【課題】マスクのパターンの一部を画像取得装置で覆うことなく、アライメントマークの画像を取得して、マスクと基板との位置合わせを行い、露光時の画像取得装置の退避を不要にして、タクトタイムを短縮する。
【解決手段】ミラー５１ｃ及び画像取得装置５１ａを有する複数の画像取得ユニット５１を設け、各画像取得ユニット５１のミラー５１ｃをマスク２に設けられたアライメントマーク２ａの上空に配置して、マスク２及び基板１に設けられたアライメントマーク２ａ，１ａの像を各画像取得ユニット５１のミラー５１ｃの表面に映し、各画像取得ユニット５１のミラー５１ｃの表面に映したアライメントマーク２ａ，１ａの画像を各画像取得ユニット５１の画像取得装置５１ａで取得する。マスク２のアライメントマーク２ａの位置へ照射される露光光を、各画像取得ユニット５１のミラー５１ｃの裏面で遮断する。 （もっと読む）

【課題】システム全体の生産性を低下させず、各リソグラフィー装置の維持管理コストを削減し、特性及び精度を均一にする。
【解決手段】少なくとも２台のリソグラフィー装置と、該リソグラフィー装置に対して基板若しくは原版を搬送する搬送ユニットと、リソグラフィー装置と搬送ユニットとの動作を制御する制御モジュールとを備えるリソグラフィーシステムであって、少なくとも２台のリソグラフィー装置のいずれかが調整処理を実施する場合、制御モジュールは、調整処理を実施する際の基準となる基準部材を少なくとも２台のリソグラフィー装置で共用し、搬送ユニットにより、基準部材をリソグラフィー装置に対して搬送させる（ステップＳ５０９）。 （もっと読む）

【課題】ワークがひずんでいる場合でもワークの被露光領域に応じてマスクのパターンを精度良く露光転写することができる露光装置及び露光方法を提供する。
【解決手段】ワーク１２とマスク２１の両アライメントマークをアライメント検出系５２で検出する工程と、両アライメントマークのずれ量に基づいて、マスク２１とワーク１２の位置ずれ量とワーク１２のひずみ量とを算出し、算出された位置ずれ量に基づいて、アライメントを調整する工程と、算出されたひずみ量に基づいて、光源６１からの露光光の光束を反射する平面ミラー６６の曲率を補正する工程と、を備える。曲率補正工程は、露光光束の光路ＥＬにおいて平面ミラー６６より露光面側からレーザー光Ｌを照射し、カメラ９３によって撮像する工程と、平面ミラー６６の曲率を補正した際に撮像されるレーザー光Ｌ、Ｌ´の変位量Ｓ１，Ｓ２を検出する工程によりひずみ量α、βと対応するように曲率補正する。 （もっと読む）

【課題】 装置全体の大型化や、露光用ステージの重量増加を抑えたステージ装置を提供する。
【解決手段】 ステージ（１）と前記ステージを駆動する駆動手段（７ａ、７ｂ）とを備えるステージ装置において、コーナーキューブ（８ａ〜ｃ）と前記コーナーキューブに光を照射する干渉計（４、５ａ、５ｂ）と前記ステージに対して前記コーナーキューブを相対的に駆動する駆動機構（１３ａ、１３ｂ）とを含む前記ステージの位置を計測する位置計測手段と、前記ステージが駆動されても前記干渉計からの光が前記コーナーキューブに照射されつづけるように前記駆動機構を制御する制御手段（１５）とを有する。 （もっと読む）

【課題】、裏面側の位置検出光学系を移動させることなく、投影光学系の露光パターンの投影位置及び位置検出光学系の検出位置の相対的な位置合わせをより正確に行って、露光を高精度に行うことが可能な露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置１は、基板７を載置するステージ９と、基板７の表面側に配置され、基板７の表面７ａにパターンを投影する投影光学系４と、基板７の裏面側に配置され、基板７の裏面７ｂに形成された位置合わせマークを検出する裏面位置検出光学系６と、ステージ９を貫通する貫通孔９ｂに取り付けられ、光を透過する部材で形成された窓部材１０と、投影光学系４により窓部材１０の表面１０ａに形成されたパターンの像を、窓部材１０の裏面側から裏面位置検出光学系６で検出し、投影光学系４により形成されるパターンの像の位置と裏面位置検出光学系６で検出される位置合わせマークの位置との相対関係を算出する制御部１１と、を有する （もっと読む）

【課題】レーザー測長系によるチャックの位置検出を中断させることなく、基板をチャックに対してθ方向の回転が無い姿勢でチャックに搭載する。
【解決手段】基板１をチャックへ搬送する前に、基板１を温度調節装置５０に搭載して基板１の温度を調節する。温度調節装置５０に基板１をθ方向へ回転する回転機構８０を設け、温度調節装置５０に搭載された基板１のθ方向の傾きを検出し、検出結果に基づき、基板１を温度調節装置５０からチャック１０へ搬送する前に、基板１をθ方向の傾き分だけ逆方向へ回転して、基板１のθ方向の傾きを補正する。基板１をチャック１０に搭載する前にチャック１０をθ方向へ回転する必要がないので、レーザー測長系によるチャック１０の位置検出が中断されない。 （もっと読む）

【課題】基板の直交する二辺の縁が、プリアライメント用の画像取得装置の視野範囲から外れない様に、基板をチャックへ搬送する。
【解決手段】チャック１０へ搬送する前の基板１を、クーリングプレート４０に搭載して、冷却する。基板１の直交する二辺の縁の位置を検出して、クーリングプレート４０に搭載された基板１のＸＹ方向の位置及びθ方向の角度のずれ量を検出する。基板１をチャック１０へ搬送する前に、チャック１０を、クーリングプレート４０に搭載された基板１のＸＹ方向の位置及びθ方向の角度のずれ量分だけＸＹ方向へ移動及びθ方向へ回転する。そして、基板１をクーリングプレート４０からチャック１０へ搬送する。搬送後、プリアライメント用の画像取得装置が基板１の直交する二辺の縁の画像を取得する前に、チャック１０のＸＹ方向の位置及びθ方向の回転を元に戻す。 （もっと読む）

【課題】フレキシブル基板のリソグラフィプロセスの制御性を向上させ、フレキシブル基板がキャリジの露光領域の近傍にある場合にもパターンジェネレータを支持するキャリジの精密な走査運動が阻害されないようにする。
【解決手段】放射ビームを形成する照明系と、ビームをパターニングするパターンジェネレータと、フレキシブル基板の目標部分にパターンビームを投影してフレキシブル基板をパターニングする投影系と、フレキシブル基板の運動を制御する運動系とが設けられており、フレキシブル基板の目標部分はパターンビームによる露光中にもほとんど延伸せずにとどまる。 （もっと読む）

【課題】 反りが発生してしまうような厚さのワークでも、ステージ上に確実に固定でき、かつ、ワークのサイズに合わせて、その位置を変更・微調整できるクランプ装置と、その位置決め方法、並びに、そのクランプ装置を備えた画像形成装置の提供を課題とする。
【解決手段】 移動可能なステージ２０上に載置されたワーク１００をクランプするクランプ装置３０と、その位置決め方法であって、ステージ２０に対して相対移動可能とされたクランプ部３４と、クランプ部３４に設けられ、ステージ２０に対してクランプ部３４を固定する固定手段９２とを備え、固定手段９２による固定を解除した状態でステージ２０を移動させることにより、クランプ部３４の位置を変更可能とする。また、このクランプ装置３０を備えた画像形成装置１０とする。 （もっと読む）

【課題】 ステージに対して着脱可能とされるとともに、ワークに対して容易に位置決めでき、反りが発生してしまうような厚さのワークでも、そのステージ上に確実に固定できるクランプ装置と方法及びそのクランプ装置を備えた画像形成装置の提供を課題とする。
【解決手段】 板状のワーク１００が載置され、ステージ２０上に着脱可能に装着されるベース３２と、ベース３２にスライド可能に設けられ、ワーク１００の縁端部１００Ａをクランプするクランプ部３４と、クランプ部３４に設けられ、クランプ部３４をワーク１００に対して位置決めする位置決め手段７０とを備えたクランプ装置３０とする。そして、このクランプ装置３０を備えた画像形成装置１０とする。 （もっと読む）

【課題】安価、高精度、かつ高スループットに、物体を搬送して受け渡すことができる搬送方法を提供する。
【解決手段】プリアライメント装置４５では、マーク５０Ｍの位置情報と、ウエハＷの位置情報とを非同時に検出する。このようにすれば、マーク５０Ｍの位置情報を検出する検出系と、ウエハＷの位置情報を検出する検出系との少なくとも一部を共通化することができるようになるため、その分だけ、装置コスト及び発熱量を低減することができる。 （もっと読む）