【課題】経時安定性に優れ、透明性の高い平坦化膜を形成することができる平坦化膜形成用組成物を提供すること。
【解決手段】（メタ）アクリル酸エステル官能基が、シクロキシル環に縮合したエポキシ基を有するｎ個のメチレン鎖からなるアルコール残基からなる（ただし、ｎは１から５の整数を示す。）構成単位を含む樹脂成分を含有する平坦化膜形成用組成物である。樹脂成分として、さらに、アクリル酸類、およびスチレン類から誘導される構成単位を含有することが好ましい。 （もっと読む）

【課題】開口率を向上させると共に補助容量を大きくした液晶表示装置を提供する。
【解決手段】第１の基板１０Ａに有するアクティブ素子の上層に形成されたゲート絶縁膜１２Ｂ、ゲート電極２、層間絶縁膜１２Ｃ、映像線Ｄとソース電極４とをこの順で積層する。層間絶縁膜１２Ｃは高誘電体微粒子またはゾルゲルを少なくとも含む比誘電率４．０以上の塗布型透明絶縁膜で形成される。ゲート絶縁膜１２Ｂに第１のスルーホールＳＨ３を有し、第１のスルーホールＳＨ３内の層間絶縁膜１２Ｃに第２のスルーホールＳＨ４を形成し、ソース電極４を第２のスルーホールＳＨ４を介してアクティブ素子に電気的に接続し、ゲート電極２と映像線Ｄとソース電極４および層間絶縁膜１２Ｃで保持容量を構成する。 （もっと読む）

【課題】電気光学装置において、コンタクトホールを形成する工程を低減でき、製造プロセスの単純化を可能とする。
【解決手段】電気光学装置は、基板（１０）上に、複数の画素電極（９ａ）と、画素電極（９ａ）を駆動するための一の配線、電極又は電子素子の少なくとも一部を夫々構成すると共に、互いに同一の導電膜から形成された複数の第１導電部（６ａ、９３）と、画素電極を駆動するための他の配線、電極又は電子素子の少なくとも一部を夫々構成すると共に、複数の第１導電部と絶縁膜を介して異なる層に夫々配置された複数の導電膜から夫々形成された複数の第２導電部（１１ａ、１ａ、３ｂ、７１、７５）とを備える。複数の第２導電部は夫々、複数の第１導電部の少なくともいずれかと絶縁膜に形成されたコンタクトホール（８４、８１、８１０、８１３、８１４）を介して電気的に接続される。 （もっと読む）

【課題】液晶ディスプレイ用基板の製作方法の提供。
【解決手段】本発明は一種の液晶ディスプレイ用基板の製作方法に関するものであり、主には、従来のパネル設計における抵抗値のマッチングがしにくいという問題を改善するために、低インピーダンスの導線構造を形成するものである。本発明で製作する薄膜トランジスタ液晶ディスプレイ用基板は、パネル内の導線抵抗値を有効に減少することができ、薄膜トランジスタの駆動信号の通信速度を向上させることができる。故に、本発明は製品の歩留まりを向上させて製造コストを下げるだけでなく、薄膜トランジスタ液晶ディスプレイの大型化、高画質化のニーズを満足させることもできる。 （もっと読む）

【課題】
配向異常の発生を低減することができる液晶表示装置、並びにその製造方法を提供すること。
【解決手段】
本発明の一態様にかかる液晶表示装置は、透過部２１ｂと反射部２１ａとを有する画素がマトリクス状に配置されたＴＦＴアレイ基板２０１を有する液晶表示装置であって、ＴＦＴアレイ基板２０１上に設けられた開口部１５を有する平坦化膜１０と、平坦化膜１０上に設けられた反射画素電極１２と、平坦化膜１０の開口部に設けられた透過画素電極１１と、反射画素電極１２及び透過画素電極１１の上に設けられ、画素５０の配列方向から傾いたラビング方向でラビングされた配向膜とを備え、開口部１５がラビング方向と垂直な方向の辺を有するものである。 （もっと読む）

【課題】対向基板にオーバーコート層と対向電極とを有した液晶表示装置において、対向電極が切断、破断されることを防止し、信頼性を向上させる。
【解決手段】複数の能動素子が形成された絶縁性基板１と、絶縁性基板１と対向して配置された対向基板３と、絶縁性基板１と対向基板３とをシール材により接着し、絶縁性基板１と対向基板３との間に液晶６を挟持してなる液晶表示装置であって、対向基板３において、絶縁性基板１と対向する面に形成されたオーバーコート層８と、該オーバーコート層８を覆うように対向基板３の略全面に形成された対向電極９とを有し、オーバーコート層８は、シール材４より外側の位置において断続的に形成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
各画素領域が透過領域と反射領域とに分割された半透過型液晶表示装置において、高い開口率を保持しながら、反射特性（反射モード）と透過特性（透過モード）の双方を容易に最適化できるようにする。
【解決手段】
透過領域Ｔでは層間絶縁膜１１上に透過電極１３が形成され、反射領域Ｒでは層間絶縁膜１１上に反射電極１４が形成される。層間絶縁膜１１の表面は、透過領域Ｔにおいて一部が除去されており、それによって透過領域Ｔと反射領域Ｒとの間に段差を有している。層間絶縁膜１１の段差は、場所によって露光量を異ならせながら、感光性アクリル樹脂膜等の感光性を持つ絶縁膜を露光・現像することにより形成される。 （もっと読む）

【課題】拡散効率が高く所望の指向性を備えた拡散反射板の製造方法を提供する。
【解決手段】まず、基板２の上に感光性を有する樹脂膜１１を形成する。次に、フォトリソグラフィにより樹脂膜１１をパタニングして離散的に配された四角柱等の角柱形状の集合を設ける。続いて、加熱処理を施して、個々の四角柱をなだらかに変形する。更に、変形した四角柱の集合の上に樹脂１２を塗工し、離散的に配された各四角柱の間の平坦な隙間２ａを埋めて湾曲化する。最後に、なだらかに変形した四角柱の集合の上に金属膜１３を形成する。 （もっと読む）

【課題】横電界駆動（Ｉｎ‐Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ：ＩＰＳ）方式の半透過型液晶表示装置において、円偏光板を使用して優れた表示性能を実現可能な液晶パネル及びそれを用いた液晶表示装置及び端末装置を提供する。
【解決手段】観察者側基板２ａ及び背面側基板２ｂの外側それぞれに観察者側円偏光板４ａと背面側円偏光板４ｂとを設置し、この各円偏光板と各基板との間に液晶層５の屈折率異方性を低減する観察者側補償板６ａと背面側補償板６ｂとを設置する。 （もっと読む）

【課題】微分干渉装置を介した観察によって、光透過性の基板とＩＣチップとの間に混入された異物の検出を行う際において、異物が検出できない事態を従来に比べて回避し得る表示パネル用基板を提供する。
【解決手段】ＩＣチップ（例えば、ゲートドライバＩＣ４又はソースドライバＩＣ５）が実装されるアクティブマトリクス基板（表示パネル用基板）１であって、それを構成する光透過性のベース基板（例えば、ガラス基板１１）上に、ＩＣチップの端子に電気的に接続される第１の金属配線層１４ａ〜１４ｃと、第２の金属配線層１２とを形成する。このとき、第２の金属配線層１２は、ベース基板の厚み方向において、ＩＣチップの実装面の全部又は一部と重なるように形成する。第２の金属配線層１２は、アクティブマトリクス基板１の機能に貢献しない配線層であるのが好ましい。 （もっと読む）

【課題】半透過反射型の液晶装置において、複数の色のサブ画素のうち特定色のサブ画素に最適なリタデーションを形成することが可能な液晶装置を提供する。
【解決手段】半透過反射型の液晶装置は、複数のサブ画素により構成される単位画素を備え、Ｇ、Ｒ、Ｂの各着色層を有するカラーフィルタ基板と、マルチギャップ構造を形成する層間絶縁膜を有する素子基板との間に液晶層を挟持してなる。この液晶装置において、Ｒの着色層の厚さはＧ及びＢの着色層の厚さより厚く設定されている。これにより、Ｒの輝度を高めることができる。また、Ｒの着色層に位置する層間絶縁膜の厚さは、Ｇ及びＢの着色層に位置する層間絶縁膜の厚さより薄く設定されている。これにより、Ｒ、Ｇ、Ｂの各サブ画素に対応する各液晶層の厚さを揃えることができ、Ｇ、Ｒ、Ｂの各色で透過率を一定に保つことができると共に、Ｒのサブ画素ＳＰに最適なリタデーションを形成することができる。 （もっと読む）

【課題】簡易な構成で、表示品位のみならず、ＣＲ視野角特性、γ視野角特性、及び表示均一性が改善されたＦＦＳモードの液晶表示装置を提供する。
【解決手段】互いに対向して配置された一対の第１の基板（１２）及び第２の基板（１２）と、該一対の基板の少なくとも一方の基板（１２）上に絶縁層（２０ａ、２０ｂ））を介して形成された異なる電位を印加可能な画素電極（１８）と共通電極（１６）と、前記一対の基板間に電圧無印加状態で、液晶分子（１４）が基板面に略平行に配向する液晶層と、該液晶層を挟持して配置された一対の偏光板（２２）とを有し、前記画素電極（１８）及び共通電極（１６）によって形成された電界により液晶層の配向を制御するＦＦＳ（フリンジフィールドスイッチング）モードの液晶表示装置であって、前記絶縁層（２０ａ、２０ｂ）の膜厚が一画素内又は副画素間で異なる、又は前記絶縁層（２０ａ、２０ｂ）の誘電率が一画素内又は副画素間で異なる、ことを特徴とする液晶表示装置である。 （もっと読む）

【課題】 製造工程の簡略化と素子特性の安定化を両立できる薄膜トランジスタを提供する。
【解決手段】 多成分ガラス基板１の上方に遮光電極３を備え、前記遮光電極３の上方に単層または多層の汚染防止絶縁膜４１を備え、前記汚染防止絶縁膜４１の上方に多結晶シリコン膜５を備え、前記多結晶シリコン膜５の上方にゲート絶縁膜６を備え、前記ゲート絶縁膜６の上方にゲート電極７を備え、前記ゲート電極７の上方に層間分離絶縁膜８を備え、前記層間分離絶縁膜８と前記ゲート絶縁膜６とを開口して前記多結晶シリコン膜５と導電接続されたソース・ドレイン電極を少なくとも備えている。さらに、前記多成分ガラス基板１の上層、前記汚染防止絶縁膜２１の上層、前記ゲート絶縁膜６の上層、前記層間分離絶縁膜８の上層の少なくとも一つに、塩素とフッ素の双方または片方を含む不純物捕獲層２１，２２，２３，２４を有している。 （もっと読む）

【課題】反射画素電極に適性な凹凸が形成されることにより良好な反射特性を有し表示品質の高い液晶表示装置及びその製造方法を高歩留りで得る。
【解決手段】基板１上に形成された走査線２、走査電極、共通電極配線３と、走査電極と対向して形成された半導体層５と、半導体層と共に素子を構成する第一、第二の電極及び信号線上に形成され、表面に凹凸を有する層間絶縁膜11と、層間絶縁膜上に設けられ、上記凹凸が転写された形状を有し、第二の電極と電気的に接続された反射金属膜からなる反射画素電極13を有する第一の基板と、第一の基板と共に液晶材料を挟持する第二の基板とを備え、凹凸領域の下層に、上記凹凸形成時に使用されるＵＶ光を吸収するa-Si膜5aが形成され、a-Si膜と層間絶縁膜との間には、ＵＶ光を透過するパッシベーション膜10のみを形成する構成。 （もっと読む）

【課題】電気光学装置における気泡による点欠陥異常を防止する電気光学装置を提供する
。
【解決手段】液晶装置には、２枚の基板１１，２１の間に液晶５０が封入される。素子基
板１１には、液晶５０を封入するためのシール部１２が枠状に表面の外周部に設けられて
いる。対向基板２１には、素子基板１１と貼り合わされたときに、シール部１２の一部が
入り込む溝部２２が設けられている。 （もっと読む）

【課題】光学特性の劣化を抑制しつつ、製造歩留まりの低下を抑制することが可能な表示装置用のアレイ基板を提供することを目的とする。
【解決手段】絶縁基板１０と、絶縁基板１０上に配置され絶縁基板１０と同等の屈折率を有する材料によって形成されたバッファ層１１Ａと、バッファ層１１Ａ上に配置され窒化シリコンによって形成された第１絶縁層１１Ｂと、第１絶縁層１１Ｂ上に配置され酸化シリコンによって形成された第２絶縁層１１Ｃと、第２絶縁層１１Ｃ上に配置された半導体層１２を有するスイッチング素子３と、スイッチング素子３に接続された画素電極５と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】画素間の光漏れを防止し、これにより高精細化と高コントラスト化とを両立可能な液晶表示装置を提供することを目的とする。
【解決手段】互いに略垂直な方向にラビング処理がなされた配向膜１４，１０２を有する駆動基板３と対向基板１００との間に液晶層を狭持してなる液晶表示装置１において、駆動基板３は、複数の画素部を開口させた形状を有して行列状に形成されたコモン電極を兼ねる遮光膜６、遮光膜６上に設けられた平坦化絶縁膜１３、遮光膜６の画素開口６ａを覆うと共に遮光膜６に縁部を重ねた形状を有して平坦化絶縁膜１３上に設けられた透明導電膜からなる画素電極７と、画素電極７を覆う配向膜１４とを備える。平坦化絶縁膜１３と画素電極７との間には、画素電極７における対向基板１００側のラビング方向の上手側の端縁に重ねる状態で、テーパ形状の側壁を有する凸条２０が設けられている。 （もっと読む）

【課題】維持電極線に印加される電圧の漏れを最小化することができる表示装置を提供する。
【解決手段】本発明による表示装置は、絶縁基板と；絶縁基板の上に形成されている第１金属配線層と；第１金属配線層と離隔して第１金属配線層に沿って形成されている維持電極線と；第１金属配線層と維持電極線を覆っている第１絶縁膜と；第１絶縁膜の上に形成されており、維持電極線に対応する維持容量形成層を有する第２金属配線層と；第２金属配線層を覆っており維持容量形成層の一部を露出させる画素接触孔を有する第２絶縁膜と；第２絶縁膜の上に形成されており、画素接触孔を通じて前記維持容量形成層と接続されている画素電極とを含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】横電界方式の液晶表示装置において、有機膜の上に絶縁膜を形成することをなくし、画素電極層と共通電極層との間の中間絶縁膜の特性を向上させることである。
【解決手段】下側の透明パネル基板２０において、下ガラス基板３０上のバッファ層３２の上にＴＦＴ形成層４０が形成され、そのゲート膜層３６の上に、ゲートライン４２、コモンライン５０と共に画素電極層６０が設けられる。そしてその上に中間絶縁層８０が形成され、その後、スリット７１を有する共通電極層７０が形成される。中間絶縁層８０の前の工程で有機膜を用いないので、中間絶縁層８０は、有機膜の耐熱温度以上の高温でＣＶＤ法により成膜することができる。 （もっと読む）

【課題】 ＩＴＯの断線がなく高い経時安定性に優れ、更には保護膜を拭き取るなどした際の淵部分の残渣が少なくシール剤との接着性にも優れた保護層を形成することができる熱硬化性組成物を提供する。
【解決手段】 熱架橋剤として、エチレン性不飽和化合物及び／又は分子内にエポキシ基を有する化合物を含有する保護膜用熱硬化性組成物であって、該熱硬化性組成物０．１ｇを縦１０ｃｍ×横１０ｃｍのガラス基板の中心に滴下した後、スピンコートによりガラス基板中心部分の乾燥膜厚が２μｍ以上となるように塗布した場合、該塗布層端部の側面と基板平面から形成されるテーパー角を（Ｗ１）、該塗布層をさらに２３０℃３０分間の加熱処理を施した後の同一の塗布層端部の側面と基板平面から形成されるテーパー角を（Ｗ２）としたとき、以下の式を満たすことを特徴とする保護膜用熱硬化性組成物。
Ｗ１／Ｗ２ ≧ １．２ （もっと読む）