【課題】反射率に影響を与えることなく、多層膜ミラーが有する内部応力の解消を図ることが可能となる多層膜ミラーを提供する。
【解決手段】Ｘ線領域における、真空の屈折率との差が相対的に大きい屈折率を有する低屈折率層と、相対的に小さい屈折率を有する高屈折率層とを、交互に積層した多層膜を基板上に有する多層膜ミラーを構成する。
そして、このような多層膜ミラーの基板１１と多層膜１５との間に、元素の一部に置換型拡散可能で且つ原子半径が異なる他元素を含有させた材料で構成された応力緩和層１２が設けられた構成とする。 （もっと読む）

【課題】放電インピーダンスを一定に保ち、高精度な膜厚制御が可能となるスパッタ装置およびスパッタリングによる成膜方法を提供する。
【解決手段】成膜室にターゲットを備え、前記成膜室における前記ターゲットと対向する基板ホルダーに保持された基板に、スパッタリングによって成膜するスパッタ装置を、つぎのように構成する。
前記ターゲット１−２の前記基板方向前方に、前記ターゲットから飛び出す電子の進行を妨げる前記基板ホルダーと同電位の遮蔽部材１−５が位置するように構成する。 （もっと読む）

【課題】膜層数を少なくしつつ、光吸収の問題を解消した反射ミラーを実現する。
【解決手段】基板３０上に第１の反射多層膜１０を形成し、その上であって、光の入射側に第２の反射多層膜２０を形成する。第１の反射多層膜１０はＴｉＯ_２とＳｉＯ_２との交互積層によってなり、第２の反射多層膜２０はＮｂ_２Ｏ_５とＳｉＯ_２との交互積層によってなる誘電体多層膜である。第２の反射多層膜２０では波長４０５ｎｍの光が反射されるが、Ｎｂ_２Ｏ_５は波長４０５ｎｍにおける光吸収が少ないため、波長４０５ｎｍの光は光吸収されずに第２の反射多層膜２０により反射される。そして、波長６５０ｎｍ及び波長７８０ｎｍの光は、第１の反射多層膜１０と第２の反射多層膜２０との２つの反射多層膜の協働作用により反射されるため、全体の膜層数を少なくすることができる。 （もっと読む）

【課題】入射角が変化しても選択反射波長にずれが生じることなく、情報光及び参照光による光記録媒体の反射膜からの乱反射を防止し、ノイズの発生を防止することができ、耐クラック性が向上した光記録媒体用フィルタ、該フィルタを用いた高密度記録可能な光記録媒体などの提供。
【解決手段】高屈折率層と低屈折率層とを交互に複数積層してなり、該高屈折率層及び該低屈折率層の合計積層数が偶数であり、かつ該合計積層数が１０〜２０層であり、かつ前記高屈折率層の厚み及び前記低屈折率層の厚みが、それぞれ互いに異なることを特徴とする光記録媒体用フィルタである。該光記録媒体用フィルタを用いた光記録媒体である。 （もっと読む）

【課題】 透過帯域でのリップルを抑制しつつ、阻止帯域を広くすることができ、かつ、成膜時の膜厚制御が容易な膜構成で安定した光学特性を得ることができる光学フィルタ及び光学機器を提供すること。
【解決手段】 光学フィルタ３は、基板６と、屈折率が相対的に低い低屈折率層８と屈折率が相対的に高い高屈折率層１０とが交互に基板６上に積層された薄膜１１とを備えており、薄膜１１が、第１の積層部１２と、第１の積層部１２に隣接する第２の積層部１３と、第２の積層部１３に隣接し、高屈折率層１０及び低屈折率層８の各光学膜厚が、第２の積層部１３に係る高屈折率層１０及び低屈折率層８の各光学膜厚の係数倍とされた第３の積層部１５と、第３の積層部１５に隣接する第４の積層部１６とを備えている。 （もっと読む）

【課題】 基板上に異なる複数の光学膜を成膜するときに、相互の位置関係にずれが生じていない光学素子を製造する。
【解決手段】 最初に、基板母材ＢＭに第１のマスク部材Ｍ１を用いて、円形光学多層膜１０およびアライメント用光学多層膜マークＡＭのパターンを転写する。そして、リング状光学多層膜２０を成膜するときには、第２のマスク部材Ｍ２を用いてパターニングを行うが、このとき、基板母材ＢＭ上に形成されているアライメント用光学多層膜マークＡＭを、マーク認識用パターンＴＰを透視して高精度にアライメントすることにより、円形光学多層膜１０およびリング状光学多層膜２０の位置関係を極めて高精度なものにすることができる。また、アライメント用光学多層膜マークＡＭは、剥離用金属膜８０の剥離時に、その形状を常に鮮明なものとすることができる。 （もっと読む）

【課題】 膜の界面の粗さ及び表面粗さを低減し、優れた光学特性を有する多層膜ミラーを比較的低コストで製造することができる多層膜ミラーの製造方法及び多層膜ミラーを提供する。
【解決手段】 第１の物質からなる第１の層と、前記第１の物質とは異なる第２の物質からなる第２の層とを積層した多層膜を有し、所定の光を反射する多層膜ミラーの製造方法であって、前記多層膜を成膜するステップであって、前記第１の層を第１の成膜条件で形成する第１の形成ステップと、前記第２の層を第２の成膜条件で形成する第２の形成ステップと、前記第１の成膜条件又は前記第２の成膜条件とは異なる第３の成膜条件で前記第１の層又は前記第２の層を形成する第３の形成ステップとを有するステップを有することを特徴とする製造方法を提供する。 （もっと読む）