】光束を分離して光学性能を測定可能であって、かつ、感光体を露光する光束に光学性能の悪化や変化を生じないようにした光走査光学装置を得る。
【解決手段】レーザダイオード11から放射された光束をポリゴンミラー14で偏向し、偏向された後の光束を走査レンズ21,22を透過させ、感光体40上に集光させる光走査光学装置。走査レンズ21,22を経た後の光束を反射及び透過させて分離するハーフミラー24と、光束の光学性能を測定するためのセンサ25とを備えている。ハーフミラー24に至る光束が収束光又は発散光であり、ハーフミラー24で反射された光束が感光体40上に導かれ、かつ、ハーフミラー24を透過した光束がセンサ25に導かれる。 (もっと読む)


【課題】オーバーフィル光学系を備えた光学走査装置であって、光学系の設計や製造が容易でありながら、被走査面の走査方向における走査位置での光量を均一化できるオーバーフィル型光学走査装置及びそれを備えた画像形成装置を提供する。
【解決手段】オーバーフィル光学系301を備えた光学走査装置300は、入射ビームLiを被走査面21aに垂直であり、かつ、出射ビームLoの走査方向Xに垂直な仮想垂直面αに対して角度θを持たせた状態で回転多面鏡320の反射面321に入射させるようになっており、出射ビームLoにより被走査面21aを走査するときの被走査面21aでの走査方向Xにおける位置に対する光量の変化割合を表した直線Qの傾きに基づいて被走査面21aでの走査方向Xの位置に対する光量分布を補正する。 (もっと読む)


【課題】走査位置ごとの光ビームのピントずれを、比較的に簡単でかつコスト的にも有利な手法で補正する。
【解決手段】走査光学装置は、たとえば、入力された画像データに応じてパルス幅変調された光ビームを出力する光源と、光ビームが像担持体上を主走査方向に走査するよう、光ビームを偏向する偏向手段とを含む。とりわけ、走査光学装置は、像担持体上の主走査方向における走査位置ごとの光ビームのピントずれに応じて、各走査位置ごとに、光ビームに適用されるパルス幅及び光量を補正する補正手段を含むことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 一回の走査の実行中に走査の角度に対応して発生する結像ずれを低減させることが可能な光走査装置、および光走査装置の制御方法、並びにこれを用いた画像形成装置を提供することを課題とする。
【解決手段】 光源から出射された光束を被走査面に反復して偏向走査する光偏向手段と、前記光束を前記被走査面近傍に結像する結像光学素子と、前記光源から前記光偏向手段までの光路中に配置された可変焦点光学素子と、各回の偏向走査実行中に前記可変焦点光学素子の焦点距離を変化させ、走査角度毎に異なる光路差に起因する前記被走査面における結像ずれを所定範囲内に補正する焦点制御装置と、を有することを要件とする。 (もっと読む)


【課題】被走査面上における各走査位置での主走査方向の走査ビームスポット径を均一に保ち、かつ、ビームスポット径の小径化をはかることができ、高解像度の画像形成が可能な光走査装置、及びそれを用いた画像形成装置を提供する。
【解決手段】光源と、前記光源を変調駆動する光源駆動手段と、被走査面上の走査位置に応じた所定の画素のパルス幅情報を保持するパルス幅情報保持手段と、前記光源からの光束(201〜204)を偏向走査する反射面を有する偏向手段(106)と、該偏向手段により偏向された光束を被走査面上に結像させる走査結像光学系とを有し、前記パルス幅情報保持手段は、被走査面における走査位置による主走査ビームスポット径の偏差を相殺するようなパルス幅情報を保持し、前記光源駆動手段は、前記パルス幅情報保持手段の情報に基づいて光源を駆動することを特徴とする光走査装置である。 (もっと読む)


【課題】 光走査装置における光学系の曲がりのプロファイルデータを光走査装置に持たせる場合、そのメモリなどの配置を考慮しないと、基板サイズや配線のために必要となるスペースが大きくなってしまう。
【解決手段】 第1の発光源と光検出手段は第1の基板に実装され第2の発光源と記憶手段は第1の基板とは異なる第2の基板に実装する。 (もっと読む)


【課題】画像形成装置の潜像書込手段等に用いられる光走査装置において、光偏向器として共振構造の正弦波振動を行うマイクロミラーを用いる場合、従来のポリゴンミラーに対するfθレンズの代わりに、f・arcsinレンズを用いるが、被走査面上での主走査光束のスポット径の像高間偏差が大きくなり、この問題を抑えようとすると走査等速性に問題が生ずる。
【解決手段】像高に対応する走査速度の変化分を補正するように、像高に対応させて静止ビームスポット径を設定する。偏向器を駆動して、走査用ビームが被走査面を走査するとき、1ドットの描画中に静止ビームスポット径が移動することにより長円形の走査ビームスポット径ができる。像高によって走査速度が小さくなる場合、静止ビームスポット径を大きめに設定しておくと、結果的に像高によらず走査ビームスポット径が略一定となる。 (もっと読む)


【課題】光源から放たれた光線を走査する光走査装置において当該光線の強度ムラを抑制する。
【解決手段】レーザ走査装置13は、レーザダイオード101から放たれたレーザビームを回転多面鏡106に反射させることによって主走査方向に沿ってレーザビームを走査する走査光学系100と、走査されたレーザビームを入射し且つ当該入射したレーザビームを感光体ドラム17に向けて反射する折り返しミラー205とを有する。折り返しミラー205は、S偏光成分に対する反射率がP偏光成分に対する反射率よりも高くようにレーザビームを反射する特性を有している。また、折り返しミラー205に反射される前のレーザビームに関し、前記主走査方向での前記光線の走査範囲において当該走査範囲の中央から遠い光線ほど第2偏光成分の含有率が低く且つ第1偏光成分の含有率が高くなるように走査光学系100が設定される。 (もっと読む)


ビームディスプレイシステム走査用の複数の平行な発光ストライプを有する多層スクリーンである。発光材料は、リン光体材料および非リン光体材料を含みうる。 (もっと読む)


【課題】感光体ドラムに照射されるレーザ光の出力を高速に制御することができるようにする。
【解決手段】本発明に係る光走査装置およびこの光走査装置を備える画像形成装置においては、発光部56は、予め所定の出力に設定された複数のレーザ光を発光し、走査部57は、発光された複数のレーザ光を偏向して走査し、レーザ光出力設定部55は、複数のレーザ光の走査位置が同一のライン上で主走査方向に時系列的に配列されるように発光部を配置し、複数のレーザ光を用いて、感光体上に照射されるレーザ光の出力を設定し、書き込み部58は、走査された複数のレーザ光を用いて、設定された感光体上に照射されるレーザ光の出力で感光体に画像を書き込む。 (もっと読む)


【課題】 正弦振動する偏向ミラー面により光ビームを偏向するとともに、該偏向光ビームを走査光学系により被走査面にスポット状に結像する光走査装置において、該スポットの等速走査性を実現しつつ、かつ像面湾曲やスポット径等の光学特性を良好に実現することを可能にする。
【解決手段】 最大走査領域の主走査方向の端部に対応する走査角θの絶対値を最大走査角と定義し、走査光学系の光軸に垂直であって偏向ミラー面651と走査光学系との間に位置する仮想平面と偏向光ビームの主光線との交点を仮想交点と定義したとき、制御手段は、最大走査角における仮想交点の主走査方向への速度が、走査角が0における仮想交点の主走査方向への速度以上で、且つ、最大走査角において走査角の絶対値の増大に対する仮想交点の主走査方向への速度変動が減少傾向となるように偏向ミラー面の振幅角を調整することで、仮想交点の主走査方向への等速性を補償する。 (もっと読む)


【課題】光偏向器を備えた光走査装置において、光線の走査速度分布により生じる光量の強度変化を抑制するとともに画素サイズを均一化することにより、高品位な画像を形成することが可能な光走査装置を提供する。
【解決手段】光を出射する光源と、光源から出射された光を反射し、反射した光を対象物に走査させる光偏向器と、を備えた光走査装置において、光源の作動を制御する制御部と、対象物が走査される一走査ラインを均等な間隔の複数の走査区間に分割し、光偏向器による光の走査区間を検出する走査区間検出手段と、を有し、制御部は、走査区間検出手段が検出した走査区間に基づいて、光源の発光時間を調整する。 (もっと読む)


【課題】優れた光学特性を有し、且つ製造容易である走査光学系を提供する。
【解決手段】走査光学系は、光源からの光束を偏向する偏向器と、偏向器からの光を被走査面上に合焦させるためのレンズであって、少なくとも1つの回折面を有する走査レンズとを備えている。走査光学系は下記数式(1)を満足する。lossMAX<0.005 ・・・・・(1) ここで、lossMAX:回折面のパワーが正である場合に下記数式(2)で与えられる一方、回折面のパワーが負である場合に下記数式(3)で与えられる値の走査範囲における最大値、である。


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【課題】有効走査角度が広く、被走査面上での光量分布不均一を抑え良好な画質の光走査装置を提供する。
【解決手段】EOS/SOS光量比は有効走査角度θが大きくなるほど、また有効走査画角中央と偏向反射面26に入射する光束中心軸のなす角度αが大きくなるほど低下していく。また、D/Wが小さくなるほどEOS/SOS光量比は相対的に低下する。本発明では有効走査画角中央と偏向反射面に入射する光束中心軸のなす角度αを30°〜75°に限定することによりEOS/SOS光量比を0.90以内に抑えることが出来、濃度ムラの少ない良好な画像を提供することができる。 (もっと読む)


【課題】高価なfθレンズを使用しなくても、レーザビームの走査幅内において当該レーザビームのスポット径が走査位置によってばらつくのを防止する。
【解決手段】本発明に係る画像記録装置1は、レーザビームLを集光して形成したスポットを記録プレート2上で走査し、当該記録プレート2に面積階調のドット画像を記録するものであり、点灯してレーザビームLを出射するレーザ光源4と、レーザビームLの出射を受けるシリンドリカルレンズ6と、レーザビームLの伝播経路に沿って移動してシリンドリカルレンズ6を同方向に移動させる移動ステージ(図示略)と、レーザ光源4の点灯時間と移動ステージ8の移動量とを制御する制御装置(図示略)と、を備えている。 (もっと読む)


【課題】 正弦振動する偏向ミラー面により偏向走査される光ビームを被走査面上にスポット状に結像する光走査装置および該装置を装備して被走査面上に潜像を形成する画像形成装置において、小型で簡易に、被走査面上でのスポット径を均一化しながらスポットを等速走査させる。
【解決手段】 ミラー長さ方向XXに沿った偏向ミラー面651の長さは入射中心位置CPで長さWcpとなっており、揺動軸(駆動軸)AXと平行な駆動軸方向Yにおいて最も短い。そして、偏向ミラー面651の長さは入射中心位置CPから駆動軸方向Yの両側(図面中の上下側)に離れるにしたがって長くなっており、上端および下端で長さWegで最長となっている。また、入射光ビームのスポット寸法Wspが入射中心位置CPでの偏向ミラー面651の長さWcpよりも長くなっている。 (もっと読む)


【課題】 被走査面上における結像性能の劣化と走査線湾曲を補正し、高精細で高画質な画像を形成することができる光走査装置及びそれを用いた画像形成装置を得ること。
【解決手段】 光源手段1と、該光源手段から出射された光束を偏向手段6に入射させる入射光学系5と、該偏向手段で偏向反射された光束を被走査面9上に導光する結像光学系18と、を有する光走査装置において、 該結像光学系は主走査方向と副走査方向とでパワーの異なるトーリックレンズ8を有し、該トーリックレンズの一方の面R2は子線曲率中心を結んだ曲線が同一の平面上に無い形状であり、他方の面R1は子線曲率中心を結んだ曲線が同一の平面Ha上に存在する形状に設定されていること。 (もっと読む)


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