【課題】内部にサイホンを形成するサイホン配管をポンプ吐出側に接続したポンプ設備において、維持管理性、経済性及び信頼性を向上させたポンプ設備を提供する。
【解決手段】内部にサイホンを形成するサイホン配管２０をポンプ１８の吐出側に接続したポンプ設備において、サイホン配管２０の頂部に配置される頂部配管３０に設けたサイホンブレーク用配管４０を頂部配管３０の内部に張出させ、該サイホンブレーク用配管４０の下端に空気流出部６４を取付けた。 （もっと読む）

【課題】被災地の劣悪な環境等において、ポリタンク等の大型液体容器を持ち上げたり傾けたりすることなく、電気エネルギーを用いないサイフォンの原理による継続的な液体の移動を可能にするとともに、液体の移動を、簡単に、開始及び停止できるようにする。
【解決手段】サイフォン式ポンプにおいて、連結することによって密閉した空間を形成する、圧力タンク５内で膨張収縮する風船１４、液体の移動を開始するための開始用蛇腹容器１６、液体の移動を停止するための停止用蛇腹容器１８、前記風船１４と前記開始用蛇腹容器１６を連結する管１５、前記開始用蛇腹容器１６と前記停止用蛇腹容器１８を連結する管を備え、蛇腹容器の足踏みによって、サイフォンの原理による液体の移動の開始及び停止を可能にする。 （もっと読む）

【課題】騒音レベルの低減と真空性能の維持とを達成しつつ、真空発生装置を小型化する。
【解決手段】本体ブロック１１の収容孔１２にはエジェクターエレメント１４が組み込まれ、エジェクターエレメント１４はノズル５２とディフューザ５１とを有し、ディフューザ５１には空気を案内するディフューザ流路が設けられている。ディフューザ５１に対しては給気制御用電磁弁３１によって供給孔１３を介して圧縮空気が供給される。ディフューザ５１の先端には流出端面６４の径方向外方に軸方向に延びるとともに円周方向相互間で迂回流路を形成する複数の支持突起６６が設けられている。支持突起６６の内側にはマフラ７１が装着され、マフラ７１とディフューザ５１の流出口６５との間には分離空間７３が設けられている。 （もっと読む）

真空グリッパ手段に真空を供給するように配置される真空発生器であって、チャンバ（６）が、真空発生器と結合され、且つ圧縮エアの流れ（Ｐ）の遮断の結果として、真空グリッパ手段に過剰圧力を放出するために、真空グリッパ手段との流れ接続（９）を開くためにチャンバ内に蓄積された過剰圧力によって作動されるバルブ（１５）を介して、真空グリッパ手段との流れ接続（９）がもたらされるように配置される圧縮エアによって駆動される真空発生器。チャンバ（６）は、周囲大気圧との流れ接続（１１）と、さらなる流れ接続（１１）において、周囲大気の気圧を下回るチャンバ（６）内の気圧の結果として大気との接続（１１）を開くように配置される１方向バルブ（１０）をさらに備えことを特徴とする。
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【課題】負圧状態が解除された正圧時にのみ真空ポートを大気と連通させることにより、ワーク保持時において負圧を確実に保持する。
【解決手段】真空発生ユニット１０を構成するメインボディ１２に、真空発生機構として機能するエゼクタ１４が設けられ、前記エゼクタ１４と真空ポート３０との間に大気導入弁４０が設けられている。この大気導入弁４０は、エゼクタ１４による負圧発生時、該エゼクタ１４によって発生した負圧によるワークの保持状態では弁閉状態となり、前記真空ポート３０と大気との連通が遮断されている。一方、真空ポート３０の負圧状態を解除する真空破壊時においては、大気導入弁４０が弁開状態となり、前記真空ポート３０が大気と連通する。 （もっと読む）

本発明は、圧縮空気により負圧力を発生させ得るようにしたエジェクタ装置であって、この圧縮空気は、圧縮空気導管２を介して装置内に含められたエジェクタ１に供給され、該エジェクタは、圧縮空気導管内に配置され且つ、開いた位置において、エジェクタへの圧縮空気の流れを許容するよう制御可能である弁部材と、エジェクタと負圧力により駆動される把持部材との間に配置された空気吸込み導管３と、空気吸込み導管と流れ連通するように配置され、また、開いた位置にて、把持部材を大気と連通する状態に置く通気弁７；７０とを含むエジェクタ装置に関する。エジェクタ装置は、弁部材が、圧縮空気の流れ方向に向けて配置された主要弁５；５０と、主要弁の下流にて流れ方向に向けて配置された第二の弁６；６０と、主要弁と第二の弁との間を伸びて、流れ部分２´の圧縮空気が弁の開いた位置にて流れるときに通る圧縮空気導管の流れ部分２´と、を含み、通気弁７；７０は、主要弁の開いた位置にて、第二の弁の開いた位置又は閉じた位置と独立的に、閉じる空気圧力が連続的に加えられようにするため上記流れ部分２´と流れ連通していることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 真空の立ち上がり、立ち下がりが速い、高速応答特性のすぐれた真空発生器を提供する。
【解決手段】 真空発生用供給ポート１０と、真空ポート５０と、真空ポートに破壊エアを供給する真空破壊用供給ポート１４と、排気ポート４０とを備えた真空発生器において、エジェクタ機構として、ディフューザスプール３０と前記真空発生用供給ポート１０から供給された圧縮空気をディフューザスプール３０に向けて噴射するノズル３２とを備え、前記ディフューザスプール３０とノズル３２が、前記真空発生用供給ポート１０に圧縮空気が送入された際には、前記真空破壊用供給ポート１４と前記真空ポート５０との連通を遮断する閉止位置に移動し、前記真空発生用供給ポート１０への圧縮空気の送入が停止すると、前記真空破壊用供給ポート１４と前記真空ポート５０とを連通させる開放位置に移動することにより、前記真空ポート５０と前記真空破壊用供給ポート１４間の連通を制御する遮断弁として形成されたことを特徴とする。 （もっと読む）