【課題】各々の径が数１０ｎｍオーダーの微細な貫通孔を構成要素とする微細なパターンを形成する目的で用いられる微細パターン形成用部材の提供。
【解決手段】マイクロポア貫通孔を複数有するアルミニウム陽極酸化皮膜のマイクロポア貫通孔の内部に有機溶媒で現像可能な樹脂組成物が充填された微細パターン形成用部材。前記部材に所望のパターンとなるように露光を行い、その後、有機溶剤を用いた現像処理を行うことにより、前記部材に微細パターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】陽極酸化処理に用いる薬液により、半導体基板と保護膜との剥離を抑制する多孔質構造体の製造方法を提供する。
【解決手段】拡散層１２が形成された半導体基板１０に酸化膜１４を形成する工程と、酸化膜１４の所定の位置に複数の接続孔を設け、該接続孔に配線２２を形成した後、配線２２で挟まれた領域に拡散層１２の表面が露出するような開口部２４を設ける工程と、開口部２４の外周縁部に溝２６を形成し、溝２６を埋め込むように半導体基板１０の拡散層１２が形成された面の全面に保護層２８を堆積する工程と、開口部２４の外周縁部に保護層２８が残存するように開口部２４の保護層２８を除去し、拡散層１２を露出する工程と、開口部２４に残存した保護層２８を保護膜３２として、露出した拡散層１２を陽極酸化処理する工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】光導波路中を導波する信号光を変調可能な極めて単純な構成の光導波路装置を提供すること。
【解決手段】ＳＯＩ膜１２の上にフォトレジスト１３を塗布し、フォトレジストマスク１４を形成して、フォトレジストマスク１４で被覆されてない領域のＳＯＩ膜をエッチング除去して、単結晶シリコンコアを有する光導波路１５を得る。そして、１．１μｍ以下の波長の光を上述の単結晶シリコンコアに照射可能な発光素子を石英基板２０の裏面側に設けて光導波路装置とする。発光素子３０からの光照射がない場合には、光導波路１５中を導波する光はそのまま導波するが、発光素子３０から光照射されて当該照射領域１６に電子−正孔対が形成されると、光導波路１５中を導波中の光はこの電子−正孔対によって吸収されるため、発光素子３０からの光照射の有無（ＯＮまたはＯＦＦ）により、光信号のＯＮ／ＯＦＦを行うスイッチング（変調）が可能となる。 （もっと読む）

【課題】高品質の高分子光導波路を効率よく製造することができる高分子光導波路の製造方法の提供。
【解決手段】仮基板上に高分子光導波路を成膜し、仮基板から高分子光導波路を剥離して高分子光導波路を得る製造方法において、前記仮基板の表面に、薬品で除去可能な犠牲層を成膜した後、該犠牲層上に前記高分子光導波路を成膜し、次いで仮基板と高分子光導波路を溶解せずに、犠牲層のみを溶解可能な薬品に浸漬することにより、仮基板から高分子光導波路を剥離することを特徴とする高分子光導波路の製造方法。仮基板は前記高分子光導波路の熱膨張係数と同程度の高分子素材からなることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】コア材の使用効率が良く、安価な光導波路及びその製造方法を提供する。
【解決手段】この光導波路の製造方法は、基板（２０）上に樹脂を塗布及び硬化させて第１クラッド（２）を形成する工程と、コアパターン形状の窪みを有する凹型（１０）と基板上の第１クラッドとの間にコア材（１’）を挟む工程と、挟まれたコア材を硬化させて窪みに対応したコアパターン（１）を第１クラッド上に形成する工程と、凹型（１０）をコアパターン及び第１クラッドから剥離する工程と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】 製造コストを抑え、小型化が可能な光回路構造および光モジュールを提供すること。
【解決手段】 クラッドとコアとを有する導波路と、クラッドに形成され、接着剤が供給されたフィルタ挿入溝２１と、フィルタ挿入溝２１と所定の距離だけ離れて配置され、所定の領域から接着剤が流出するのを抑制する手段としての溝２２を備える。 （もっと読む）