【課題】半導体装置でパシベーション膜として一般的に使用されている減圧ＣＶＤ法によ
る窒化シリコン膜は、膜厚の１０％程度のばらつきが生じるので、これを反射型液晶パネ
ルに用いると、パシベーション膜の膜厚のばらつきによって反射率が大きく変化したり、
液晶の屈折率が変動したりするという不具合がある。
【解決手段】基板（１）上に反射電極（１４）がマトリックス状に形成されるとともに各
反射電極に対応して各々トランジスタが形成され、前記トランジスタを介して前記反射電
極に電圧が印加されるように構成された液晶パネル用基板において、パシベーション膜（
１７）として、膜厚が５００〜２０００オングストロームの酸化シリコン膜を使用し、入
射光の波長に応じて膜厚を適当な値に設定するようにした。 （もっと読む）

【課題】非選択電極が観察者から認識されにくい液晶表示装置を提供する。
【解決手段】所定形状の透明電極２０１、２０３、２０４の周囲の領域２１０に、表面に凹凸を有する透明膜が配置されている。透明膜の凹凸により、液晶分子の配向状態に僅かに乱れが生じる。この状態は、所定の低電圧が印加されている非選択電極２０１、２０３、２０４下の液晶分子の配向状態と近い状態である。よって、低電圧が印加された表示オフの電極２０１等が観察者から認識されにくくなり、表示品位が向上する。 （もっと読む）

【課題】表示領域の視野を妨げることなく、また、コストアップを伴うことなく、表示領域内の表示電極配線と、その周りの非表示領域に形成される引き回し配線との配線密度の相違による見栄えを改善する。
【解決手段】それぞれが互いに直交する方向に沿って形成された帯状をなす複数本の表示電極１１，２１を有する２枚の基板が周辺シール材４０を介して圧着され、対向する表示電極１１，２１を含む表示領域５０と周辺シール材４０との間に非表示領域６０が存在し、表示電極１１と直交する側の非表示領域６１，６２に、各表示電極１１から細幅として引き出された引き回し配線１２が形成されているとともに、非表示領域６０の周辺シール材４０側の一部分が額縁枠によって環状に覆われている液晶表示パネルにおいて、引き回し配線１２を非表示領域６１，６２のうちの額縁枠にて覆われる部分に配置し、かつ、各表示電極１１を表示領域５０から少なくとも額縁枠の内縁ＢＬに至る部分にまで、その帯状の幅を変えることなく引き出す。 （もっと読む）

【課題】製造コストを増加させないと共に設計の自由度を低下させることなくクロスライン点灯を目立たなくした液晶装置及び電子機器を提供すること。
【解決手段】下基板が、画像表示領域Ａの周縁に設けられて複数のコモン電極３２のそれぞれと導通する複数の引廻配線２８、２８Ｂを有し、コモン電極３２が、画像表示領域Ａの周縁に設けられて引廻配線２８、２８Ｂと平面視で交差する接続部３２ｄと、接続部３２ｄと接続してセグメント電極２５と平面視で交差する帯状部３２ｅとを有し、接続部３２ｄの幅が、帯状部３２ｅの幅よりも狭い。 （もっと読む）

【課題】各画素の開口面積を広くし、高輝度のアクティブマトリックス型の液晶表示素子を提供する。
【解決手段】液晶層３を挟んで対向する一対の基板のうちの一方の基板１の内面に、行方向及び列方向に複数配列された複数の画素電極４と、画素電極４の各配列行の間の領域毎に、複数の画素電極４にそれぞれ対応させて配置され画素電極４に接続された複数のＴＦＴ５とを設け、他方の基板２の内面に、複数の画素１８を形成する対向電極１７と、複数のカラーフィルタ１９Ｒ，１９Ｇ，１９Ｂからなり、これらのカラーフィルタの境界部を覆う形状に形成された遮光膜２０とを設けた。 （もっと読む）

【課題】本発明は、引き出し線領域によって不具合が生じることの無い液晶光学素子及び液晶光学モジュールを提供することを目的とする。
【解決手段】第１の基板（１０１）と、第２の基板（１０２）と、第３の基板（１０３）と、第１及び第２の基板間に挟持された第１の液晶（１３０）と、第２及び第３の基板間に挟持された第２の液晶（１３２）と、第１の屈折率可変領域に電圧を供給するための引き出し線が配置された第１の引き出し線領域（１４０）を有する第１の電極パターン（３００）と、第２の屈折率可変領域に電圧を供給するための引き出し線が配置された第２の引き出し線領域（１４２）を有する第２の電極パターンと、第１の液晶の内、第１の引き出し配線領域によって駆動される部分と、第２の液晶の内、第２の引き出し配線領域によって駆動される部分とを遮光するための遮光部材（２００）を有することを特徴とする液晶光学素子（１００）。 （もっと読む）

【課題】透過率、比抵抗、化学的安定性等について高い水準で優れた特性を得られる透明導電膜及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る透明導電膜（画素電極９）は、インジウム錫酸化物を主成分とし、インジウム原子と錫原子の合計原子数に対する錫原子数の比率である錫濃度が異なる複数の部位（第１の導電層９ａ、第２の導電層９ｂ）を有している。 （もっと読む）

【課題】液晶装置における表示領域の外側の遮光性を向上させる。
【解決手段】遮光膜５４は、ＴＦＴアレイ基板１０上において、画像表示領域１０ａの外側に延びる周辺領域のうち額縁遮光膜５３が形成された額縁領域の外側に形成されている。データ線駆動回路１０１及び引き回し配線９０は、遮光膜５４に覆われている。引回配線９０は、外部回接続端子１０２と、データ線駆動回路１０１、走査線駆動回路１０４、及び上下導通端子１０６等とを電気的に接続している。遮光膜５４は、額縁遮光膜５３によって遮光しきれなかった入射光、及び当該遮光膜５３及び額縁遮光膜５４によってＴＦＴアレイ基板１側に反射された反射光を額縁領域の外側で遮光できる。 （もっと読む）

【課題】別の電極を通じた電気的なクロストークに起因して誤った画像内容を画素に付与されるのを防止するダミー電極を有する表示装置を提供する。
【解決手段】表示装置は、電子光学媒体２、例えば、電子光学的特性での差（褪色）を無効にするために使用される特別（ダミー）電極15，16のスイッチング特性への容量性の影響が前記の特別電極へ一定の電圧を与えることにより、又は他の基板上へ、特に画像電極の非重複部分上へダミー電極のパターンを与えることにより補償される（超）ねじれネマチック型の液晶表示装置を具える。 （もっと読む）

【課題】画面影像の品質低降を防止できる透明な基板における透明な基板が見えないようにするという処理方法を提供する。
【解決手段】複数本の透明電極２０をレイアウトした透明な基板２に応用される。透明電極２０と同じ屈折レートを持つ非導電ナノメートル材料粒子を均一に透明な基板２及び透明電極２０に塗布する。透明な基板２に高温の熱処理を行い、ある時間の熱処理をしたあとで、透明な基板２及び透明電極２０に整然平坦かつ均一な遮蔽層２１が形成される。ナノメートル材料粒子により、透明な基板２に透明電極２０をレイアウトしなかった部位と透明電極２０をレイアウトした部位とは光に対する屈折レートが所定の間に維持されるため、画面映像の品質低降を有効に避けることができる。 （もっと読む）

【課題】液晶表示装置において、液晶の表示が不安定な状態が外部から見えないようにする。
【解決手段】２枚のガラス基板１１、１２の複数の透明電極の外側にそれぞれ２個の透明電極１３ａ、１３ｂと透明電極１６ａ、１６ｂを形成する。透明電極１３ａ、１３ｂに隣接する透明電極１２と同じ駆動電圧を印加し、透明電極１６ａ、１６ｂに隣接する透明電極１５と同じ駆動電圧を印加する。これにより、表示領域の外側の液晶の表示状態を確定させることができる。 （もっと読む）

【課題】液晶装置等の電気光学装置において、耐湿性を維持しつつ透過率を向上させ、高品質な表示を行う。
【解決手段】電気光学装置は、液晶層５０を狭持するＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０と、ＴＦＴアレイ基板１０上に設けられた画素電極９ａと、画素電極９ａ上に形成され、液晶層５０の配向状態を規制する配向膜１６と、画像表示領域１０ａの周囲に沿ったシール領域５２ａにおいて、ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０を相互に貼り合わせるシール材５２とを備える。更に、ＴＦＴアレイ基板１０と画素電極９ａとの間に積層され、ＴＦＴアレイ基板１０の屈折率と画素電極９ａの屈折率との中間の大きさの屈折率を有する光学薄膜９１と、ＴＦＴアレイ基板１０上の少なくともシール領域５２ａ内に設けられ、画素電極９ａと同一膜からなるシール下側膜１５１とを備える。 （もっと読む）

【課題】 半導体装置の製造方法及び反射型液晶表示装置の製造方法に関し、保護膜の除去工程において、反射電極の反射率を低下することなく、周辺の埋込絶縁膜の平坦性を維持する。
【解決手段】 最上層配線６及びその上に設けた反射防止膜を兼ねるアモルファスカーボン保護膜７からなる構造体５の周囲を平坦化絶縁膜８で埋め込んで平坦化したのち、アモルファスカーボン保護膜７を除去する。 （もっと読む）

【課題】表示単位の表示色を目的の表示色とすることができる液晶表示装置を提供すること。
【解決手段】各インジケータを構成する表示ブロック２１は、バー形状をなす６つのセグメント３０（３０Ａ，３０Ｂ）から構成されており、各セグメント３０が表示ブロックの並び方向Ａに沿って略円弧状となるように配置されている。セグメント３０は、第１の色で着色発光する第１セグメント３０Ａと、第２の色で着色発光する第２セグメント３０Ｂとの２種類のセグメントからなり、これらが上記並び方向Ａに沿って交互配置されている。 （もっと読む）

【課題】 無点灯時のパターン見えを軽減できる液晶表示パネルの提供。
【解決手段】 一方の面側にパターン形成されたセグメント電極が設けられた第１の透明基板と、一方の面側に共通電極が設けられた第２の透明基板とが、それぞれの電極が所定のギャップ差をもって対向状態で配置され、且つそれぞれの透明基板間に液晶が封入されてなる液晶表示パネルであって、前記セグメント電極の厚さが前記共通電極の厚さよりも薄く、前記第１の透明基板のセグメント電極のない部分と前記共通電極との間のギャップ差Ａと、前記セグメント電極と共通電極との間のギャップ差Ｂとの差（Ａ−Ｂ）が、０．１μｍ以下であることを特徴とする液晶表示パネル。 （もっと読む）

【課題】 液晶表示装置（または有機ＥＬ表示装置）において、開口率を大きくする。
【解決手段】 薄膜トランジスタ５のゲート電極１１、ソース電極１５およびドレイン電極１６はｎ型不純物を含む透明な金属酸化物によって形成されている。したがって、薄膜トランジスタ５は光を透過する構造となっており、この薄膜トランジスタ５のほぼ全部を画素電極４で覆っているので、薄膜トランジスタ５を含む画素電極４の全域が透過領域となり、開口率を大きくすることができる。 （もっと読む）

【課題】画素内の分割線を形成する領域が小さくても、分割線の形成による画素の電気的パラメータの変動を小さくできる液晶表示装置の設計方法を提供する。
【解決手段】ガラス基板３上の画素４を分割する垂直分割線34を直線ではない部分を有する凹凸状にして、画素４の補助容量線28の補助容量部29を迂回させる。画素４内の補助容量線28と垂直分割線34との交差面積を少なくできる。特性変動が起こりやすい補助容量線28を避けて画素４を分割できる。画素４内の垂直分割線34を形成する領域が小さくても垂直分割線34の形成による画素４の電気的パラメータの変動を小さくできる。
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【課題】半透過反射型液晶表示装置において、透過表示及び反射表示の双方について残像やしみ状のむら等の表示不良発生を抑え、さらには明るく広視野角の表示を実現可能な液晶表示装置を提供する。
【解決手段】本発明の液晶表示装置は、マルチギャップ構造を備えた垂直配向モードの半透過反射型液晶表示装置であって、画素電極３１が、前記ドット領域内で複数の島状部３１ａ〜３１ｃと、隣接する前記島状部３１ａ〜３１ｃを互いに電気的に接続する連結部３１ｄ、３１ｅとを有しており、前記複数の島状部３１ａ〜３１ｃのうち、２つの島状部３１ｂ、３１ｃは前記透過表示領域Ｔに配置され、残りの島状部３１ａは前記反射表示領域Ｒに配置されており、前記液晶層厚が連続的に変化している境界段差領域Ｎと、前記画素電極３１の連結部３１ｂとが平面的に重なって配置された構成を備えている。 （もっと読む）

【課題】 有効表示領域内の画素形成領域外の領域の光もれの不均一性による表示むらをなくす。
【解決手段】 表示面側の周辺部を除く中央部に画素形成領域面が形成されている液晶表示基板を、その画素形成領域面とこの画素形成領域面の周囲を露呈させて該周辺部の大部分を覆うパネルが配置されるものであって、前記液晶表示基板は、液晶を介して互いに対向して配置される透明基板のうち少なくとも一方の透明基板の液晶側の面に一方向に延在しかつこの方向に直交する方向に並設された信号配線層を備え、これら各信号配線層は該透明基板の周辺に形成される端子にまで延在されている液晶表示装置において、前記信号配線層は、それぞれ、その延在方向に沿ってそれぞれ同一の幅でかつ隣接する信号配線層と同一の離間距離をもって画素形成領域から前記パネルによって覆われる領域にまで延在されている。 （もっと読む）

トランジスタ構造の少なくとも一部分が実質的に透明であるエンハンスメント・モード電界効果トランジスタである。該トランジスタの一変形形態は、ＺｎＯ、ＳｎＯ_２及びＩｎ_２Ｏ_３から選択された実質的に絶縁性で実質的に透明な材料から構成されるチャネル層を含む。実質的に透明な材料から構成されるゲート絶縁体層は、チャネル層／ゲート絶縁体層境界面を形成するようにチャネル層に隣接して配置される。該トランジスタの第２の変形形態は、アニーリングにより生成される実質的に絶縁性のＺｎＯ、ＳｎＯ_２及びＩｎ_２Ｏ_３から選択される実質的に透明な材料から構成されるチャネル層を含む。該トランジスタを含む装置、及び該トランジスタを作る方法も開示されている。
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