空気調和又は冷凍システムにおける構成要素(１４)を清浄化する方法及び装置(１０)。構成要素（１４）に存在する汚染物質を除去するため構成要素(１４)を通過するように液体溶剤をフラッシュすることが提供される。フラッシュされ構成要素(１４)を通過した溶剤を蒸発させ、引き続いて汚染物質を含む溶剤を浄化するために蒸発された溶剤から汚染物質を除去する。その後、蒸発され浄化された溶剤を液化し、液化された溶剤を再使用して構成要素(１４)を再び洗浄する。
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【課題】被洗浄物を変形や損傷させずに、この被洗浄物の有する貫通孔を効果的に洗浄する洗浄方法及びその装置を提供すること。
【解決手段】洗浄装置１のチャンバー２内を仕切るように、ステンシルマスク６７をホルダー１１により固定配置してＡ室とＢ室に分離し、この両室を連通するバイパス３の弁３ａを開き、Ａ室の排出口６を閉じてチャンバー２内をＣＯ₂の臨界温度以上に保ち、Ｂ室に供給口４から臨界温度以上に加熱したＣＯ₂ガスを供給し、ＣＯ₂ガスを更に供給して圧力を高め、両室を等圧力の超臨界ＣＯ₂で満たした後に、バイパス弁３ａを閉じ、Ｂ室へ超臨界ＣＯ₂を加圧して供給し、Ａ室内との圧力差を形成する。これにより、高圧力のＢ室側から低圧力のＡ室側へステンシルマスク６７の貫通孔５９を通る超臨界ＣＯ₂の流れが生じ、この超臨界ＣＯ₂の運動エネルギーによって貫通孔５９を損傷させずに、貫通孔５９内のパーティクル２７を洗浄できる。 （もっと読む）

【課題】 基板洗浄装置の工程流れ方向に対するコンパクト化を図りつつ、基板の支持を確実化させると共に、基板のエッジ部分の異物残存を回避し、製品歩留まりを向上させる。
【解決手段】 基板２を移送しつつ、スクラビング洗浄工程、リンス洗浄工程、および乾燥工程を順次実行する基板洗浄装置１において、スクラビング洗浄工程を実行する第一の槽４と、リンス洗浄工程および乾燥工程を実行する第二の槽５とを備える。そして、第二の槽５に、基板２を垂直姿勢に保持してスピンリンス洗浄およびスピン乾燥を行うための単一のスピン部５８を配備する。 （もっと読む）