【課題】集積回路を製造するためのマイクロリソグラフィーにおいて、マスク乃至レチクル形態の対象物をEUV照射によって照らすために使用される公知の照明システム及びそれらを備えた投影露光システムを指定サイズのEUVにより処理能力が増加する乃至所定のEUV処理能力によりサイズが減少されるよう、更に発達させることである。
【解決手段】光学軸の方向にEUV照射を集束するコレクタ、二次光源を発生するための第一光学要素、上記二次光源の位置に配置された第二光学要素及び第一光学要素と合わせて最大５つとなる更なる光学要素をコレクターと照明領域の間に備える照明システムにおいて、光学要素と光学軸が６０°よりも大きいか３０°よりも小さい入射角で交わり、光学軸の少なくとも一つの軸部分が少なくとも二つの光学要素の間において照明主要面に対して傾斜していることを特徴とする、照明システムによって成し遂げられる。 （もっと読む）

本発明は、感光材料の構造露光のためのマイクロリソグラフィ用投影露光装置のミラー（Ｍ）、及びミラー（Ｍ）を製造する方法に関する。本発明によるミラー（Ｍ）は、基板本体（Ｂ）と、第１鏡面（Ｓ）と、第２鏡面（Ｓ５）とを有する。第１鏡面（Ｓ）は、基板本体（Ｂ）の第１面（ＶＳ）に形成される。第２鏡面（Ｓ′）は、基板本体（Ｂ）の第２面（ＲＳ）に形成され、該第２面は、基板本体（Ｂ）の第１面とは異なる。本発明によるミラー（Ｍ）は、特に、基板本体（Ｂ）がガラスセラミック材料から製造されるよう具現され得る。 （もっと読む）

本発明は、基板（Ｓ）及び層構成体を備え、層構成体がそれぞれ個別層の少なくとも２つの周期（Ｐ_２、Ｐ_３）の周期的配列からなる複数の層サブシステム（Ｐ’’、Ｐ’’’）を備え、周期（Ｐ_２、Ｐ_３）が高屈折率層（Ｈ’’、Ｈ’’’）及び低屈折率層（Ｌ’’、Ｌ’’’）に関して異なる材料から構成される２つの個別層を含み、各サブシステム（Ｐ’’、Ｐ’’’）内で、隣接する層サブシステムの周期の厚さから逸脱した一定の厚さ（ｄ_２、ｄ_３）を有する、ＥＵＶ波長域用のミラー（１ａ；１ｂ；１ｃ）に関する。ミラーは、基板（Ｓ）から２番目に遠い層サブシステム（Ｐ’’）が有する周期（Ｐ_２）の配列が、基板（Ｓ）から最も遠い層サブシステム（Ｐ’’’）の第１高屈折率層（Ｈ’’’）が基板から２番目に遠い層サブシステム（Ｐ’’）の最終高屈折率層（Ｈ’’）の直後に続くように、且つ／又は基板（Ｓ）から最も遠い層サブシステム（Ｐ’’’）が基板（Ｓ）から２番目に遠い層サブシステム（Ｐ’’）の周期（Ｐ_２）の数（Ｎ_２）よりも多い周期（Ｐ_３）の数（Ｎ_３）を有するようになっていることを特徴とする。本発明はさらに、上記ミラー（１ａ；１ｂ；１ｃ）を備えるマイクロリソグラフィ用の投影対物レンズ、及び当該投影対物レンズを備える投影露光装置に関する。 （もっと読む）

【課題】装置全体の複雑化を抑制しつつ、光学素子の位置及び形状の調整を行うことができる光学素子保持装置、光学系、露光装置、デバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】第１ミラー２６を保持する光学素子保持装置４０は、第１ミラー２６に設けられた被保持部４１，４２，４３を保持する３つの保持機構５１，５２，５３を備えている。各保持機構５１〜５３には、被保持部４１〜４３を６自由度方向に移動させることが可能なリンク機構５４，５５がそれぞれ設けられている。そして、制御装置からの制御情報に基づき各保持機構５１〜５３がそれぞれ駆動することにより、第１ミラー２６は、その位置及び形状の調整が実行される。 （もっと読む）

【課題】単一ユニットで充分な集光性能を有する耐久性に優れたＸ線用屈折レンズを提供する。
【解決手段】円筒状孔３を有するレンズ枠２と、円筒状孔３内部でレンズ材５を溶融固化して形成した凹面メニスカス４とを有する。円筒状孔３は高融点金属板に所定の直径と深さの貫通孔が形成される。レンズ材５には、ぬれ性が高く、屈折率差の大きい低融点金属が選択される。凹面メニスカス４には、所定の曲率半径で、所定の球面精度にされた凹面が形成されている。 （もっと読む）

結像光学系、この種の結像光学系を含む投影露光装置、この種の投影露光装置を含む微細構造構成要素を生成する方法、及び本方法を用いて生成された微細構造構成要素を提供する。結像光学系（７）は、物体平面（５）の物体視野（４）を像平面（９）の像視野（８）内に結像する複数のミラー（Ｍ１からＭ８）を含む。ミラーの少なくとも１つ（Ｍ６，Ｍ７，Ｍ８）は掩蔽され、従って、結像光（１５）が通過するための貫通開口部（２１）を有する。像視野（８）の前の光路の最後から４番目のミラー（Ｍ５）は掩蔽されず、その光学的有効反射面の外縁（２２）により、結像光学系（７）の瞳平面（１７）に中心遮光をもたらす。最後から４番目のミラー（Ｍ５）と最後のミラー（Ｍ８）の間の距離は、物体視野（４）と像視野（８）の間の距離の少なくとも１０％である。像平面（９）に最も近い中間像平面（２３）は、最後のミラー（Ｍ８）と像平面（９）の間に配置される。結像光学系（７）は、０．９の開口数を有する。これらの措置は、その全てを同時に達成する必要はなく、改善された結像特性及び／又は低い生産コストを有する結像光学系をもたらす。 （もっと読む）

Ｘ線を受け入れて方向付けをする回折性Ｘ線光学系を提供する。光学系は、類似のもしくは異なる材料組成ならびに類似のもしくは異なる結晶方位をもつ少なくとも２層を含む。各層は回折効果を示し、その集合効果は、受け取ったＸ線に回折効果を提供する。１つの実施形態では、前記層はシリコンであり、シリコン・オン・インシュレータ接合技術を用いて張り合わされる。他の実施形態では、接着剤接合技術を用いても良い。光学系は、湾曲した、単色化のための光学系であっても良い。
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【課題】 最適な寸法を有するコンパクトな設計の、非常に高い解像度を達成することを可能とするカタジオプトリック投影対物レンズを提供することにある。さらに他の目的は、ペッツヴァルの和と色収差との補正を良好な製造条件とともに可能にする。
【解決手段】自身の物体平面上に配置されるパターンを自身の像平面上に結像させるカタジオプトリック投影対物レンズは、物体フィールドを結像させて第１の中間実像を形成する第１の対物レンズ部分と、前記第１の対物レンズ部分から到来する放射を用いて第２の中間実像を生じしめる第２の対物レンズ部分と；前記第２の中間実像を前記像平面上に結像させる第３の対物レンズ部分とを有する。前記第２の対物レンズ部分は、凹面鏡を有するカタジオプトリック対物レンズ部分である。前記物体平面から到来する放射を前記凹面鏡の方向に偏向させる第１の折曲鏡と、前記凹面鏡から到来する放射を前記像平面の方向に偏向させる第２の折曲鏡とが設けられる。正の屈折力を有するフィールドレンズは、前記第１の中間像および／または前記第１の折曲鏡と前記凹面鏡との間において、前記第１の中間像のフィールドに近接する領域内に配置される。 （もっと読む）