【課題】表示する画像が小さくても、人間に対して画像の存在を認識させやすく、そして、画像の表現力を高めることができる画像形成装置を提供すること。
【解決手段】画像形成装置１は、所定の軸線まわりに回動可能に支持され、光を走査することにより画像を表示するプロジェクター２と、プロジェクター２を回動させる駆動手段６と、画像の表示位置に基づいて、画像の歪みを補正する歪み補正手段とを有する。プロジェクター２は、所定の軸線まわりの回動により、表示面９１ａに形成される第１の描画領域に光を走査することにより画像を表示する第１の状態と、第１の描画領域とは異なる位置で表示面９１ｂに形成される第２の描画領域に光を走査することにより画像を表示する第２の状態とを切換可能に構成されている。 （もっと読む）

【課題】装置自体の発熱や環境温度変化によりｆθレンズの温度が変化する場合でも、制御装置側の処理負担が小さく、加工形状や加工位置精度に優れるレーザー加工機を提供すること。
【解決手段】加工に先立ち、ｆθレンズ９の温度を測定する。ＮＣ制御装置では、ｆθレンズ９の温度よりワークディスタンスの補正量と、加工焦点距離の補正量を計算する。ワークディスタンスは、ｆθレンズ９の光学特性の変化による加工位置のずれをキャンセルするように調整し、加工焦点がプリント基板表面に合うようにコリメータレンズ１５の間隔を調整する。 （もっと読む）

【課題】例えばＶＣＳＥＬ等を用いたマルチビームのレーザ走査装置において、すべてのレーザビームに効率よく高精度な副走査方向の走査線の湾曲補正を行う。
【解決手段】複数のレーザビームにより複数の走査線を同時に感光体上に結像するレーザ走査装置であって、複数の走査線の副走査方向の湾曲量を検出し、前記複数の走査線の各走査線に対して、それぞれ対応する副走査方向の湾曲量の補正を行なう。前記湾曲量の検出では、２つの走査線の副走査方向の湾曲量を検出し、前記２つの走査線の間の走査線の副走査方向の湾曲量を、検出した前記２つの走査線の副走査方向の湾曲量に基づいて算出する。 （もっと読む）

【課題】スリットの長さ方向の分解能を高めることができるスリット走査共焦点顕微鏡を提供する。
【解決手段】ダブプリズム１１を走査光学系６と対物レンズ７との間に入れると、光束が９０°回転し、スリット２の像と走査方向が９０°回転する。よって、ダブプリズム１１を走査光学系６と対物レンズ７との間に入れた状態と入れない状態で撮像を行って検査対象物７の画像を２種類作成し、これらを合成することにより、スリット２の長さ方向の分解能を高めることができる。 （もっと読む）

【課題】
３種類以上の解像度切替（走査線間隔の変更）が可能な画像形成装置の露光装置を提供する。
【解決手段】
光源(4a, 4b, 4c)から偏向手段(3)までの光路上に、光源からの複数本のレーザビーム(La, Lb, Lc)を平行光に変換する第１レンズ(32)と、第１レンズからの複数本の平行光を、主走査方向および副走査方向において収束されたビームに変換する第２レンズ(41)と、第２レンズからの複数本の収束ビームの収束点(Pa, Pb, Pc)上に配置され、光路に対し垂直な平面内で回動可能に支持される第３レンズ(42)と、第３レンズからの複数本のレーザビームを偏向手段に入射させる第４レンズ(44)とを備えた。 （もっと読む）

【課題】複数ビームによる画像形成において、ビームの重畳にかかわらず、相反則不軌の影響なく、高画質、高解像度画像を形成する画像形成装置及び画像形成方法を提供する。
【解決手段】複数のレーザビームを同時に走査して感光体１を露光し画像形成を行う画像形成装置において、書込画像で副走査方向に隣接する画像を検知する検知手段と、検知結果から前記隣接画像内で書込み走査の重複の有無を判断する判断手段と、判断結果から書込タイミングを可変する手段と、を有する画像形成装置及び画像形成方法である。 （もっと読む）

偏向ミラー１０１の位置を選択的に変えることにより異なる走査パターンを作り出す、シンボルを走査するための切り替えが可能な装置を開示する。好ましい実施例において、その偏向ミラー１０１の異なる位置によって、異なる走査パターンを作成するための異なるポリゴン走査ミラー１０４，１０５に走査光線１０７，１０８を導く。 （もっと読む）

【課題】線速を切り替えた場合でも回転偏向器の回転数を最適な回転数領域内に維持することで画像不良の発生を防止する。
【解決手段】画像形成装置における最大プロセス線速をＶｍａｘ，線速Ｖｍａｘ時における光源の光ビームの数をＮｄｅｆ，このときの回転偏向器の回転数をＲｄｅｆとした場合、プロセス線速がＶｍａｘからＶ（ただし、Ｖｍａｘ＞Ｖ）に減速された場合において、
Ｖ／Ｖｍａｘが所定の値より大きければ回転偏向器の回転数：Ｒｍ＝Ｒｄｅｆ×（Ｖ／Ｖｍａｘ）に減速するのみとし、
Ｖ／Ｖｍａｘが前記所定の値以下であれば光源の光ビームの数をＮｄｅｆ／ｍ（ｍは自然数）になるよう減少させるとともに、回転偏向器の回転数：Ｒｍ＝Ｒｄｅｆ×（Ｖ／Ｖｍａｘ）×ｍとする。 （もっと読む）

【課題】画素クロック周波数を変更した直後、不安定なクロックが出力される期間があった場合でも、適切にＢＤ点灯やＡＰＣ点灯などを行うようにそれらの点灯位置を変更する光学装置などを提供する。
【解決手段】点灯制御により光ビームを出力するＬＤ２０５と、前記光ビームを主走査方向に偏向するポリゴンミラー３０１と、前記偏向された光ビームを主走査線上で検知する光ビーム検出手段３０４と、前記ＬＤ２０５の点灯制御用の画素クロックを生成するクロック生成部３０６を有する光学装置において、前記画素クロックを基準とした点灯制御を行うときの点灯位置を、前記画素クロックの変更要求に応じて主走査方向の走査開始側へ変更する。 （もっと読む）

【課題】ポリゴンモータの回転数が２速以上のプリントモードを持つ画像形成装置において、ポリゴンモータ回転数の変更時に、レーザの強制発光を行って回転速度を変更する、もしくは、レーザ強制ＯＮ／ＯＦＦを繰り返し行うことで、安定したポリゴンモータ回転数制御と、水平同期信号の取りこぼし防止と、素早いポリゴンモータ回転数の変更を行うことと、レーザが感光ドラム面に照射する時間を減らすことが出来るのと、レーザの発射時間が短くでき、画像形成装置の寿命を延ばすことが出来る高品質な画像形成装置を提供できる。
【解決手段】ポリゴンモータの回転数の変更を伴うプリントモード変更時には、レーザ光を強制的に発射し、ポリゴンモータの回転数を制御することを特徴とする画像形成装置。 （もっと読む）

本発明は、フォトリソグラフィ用のフォトマスクの製作、並びに半導体基板などの他の基板への直接描画を含めて、工作物の生成及び精密パターン処理に関する。詳細には、本発明は、ＳＬＭ露光スタンプ・フィールド内の歪みの修正など、パターン・データに修正を適用することに関する。本発明を利用して基板上にデバイスを生成することができる。或いは、本発明は、ここで開示する方法を実施する装置、或いは、ここで開示する方法を実施するように適合されたプログラムを含む製品、特に、揮発性メモリ又は不揮発性メモリとして実施することができる。
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