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Fターム[2H092MA03]の内容

液晶−電極、アクティブマトリックス (131,435) | 製造方法 (16,988) | 製法、工程 (14,676) | 成膜方法 (5,204) | PVD (2,371)

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【課題】 構成が簡単で、小型であり、光量損失、光学ノイズ、解像度低下が少なく、低コスト化を図ることができ、耐久性が高く安定して動作する光偏向素子、該素子を備えた光偏向装置及び画像表示装置を提供する。
【解決手段】 透明な一対の基板2、3と、両基板の間隔を規制する複数のスペーサ4と、少なくとも一方の基板面に設けた無機材料から成る透明抵抗体層5と、両基板の間隔内でキラルスメクチックC相を形成可能な液晶層7と、キラルスメクチックC相の層法線方向が基板面に対して略垂直となるように液晶層7を配向させる配向膜6と、透明抵抗体層5の少なくとも二個所以上に接続した複数の電極8、9と、を備えた光偏向素子1とする。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、材料の利用効率を向上させ、少ないフォトマスク数で、しきい値のずれが生じにくく、高速動作が可能なTFTを有する液晶表示装置の作製方法を提供する。
【解決手段】 本発明は、非晶質半導体膜に触媒元素を添加し加熱して、結晶性半導体膜を形成するとともに該結晶性半導体膜から触媒元素を除き、その後逆スタガ型薄膜トランジスタを作製する。また本発明は、薄膜トランジスタのゲート電極層と画素電極層を同工程同材料を用いて液滴吐出法により選択的に形成し、工程の簡略化と、材料のロスの軽減を達成する。 (もっと読む)


【課題】 例えばTFT等の薄膜半導体装置において、耐電圧性を高め、オフリーク電流を低減する。
【解決手段】 チャネル領域、ソース領域及びドレイン領域を含むと共に島状の平面パターンを有する半導体膜と、この上又は下に積層されたゲート絶縁膜と、これを介してチャネル領域に対向配置されたゲート電極とを備える。ゲート絶縁膜は、半導体膜における島状の平面パターンの周辺領域とゲート電極との層間に挟持される第1部分において、局所的に厚く形成されている。 (もっと読む)


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