【課題】層間の隙間や気泡が排除され、電極間の導通不良が抑制されたことにより、着色ムラが抑制されたエレクトロクロミック素子を提供する。また、簡便なプロセスでエレクトロクロミック素子を形成できる、エレクトロクロミック素子の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のエレクトロクロミック素子１は、対向する第１および第２の透明電極層１０３、１０５と、前記第１および第２の透明電極層の間に配置されたイオン伝導性を有する膜１０９と、前記第１の透明電極層と前記膜との間に配置された第１のエレクトロクロミック層１０７および前記第２の透明電極層と前記膜との間に配置された酸化還元反応層１１１と、前記第１の透明電極層と前記第１のエレクトロクロミック層との間および前記第２の透明電極層と前記酸化還元反応層との間に配置された第１および第２の透明導電性樹脂層１０５、１１３とを含む。 （もっと読む）

【課題】大きな電圧を印加しなくてもエレクトロクロミック膜を充分に着色できるエレクトロクロミックミラーを得る。
【解決手段】本エレクトロクロミックミラー１０では、エレクトロクロミック膜１６において還元反応が生ずる際には、導電性ポリマ又はレドックスポリマ出形成された負イオン反応膜３０の酸化反応するため、エレクトロクロミック膜１６での還元反応を補償でき、この結果、スイッチ４２をＯＮ状態として電圧を印加することでエレクトロクロミック膜１６を充分に着色できる。 （もっと読む）

【課題】本発明によれば、撮影画角に関わらず、フレアやゴーストを有効に防止することができる光学鏡胴、結像光学システム、および撮影装置を提供することを目的とする。
【解決手段】被写体光を結像させる焦点距離可変の光学系を収容した光学鏡胴において、
光学系により結像される被写体以外の外光の進入を防ぐ、光路上に配置され、電圧の印加開放を受けて光学系の焦点距離に応じて光透過有効径を変化させる遮光部材とを備えた。焦点距離が短い（すなわち、撮影画角が広い）ときには、遮光部材の光透過有効径を増加させることによって明るい撮影画像を得ることができ、焦点距離が長い（すなわち、撮影画角が狭い）ときには遮光部材の光透過有効径を減少させることによって、高精度に画像欠陥の発生を回避することができる。 （もっと読む）

【課題】電圧−光学特性にヒステリシス性を有する素子構成とし、これによりＸＹマトリックス状に配列したパッシブ駆動を行い、広範囲で有効画素面積を広い画像表示を行うことのできるエレクトロクロミック装置を実現する。
【解決手段】支持基板１、６上に、少なくとも透明電極２、７が形成されている一対の電極構造体１１、１２が、前記透明電極同士が対面するように、電解質層５を挟持して配置されており、一対の電極構造体を構成する透明電極２、７のうちの、少なくとも一方の上に、エレクトロクロミック色素が吸着されている多孔質電極４が形成されており、かつ透明電極２と多孔質電極４の間に、ＮｉＯ薄膜１３、さらに望ましくは金属酸化物ｎ型半導体薄膜１４が形成されているエレクトロクロミック素子１０を提供する。 （もっと読む）

高温プロセスを必要としない、高性能かつ可撓性を有する基板を使用可能とする表示デバイスの製造方法である。２次元的に配列された複数の表示素子を有するアクティブマトリクス型の表示デバイスの製造方法において、アクティブ素子の材料（ＳＲ０〜ＳＲ４）を表示素子を構成する基板（ＰＬ１）上で直接成膜等するのではなく、半導体等の材料を用いて別途形成し、これを基板上に分布させることによりアクティブ素子を形成する。また、所定外の位置に分布されたアクティブ素子材料には、不要な導通が生じないようにその導電性を実質的に除去する処置を施す。 （もっと読む）

本発明は、可変の透過または反射光学／エネルギー特性を有する電気的に制御可能な装置に関するものである。本発明の装置は、エレクトロクロミック機能を有する層のスタックを備える少なくとも１つの支持基板からなり、前記スタックは、電解質によって隔てられ、２つの電気リード間に配置される少なくとも２つの活性エレクトロクロミック層を含み、２つの電気リードは、支持基板に最も近いリードに対応する下部リードと、基板から最も遠いリードに対応する上部リードとである。本発明は、機能層のスタックが、少なくとも１つのポリマーフィルムに結合され、ポリマーフィルムが、０．６％から４％の間、好ましくは、０．６％から２％の間、より好ましくは０．８％から１．５％の間の収縮率を有することを特徴とする。
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