真空発生器
【課題】 真空の立ち上がり、立ち下がりが速い、高速応答特性のすぐれた真空発生器を提供する。
【解決手段】 真空発生用供給ポート１０と、真空ポート５０と、真空ポートに破壊エアを供給する真空破壊用供給ポート１４と、排気ポート４０とを備えた真空発生器において、エジェクタ機構として、ディフューザスプール３０と前記真空発生用供給ポート１０から供給された圧縮空気をディフューザスプール３０に向けて噴射するノズル３２とを備え、前記ディフューザスプール３０とノズル３２が、前記真空発生用供給ポート１０に圧縮空気が送入された際には、前記真空破壊用供給ポート１４と前記真空ポート５０との連通を遮断する閉止位置に移動し、前記真空発生用供給ポート１０への圧縮空気の送入が停止すると、前記真空破壊用供給ポート１４と前記真空ポート５０とを連通させる開放位置に移動することにより、前記真空ポート５０と前記真空破壊用供給ポート１４間の連通を制御する遮断弁として形成されたことを特徴とする。
【解決手段】 真空発生用供給ポート１０と、真空ポート５０と、真空ポートに破壊エアを供給する真空破壊用供給ポート１４と、排気ポート４０とを備えた真空発生器において、エジェクタ機構として、ディフューザスプール３０と前記真空発生用供給ポート１０から供給された圧縮空気をディフューザスプール３０に向けて噴射するノズル３２とを備え、前記ディフューザスプール３０とノズル３２が、前記真空発生用供給ポート１０に圧縮空気が送入された際には、前記真空破壊用供給ポート１４と前記真空ポート５０との連通を遮断する閉止位置に移動し、前記真空発生用供給ポート１０への圧縮空気の送入が停止すると、前記真空破壊用供給ポート１４と前記真空ポート５０とを連通させる開放位置に移動することにより、前記真空ポート５０と前記真空破壊用供給ポート１４間の連通を制御する遮断弁として形成されたことを特徴とする。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は部品等のワークを真空吸着して搬送する搬送装置等に利用される真空発生器に関する。
【背景技術】
【０００２】
部品等のワークを真空吸着して搬送する搬送装置には、圧縮空気をエア源として真空を発生する真空発生器が広く用いられている。真空発生器のもっとも単純な構造からなるものは、本体内にノズルとディフューザを設け、供給ポートから圧縮空気を本体内に送入し、エジェクタ作用によって真空ポートに負圧を発生させるように構成したものである。しかしながら、このような構成の真空発生器においては、真空ポートに吸着されたワークの離脱は、供給ポートへの圧縮空気の供給を停止し、排気ポートから真空ポート側へ大気が連通することによってなされるから、ワーク離脱時の応答性が低いという問題がある。
【０００３】
真空ポートにおけるワーク離脱時の応答性を改善する方法としては、真空ポートを真空破壊する際に、真空ポートに強制的に破壊エアを送入する方法がある。この方法による真空発生器としては、パイロットバルブを用いて真空発生時と真空破壊時のエア流路を切り替え、真空破壊時に圧縮空気が真空ポート側に供給されるように構成した装置がある（特許文献１、２参照）。
【特許文献１】特開２００２−２２４９８４号公報
【特許文献２】特開２００３−４２１３４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、パイロットバルブを用いてエア流路を切り替えて、真空破壊時に真空ポート側に破壊エアを供給するように構成した真空発生器は、装置の構成が複雑になるという問題と、流路を切り替える構成とするために、供給ポートから真空ポートへ破壊エアが通流する流路が長くなり、真空破壊時の応答性が低下するという問題と、真空発生時においても連絡流路が長くなるために応答性が低下するという問題がある。
【０００５】
このような問題を解消する真空発生器として、図７に示すようなシャトル弁５とタンク６とを備えた真空発生器がある。この真空発生器では、圧縮空気の供給ポートＰに圧縮空気を供給すると、シャトル弁５を経由してタンク６に圧縮空気が供給され、同時にエジェクタ７に圧縮空気が供給されて真空ポート（Ｖ）が負圧となり、供給ポート（Ｐ）への圧縮空気の供給が停止されると、シャトル弁５がタンク６と真空ポート（Ｖ）とを連通する位置に移動し、タンク６から真空ポート（Ｖ）にエアが供給され、真空ポート（Ｖ）に破壊エアが供給されるようにして真空破壊される。
【０００６】
このように、この真空発生器の場合は、タンク６から真空ポート（Ｖ）に破壊エアが供給されることにより、単純な形式の真空発生器とくらべて真空破壊時おける高速応答性は良好になる。しかしながら、この真空発生器では、エジェクタ７の他にシャトル弁５とタンク６とを備えるために、装置をコンパクトに形成することが阻害され、またシャトル弁５と真空ポート（Ｖ）との間の流路が短縮できないと、真空破壊時の応答性が不十分になるという問題がある。
【０００７】
そこで、本発明はこれらの課題を解決すべくなされたものであり、真空発生装置の構成を簡素化し、装置をコンパクトに形成することができ、真空発生時、真空破壊時の高速応答性にすぐれた真空発生器を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、上記目的を達成するため次の構成を備える。
すなわち、圧縮空気が供給される真空発生用供給ポートと、本体に内蔵されたエジェクタ機構により真空圧力が発生される真空ポートと、真空ポートに破壊エアを供給する真空破壊用供給ポートと、排気ポートとを備えた真空発生器において、前記エジェクタ機構として、ディフューザスプールと前記真空発生用供給ポートから供給された圧縮空気をディフューザスプールに向けて噴射するノズルとを備え、前記ディフューザスプールとノズルが、前記真空発生用供給ポートに圧縮空気が送入された際には、前記真空破壊用供給ポートと前記真空ポートとの連通を遮断する閉止位置に移動し、前記真空発生用供給ポートへの圧縮空気の送入が停止すると、前記真空破壊用供給ポートと前記真空ポートとを連通させる開放位置に移動することにより、前記真空ポートと前記真空破壊用供給ポート間の連通を制御する遮断弁として形成されていることを特徴とする。
【０００９】
また、前記ディフューザスプールとノズルは、前記真空発生用供給ポートと前記排気ポートとを連通する装着孔内に、軸線方向に進退動可能に装着され、前記ディフューザスプールの外周面と前記装着孔の内周面との間に、前記真空破壊用供給ポートに連通する第１の流路と、前記真空ポートに連通する第２の流路とを連絡する連絡流路が設けられ、前記ディフューザスプールの外周面と前記装着孔の内周面とに、前記ディフューザスプールの進退動にともなって、前記連絡流路を開閉するバルブ部が設けられていることを特徴とする。
また、前記ディフューザスプールとノズルは、前記装着孔に嵌入して装着されたスリーブに内挿され、前記ディフューザスプールの外周面と前記スリーブの内周面との間に前記バルブ部が設けられていることを特徴とする。
また、前記スリーブには、前記ディフューザスプールに設けられた導入口に連通する開口が設けられ、前記バルブ部は、前記開口よりも前側に設けられ、前記ディフューザスプールが前進位置に移動した際に前記連絡流路が閉止され、前記ディフューザスプールが後退位置に移動した際に前記連絡流路が開放されることを特徴とする。
【００１０】
また、前記ディフューザスプールには、該ディフューザスプールを常時、閉止位置に移動させる向きの付勢手段が装着されていることにより、ディフューザスプールとノズルが元位置に復帰して所要の遮断弁として作用する。
また、前記真空破壊用供給ポートに連通する第２の流路に連通して流量絞り弁が設けられていることにより、真空破壊時の破壊エアの流量を調節して的確に真空破壊することができる。
【００１１】
また、前記真空発生用供給ポートに、圧縮空気の供給源側に接続される供給管が接続され、該供給管から分岐して、真空発生器の本体へ向かう一方向へのエアの通流のみを許容するチェック弁を介して、支管が接続されていることにより、支管に供給された圧縮空気による残圧を真空破壊時の破壊エアとして利用することができ、支管の長さ等を適宜調節することによって破壊エアの流量を変化させることなく破壊エアの吐出時間を簡単に調節することが可能となる。
【発明の効果】
【００１２】
本発明に係る真空発生器によれば、エジェクタ機構を構成するディフューザスプールとノズルとを、真空破壊用供給ポートと真空ポート間の連通を制御する遮断弁として作用するように設けたことにより、装置の構成を簡素化して装置をコンパクトに形成することが可能となり、真空発生器の本体内の流路長を短縮することができて、真空発生器の真空の立ち上がり、立ち下がりが速い、高速応答性のすぐれた真空発生器として提供することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、本発明に係る真空発生器の好適な実施の形態について、添付図面にしたがって詳細に説明する。
図１は本発明に係る真空発生器の一実施形態の全体構成を示す。本実施形態の真空発生器は、真空発生器の本体６０と、本体６０に設けられた真空発生用供給ポート１０に接続され、真空発生用供給ポート１０に圧縮空気を供給する供給管１２と、本体６０に設けられた真空破壊用供給ポート１４に接続され、真空破壊用供給ポート１４に真空破壊用のエアを供給する支管１６ａ、１６ｂとを有する。
【００１４】
供給管１２は一端が真空発生用供給ポート１０に接続され、他端が分岐用管継手２２の一方の分岐部２２ａに接続される。
支管１６ａ、１６ｂは本体６０側へ向かう一方向へのエアの通流のみを許容するチェック弁１８を介して一本の管体状に形成され、支管１６ａの一端が真空破壊用供給ポート１４に接続され、支管１６ｂの他端が分岐用管継手２２の他方の分岐部２２ｂに接続される。チェック弁１８は係止爪と開放リングとを備えた継手構造に形成されている。
分岐用管継手２２の基端部２２ｃには、圧縮空気の供給源側に接続される管体２０が接続される。圧縮空気の供給源側には管体２０への圧縮空気の供給タイミングを制御するためのバルブ（不図示）が設けられ、分岐用管継手２２を介して供給管１２と支管１６ｂ、１６ａへの圧縮空気の供給が制御される。図１において、中心線の下半部が管体２０から圧縮空気を供給している状態、上半部が管体２０からの圧縮空気の供給を停止した状態を示す。
【００１５】
図２に、真空発生器の本体６０の構成を示す。
本体６０の一端側には前記真空発生用供給ポート１０と真空破壊用供給ポート１４とが並列配置に設けられ、本体６０の他端側には排気ポート４０と真空ポート５０とが並列して配置される。
本体６０にはエジェクタ機構を内蔵するための装着孔６０ａが本体６０を貫通して設けられており、真空発生用供給ポート１０は装着孔６０ａの一端側に設けられ、排気ポート４０は装着孔６０ａの他端側に設けられる。
真空発生用供給ポート１０は係止爪１０ａと開放リング１０ｂを備えた継手構造に形成される。
排気ポート４０は、本体６０から円筒状に延出して形成された円筒部６０ｂの端部を蓋４２により気密に閉止し、円筒部６０ｂの側面にスリット状に排気孔４４を開口して設け、円筒部６０ｂの内面に排気孔４４を塞ぐ配置にサイレンサーエレメント４６を取り付けて形成される。
【００１６】
真空破壊用供給ポート１４は、真空発生用供給ポート１０と同様に、係止爪１４ａと開放リング１４ｂとを備えた継手構造に形成される。
また、真空ポート５０は、同様な継手構造に形成されたアタッチポート５１に接続された接続管５１ａの端部に係止爪５０ａと開放リング５０ｂとを備えた継手構造に形成されている。真空ポート５０の内側には、真空ポート５０からエア吸引した際に、本体６０内にエアとともに塵埃が侵入しないように保護するフィルター５１ｂが装着されている。
【００１７】
装着孔６０ａに取り付けられるエジェクタ機構は、装着孔６０ａの軸線方向に可動にディフューザスプール３０とノズル３２とを配置し、ディフューザスプール３０に設けられた貫通孔３０ａと真空ポート５０とを第１の流路５２を介して連通することによって構成される。
本実施形態では、装着孔６０ａに第１のスリーブ３４を嵌入し、第１のスリーブ３４にディフューザスプール３０とノズル３２とを軸線方向に可動に装着した。ディフューザスプール３０は外周面に装着したパッキン３０ｂにより、第１のスリーブ３４の内周面とエアシールした状態で軸線方向に可動に設けられ、ノズル３２は基端側の外周面に装着したシール部材３２ａにより、第１のスリーブ３４の内周面とエアシールした状態で軸線方向に可動に設けられる。
【００１８】
ディフューザスプール３０の前端部はやや縮径して形成され、縮径部に付勢手段としてのスプリング３１が外挿される。スプリング３１は、この縮径部の基端部に形成された係止段差と、円筒部６０ｂに取り付けられた蓋４２との間を弾発するように装着される。これによって、ディフューザスプール３０、およびディフューザスプール３０の後端面に当接して配置されるノズル３２は、常時、後方（真空発生用供給ポート１０側）へ付勢された状態になる。ディフューザスプール３０とノズル３２の後方への移動位置（後退位置）は、第１のスリーブ３４に嵌入して装着される第２のスリーブ３５の前端面にノズル３２の後端面が当接することによって規制される。
【００１９】
図３に、ディフューザスプール３０とノズル３２とを組み合わせた部分の近傍の構造を拡大して示す。
真空ポート５０に連通して本体６０に設けられる第１の流路５２は、真空ポート５０から第１のスリーブ３４に向けて屈曲して設けられ、第１のスリーブ３４に設けられた開口３４ａ内で端部が開口する。ディフューザスプール３０にはノズル３２の噴出端の側方で開口する導入口３０ｃが設けられ、開口３４ａと導入口３０ｃとは近接配置される。
【００２０】
ディフューザスプール３０の導入口３０ｃよりも前側には段差突起３０ｄが設けられ、段差突起３０ｄが設けられた部位に、ディフューザスプール３０の外面を一周するようにＯリング等のシール部材３６が嵌装される。第１のスリーブ３４には、この段差突起３０ｄに嵌装されたシール部材３６に対向する配置に、シール部材３６が当接してエア流路を開閉する作用をなす弁座３４ｂが設けられる。
ディフューザスプール３０の段差突起３０ｄが形成された部位とパッキン３０ｂとで挟まれた部位は、第１のスリーブ３４の内周面との間が連絡流路となるように外周面がやや縮径する縮径部３０ｅに形成される。第１のスリーブ３４には、この縮径部３０ｅが形成された部位に連通する連通孔３４ｃが形成される。
【００２１】
連通孔３４ｃは、本体６０内に形成された第２の流路５４を介して真空破壊用供給ポート１４に連絡する。第２の流路５４は第１の流路５２とは本体６０内において交差しない配置に設けられ、図２に示すように、ニードルバルブ５６を経由して真空破壊用供給ポート１４に連通する。ニードルバルブ５６は真空破壊エアの流量調節用に設けられたもので、軸線方向に進退動することによって真空破壊用のエアの流量を調節することが可能に設けられる。
【００２２】
続いて、上述した真空発生器の作用について説明する。
図１は、上記本体６０に供給管１２と支管１６ａ、１６ｂを装着した状態である。供給管１２と支管１６ａ、１６ｂは真空発生用供給ポート１０と真空破壊用供給ポート１４の継手構造により、ポートに管体を挿入するだけで簡単に装着することができる。管体をポートから外す際には、開放リング１０ｂ、１４ｂを内方に押して係止爪１０ａ、１４ａによるロックを外して管体を引き抜くようにすればよい。
分岐用管継手２２に圧縮空気の供給源を接続することによって真空発生器の使用状態となる。
【００２３】
まず、圧縮空気の供給源から管体２０を経由して圧縮空気が供給されると、圧縮空気は分岐用管継手２２で分岐され、供給管１２と支管１６ｂ、１６ａとに供給される。
供給管１２に供給された圧縮空気は、図２に示すように、真空発生用供給ポート１０に送入され、真空ポート５０に真空圧力を発生させる。
すなわち、真空発生用供給ポート１０に送入された圧縮空気の圧力によりノズル３２が前進し、ディフューザスプール３０の段差突起３０ｄに嵌装したシール部材３６が第１のスリーブ３４に設けた弁座３４ｂに当接する。これによって、図３に示すように、連通孔３４ｃと開口３４ａとの間に形成された連絡流路５３が閉止され、第２の流路５４と第１の流路５２との連通が阻止され、第１の流路５２が開口３４ａ、導入口３０ｃを介してディフューザスプール３０と連通する。すなわち、真空ポート５０がエジェクタ機構に連通し、真空破壊用供給ポート１４と真空ポート５０とが遮断された状態になる。
【００２４】
ディフューザスプール３０とノズル３２とが前進し、ディフューザスプール３０の段差突起３０ｄに嵌装したシール部材３６が第１のスリーブ３４に設けた弁座３４ｂに当接した位置が、ディフューザスプール３０とノズル３２が前進位置（閉止位置）に移動した状態である。シール部材３６と弁座３４ｂは、第１の流路５２と第２の流路５４とを連絡する連絡流路５３を開閉させる作用をなすもので、連絡流路５３を開閉するバルブ部として設けられている。バルブ部の機能は、ディフューザスプール３０に弁座を設け、第１のスリーブ３４にＯリング等のシール部を設けることによっても達成される。
【００２５】
ノズル３２からディフューザスプール３０に噴射される圧縮空気は、エジェクタ作用により真空ポート５０を真空圧力とし、排気ポート４０からサイレンサーエレメント４６を通って外部に排出される（真空発生動作）。図２、３の矢印は、圧縮空気によるエジェクタ作用を示す。
このエジェクタ作用は真空発生用供給ポート１０に圧縮空気が送入されることによってなされるもので、圧縮空気の送入圧力により、スプリング３１による弾発作用に抗して、ディフューザスプール３０とノズル３２が前進し、真空破壊用供給ポート１４と真空ポート５０とを遮断し、真空発生用供給ポート１０からのみ圧縮空気を本体６０内に供給して真空発生させるものである。
【００２６】
真空発生状態は、圧縮空気の供給源からの圧縮空気の供給を停止することによって解除される。図４は、圧縮空気の供給を停止した直後の状態を示す。
圧縮空気の供給を停止すると、ディフューザスプール３０とノズル３２は、スプリング３１の弾発作用により、第２のスリーブ３５の端面にノズル３２の後端面が当接する後退位置（開放位置）に移動する。
ディフューザスプール３０が後退位置に移動すると、弁座３４ｂとシール部材３６とが離間し、第２の流路５４が連通孔３４ｃ、開口３４ａを介して第１の流路５２と連通する。すなわち、真空破壊用供給ポート１４と真空ポート５０とが連通する。
【００２７】
真空破壊用供給ポート１４と真空ポート５０とが連通すると、図１に示す支管１６ａ内に残留する圧縮空気が、第２の流路５４および第１の流路５２を経由して真空ポート５０に供給される。この支管１６ａに残留する圧縮空気が真空ポート５０に供給される作用は、チェック弁１８により支管１６ａに残留する圧縮空気が支管１６ｂ側に逆流することが阻止され、支管１６ａ内の残圧によってエアが供給されるものである。
すなわち、真空発生用供給ポート１０への圧縮空気の供給が停止されると、ディフューザスプール３０とノズル３２は、真空ポート５０と真空破壊用供給ポート１４とを連通する位置（真空破壊回路を開く位置）に移動し、支管１６ａに残留する圧縮空気が真空破壊用供給ポート１４から真空ポート５０に破壊エアとして供給されて真空破壊される。図４に、破壊エアの流れを破線によって示す。
【００２８】
図５は、本実施形態の真空発生器の回路図を示している。圧縮空気の供給源側に真空発生用バルブ８が設けられ、真空破壊用供給ポート１４はチェック弁１８を介して圧縮空気の供給源側に接続されることを示す。
本実施形態の真空発生器において特徴的な構成は、エジェクタ機構を構成するディフューザスプール３０とノズル３２とが、真空ポート５０と真空破壊用供給ポート１４との間の連通を制御する遮断弁３００としても作用する機能を備えていることである。
【００２９】
図は、圧縮空気が真空発生用供給ポート１０に供給されていない状態（真空破壊時）で、遮断弁３００を介して真空破壊用供給ポート１４と真空ポート５０とが連通している状態を示す。圧縮空気が供給された際には、遮断弁３００が真空破壊用供給ポート１４と真空ポート５０との間を遮断し、圧縮空気はエジェクタ３０、３２を通過して排気ポート４０から排出され、真空ポート５０に真空圧力が発生する。
【００３０】
本実施形態の真空発生器によれば、エジェクタ機構を構成するディフューザスプール３０とノズル３２とに遮断弁３００としての機能をもたせたことにより、遮断弁を別に設ける場合と比較して、真空発生器の構成を簡素化することができ、装置をコンパクトに形成することが可能になる。これによって、真空発生動作、真空破壊動作の応答特性（立ち上がり、立ち下がり）にもっとも大きく影響する、遮断弁３００から真空ポート５０までの真空破壊回路の容積を最小限にすることが可能となり、真空の立ち上がり、立ち下がりを高速で行うことが可能になる。
【００３１】
また、本実施形態の真空発生器では、チェック弁１８と真空破壊用供給ポート１４とを接続する支管１６ａ内に残留する圧縮空気を破壊用のエアとして利用するから、支管１６ａの長さおよび径を調節することによって、真空破壊用として供給される破壊エア量を調節することができる。すなわち、支管１６ａから破壊エアとして供給されるエア量は支管１６ａの内容積が大きくなると多くなり、支管１６ａの内容積が小さくなると少なくなるから、たとえば、支管１６ａの長さを長くすることによって、破壊エアのエア量を増やすことができ、破壊エアの吐出時間を長くすることができる。
したがって、本実施形態の真空発生器によれば、真空発生器を利用する搬送装置等での作業内容に応じて、支管１６ａの長さや径を変えることにより、破壊用のエア量を調節することができ、破壊エア量を調節して的確な作業を行うことができる。支管１６ａ、１６ｂを交換する作業は、きわめて容易である。
【００３２】
真空ポート５０への破壊エアの供給量については流量絞り弁（ニードルバルブ５６）を使用して調節することもできる。流量絞り弁を絞ることにより、真空回路に流入するエア量が減少し、破壊エアの吐出時間が長くなる。このように、流量絞り弁を調節することにより、真空破壊時に真空ポート５０に供給される破壊エアのエア量を調節し、適切な真空破壊を行うことができる。
【００３３】
図６は、上記実施形態で説明した真空発生器の本体６０を利用する真空発生器の他の構成例を示す回路図である。
上記実施形態では、チェック弁１８を利用して圧縮空気の供給源から真空発生用供給ポート１０と真空破壊用供給ポート１４へ圧縮空気を分岐させて供給する構成とした。図６は、圧縮空気の供給源に真空発生用バルブ８と真空破壊用バルブ９を接続し、真空発生用供給ポート１０への圧縮空気の供給と、真空破壊用供給ポート１４への圧縮空気の供給を、真空発生用バルブ８と真空破壊用バルブ９のON-OFFを交互に切り替えて制御するように構成した例である。
【００３４】
この実施形態の場合も、エジェクタ機構を構成するディフューザスプール３０とノズル３２とが遮断弁３００として機能し、真空発生用供給ポート１０に圧縮空気が送入された際には、真空破壊用供給ポート１４と真空ポート５０との間が遮断され、真空発生用供給ポート１０への圧縮空気の供給が停止すると、真空破壊用供給ポート１４と真空ポート５０とが連通して真空ポート５０に破壊エアが供給される。
破壊エアは圧縮空気の供給源から供給されるから、真空破壊用バルブ９の開閉タイミングを調節すること、流量絞り弁を調節することによって流量調整される。
【００３５】
本実施形態の真空発生器もきわめてコンパクトに形成され、真空の立ち上がりおよび立ち下がりの高速応答性のすぐれた真空発生器として提供される。
また、本発明に係る真空発生器は真空発生機構と真空破壊機構を組み込んだ小型の真空発生器として提供されるから、真空配管の末端で使用する真空発生器として好適に利用することができる。真空配管の末端で使用することによって、真空ポートからワークまでの容積を最小限とすることができ、これによっても真空の立ち上がり、立ち下がりを速くすることができる。
【図面の簡単な説明】
【００３６】
【図１】真空発生器の本体に供給管と支管とを接続した状態を示す説明図である。
【図２】真空発生器の本体の構成（真空動作時）を示す断面図である。
【図３】真空発生器の本体の構成を拡大して示す断面図である。
【図４】真空発生器の本体の構成（真空破壊時）を示す断面図である。
【図５】真空発生器の回路図である。
【図６】真空発生器の他の実施形態の構成を示す回路図である。
【図７】従来の真空発生器の構成を示す回路図である。
【符号の説明】
【００３７】
１０ 真空発生用供給ポート
１２ 供給管
１４ 真空破壊用供給ポート
１６ａ、１６ｂ 支管
１８ チェック弁
２２ 分岐用管継手
３０ ディフューザスプール
３０ｃ 導入口
３０ｄ 段差突起
３１ スプリング
３２ ノズル
３４ 第１のスリーブ
３４ａ 開口
３４ｂ 弁座
３４ｃ 連通孔
３６ シール部材
４０ 排気ポート
４４ 排気孔
４６ サイレンサーエレメント
５０ 真空ポート
５１ アタッチポート
５１ｂ フィルター
５２ 第１の流路
５４ 第２の流路
５６ ニードルバルブ
６０ 本体
６０ａ 装着孔
６０ｂ 円筒部
３００ 遮断弁
【技術分野】
【０００１】
本発明は部品等のワークを真空吸着して搬送する搬送装置等に利用される真空発生器に関する。
【背景技術】
【０００２】
部品等のワークを真空吸着して搬送する搬送装置には、圧縮空気をエア源として真空を発生する真空発生器が広く用いられている。真空発生器のもっとも単純な構造からなるものは、本体内にノズルとディフューザを設け、供給ポートから圧縮空気を本体内に送入し、エジェクタ作用によって真空ポートに負圧を発生させるように構成したものである。しかしながら、このような構成の真空発生器においては、真空ポートに吸着されたワークの離脱は、供給ポートへの圧縮空気の供給を停止し、排気ポートから真空ポート側へ大気が連通することによってなされるから、ワーク離脱時の応答性が低いという問題がある。
【０００３】
真空ポートにおけるワーク離脱時の応答性を改善する方法としては、真空ポートを真空破壊する際に、真空ポートに強制的に破壊エアを送入する方法がある。この方法による真空発生器としては、パイロットバルブを用いて真空発生時と真空破壊時のエア流路を切り替え、真空破壊時に圧縮空気が真空ポート側に供給されるように構成した装置がある（特許文献１、２参照）。
【特許文献１】特開２００２−２２４９８４号公報
【特許文献２】特開２００３−４２１３４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、パイロットバルブを用いてエア流路を切り替えて、真空破壊時に真空ポート側に破壊エアを供給するように構成した真空発生器は、装置の構成が複雑になるという問題と、流路を切り替える構成とするために、供給ポートから真空ポートへ破壊エアが通流する流路が長くなり、真空破壊時の応答性が低下するという問題と、真空発生時においても連絡流路が長くなるために応答性が低下するという問題がある。
【０００５】
このような問題を解消する真空発生器として、図７に示すようなシャトル弁５とタンク６とを備えた真空発生器がある。この真空発生器では、圧縮空気の供給ポートＰに圧縮空気を供給すると、シャトル弁５を経由してタンク６に圧縮空気が供給され、同時にエジェクタ７に圧縮空気が供給されて真空ポート（Ｖ）が負圧となり、供給ポート（Ｐ）への圧縮空気の供給が停止されると、シャトル弁５がタンク６と真空ポート（Ｖ）とを連通する位置に移動し、タンク６から真空ポート（Ｖ）にエアが供給され、真空ポート（Ｖ）に破壊エアが供給されるようにして真空破壊される。
【０００６】
このように、この真空発生器の場合は、タンク６から真空ポート（Ｖ）に破壊エアが供給されることにより、単純な形式の真空発生器とくらべて真空破壊時おける高速応答性は良好になる。しかしながら、この真空発生器では、エジェクタ７の他にシャトル弁５とタンク６とを備えるために、装置をコンパクトに形成することが阻害され、またシャトル弁５と真空ポート（Ｖ）との間の流路が短縮できないと、真空破壊時の応答性が不十分になるという問題がある。
【０００７】
そこで、本発明はこれらの課題を解決すべくなされたものであり、真空発生装置の構成を簡素化し、装置をコンパクトに形成することができ、真空発生時、真空破壊時の高速応答性にすぐれた真空発生器を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、上記目的を達成するため次の構成を備える。
すなわち、圧縮空気が供給される真空発生用供給ポートと、本体に内蔵されたエジェクタ機構により真空圧力が発生される真空ポートと、真空ポートに破壊エアを供給する真空破壊用供給ポートと、排気ポートとを備えた真空発生器において、前記エジェクタ機構として、ディフューザスプールと前記真空発生用供給ポートから供給された圧縮空気をディフューザスプールに向けて噴射するノズルとを備え、前記ディフューザスプールとノズルが、前記真空発生用供給ポートに圧縮空気が送入された際には、前記真空破壊用供給ポートと前記真空ポートとの連通を遮断する閉止位置に移動し、前記真空発生用供給ポートへの圧縮空気の送入が停止すると、前記真空破壊用供給ポートと前記真空ポートとを連通させる開放位置に移動することにより、前記真空ポートと前記真空破壊用供給ポート間の連通を制御する遮断弁として形成されていることを特徴とする。
【０００９】
また、前記ディフューザスプールとノズルは、前記真空発生用供給ポートと前記排気ポートとを連通する装着孔内に、軸線方向に進退動可能に装着され、前記ディフューザスプールの外周面と前記装着孔の内周面との間に、前記真空破壊用供給ポートに連通する第１の流路と、前記真空ポートに連通する第２の流路とを連絡する連絡流路が設けられ、前記ディフューザスプールの外周面と前記装着孔の内周面とに、前記ディフューザスプールの進退動にともなって、前記連絡流路を開閉するバルブ部が設けられていることを特徴とする。
また、前記ディフューザスプールとノズルは、前記装着孔に嵌入して装着されたスリーブに内挿され、前記ディフューザスプールの外周面と前記スリーブの内周面との間に前記バルブ部が設けられていることを特徴とする。
また、前記スリーブには、前記ディフューザスプールに設けられた導入口に連通する開口が設けられ、前記バルブ部は、前記開口よりも前側に設けられ、前記ディフューザスプールが前進位置に移動した際に前記連絡流路が閉止され、前記ディフューザスプールが後退位置に移動した際に前記連絡流路が開放されることを特徴とする。
【００１０】
また、前記ディフューザスプールには、該ディフューザスプールを常時、閉止位置に移動させる向きの付勢手段が装着されていることにより、ディフューザスプールとノズルが元位置に復帰して所要の遮断弁として作用する。
また、前記真空破壊用供給ポートに連通する第２の流路に連通して流量絞り弁が設けられていることにより、真空破壊時の破壊エアの流量を調節して的確に真空破壊することができる。
【００１１】
また、前記真空発生用供給ポートに、圧縮空気の供給源側に接続される供給管が接続され、該供給管から分岐して、真空発生器の本体へ向かう一方向へのエアの通流のみを許容するチェック弁を介して、支管が接続されていることにより、支管に供給された圧縮空気による残圧を真空破壊時の破壊エアとして利用することができ、支管の長さ等を適宜調節することによって破壊エアの流量を変化させることなく破壊エアの吐出時間を簡単に調節することが可能となる。
【発明の効果】
【００１２】
本発明に係る真空発生器によれば、エジェクタ機構を構成するディフューザスプールとノズルとを、真空破壊用供給ポートと真空ポート間の連通を制御する遮断弁として作用するように設けたことにより、装置の構成を簡素化して装置をコンパクトに形成することが可能となり、真空発生器の本体内の流路長を短縮することができて、真空発生器の真空の立ち上がり、立ち下がりが速い、高速応答性のすぐれた真空発生器として提供することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、本発明に係る真空発生器の好適な実施の形態について、添付図面にしたがって詳細に説明する。
図１は本発明に係る真空発生器の一実施形態の全体構成を示す。本実施形態の真空発生器は、真空発生器の本体６０と、本体６０に設けられた真空発生用供給ポート１０に接続され、真空発生用供給ポート１０に圧縮空気を供給する供給管１２と、本体６０に設けられた真空破壊用供給ポート１４に接続され、真空破壊用供給ポート１４に真空破壊用のエアを供給する支管１６ａ、１６ｂとを有する。
【００１４】
供給管１２は一端が真空発生用供給ポート１０に接続され、他端が分岐用管継手２２の一方の分岐部２２ａに接続される。
支管１６ａ、１６ｂは本体６０側へ向かう一方向へのエアの通流のみを許容するチェック弁１８を介して一本の管体状に形成され、支管１６ａの一端が真空破壊用供給ポート１４に接続され、支管１６ｂの他端が分岐用管継手２２の他方の分岐部２２ｂに接続される。チェック弁１８は係止爪と開放リングとを備えた継手構造に形成されている。
分岐用管継手２２の基端部２２ｃには、圧縮空気の供給源側に接続される管体２０が接続される。圧縮空気の供給源側には管体２０への圧縮空気の供給タイミングを制御するためのバルブ（不図示）が設けられ、分岐用管継手２２を介して供給管１２と支管１６ｂ、１６ａへの圧縮空気の供給が制御される。図１において、中心線の下半部が管体２０から圧縮空気を供給している状態、上半部が管体２０からの圧縮空気の供給を停止した状態を示す。
【００１５】
図２に、真空発生器の本体６０の構成を示す。
本体６０の一端側には前記真空発生用供給ポート１０と真空破壊用供給ポート１４とが並列配置に設けられ、本体６０の他端側には排気ポート４０と真空ポート５０とが並列して配置される。
本体６０にはエジェクタ機構を内蔵するための装着孔６０ａが本体６０を貫通して設けられており、真空発生用供給ポート１０は装着孔６０ａの一端側に設けられ、排気ポート４０は装着孔６０ａの他端側に設けられる。
真空発生用供給ポート１０は係止爪１０ａと開放リング１０ｂを備えた継手構造に形成される。
排気ポート４０は、本体６０から円筒状に延出して形成された円筒部６０ｂの端部を蓋４２により気密に閉止し、円筒部６０ｂの側面にスリット状に排気孔４４を開口して設け、円筒部６０ｂの内面に排気孔４４を塞ぐ配置にサイレンサーエレメント４６を取り付けて形成される。
【００１６】
真空破壊用供給ポート１４は、真空発生用供給ポート１０と同様に、係止爪１４ａと開放リング１４ｂとを備えた継手構造に形成される。
また、真空ポート５０は、同様な継手構造に形成されたアタッチポート５１に接続された接続管５１ａの端部に係止爪５０ａと開放リング５０ｂとを備えた継手構造に形成されている。真空ポート５０の内側には、真空ポート５０からエア吸引した際に、本体６０内にエアとともに塵埃が侵入しないように保護するフィルター５１ｂが装着されている。
【００１７】
装着孔６０ａに取り付けられるエジェクタ機構は、装着孔６０ａの軸線方向に可動にディフューザスプール３０とノズル３２とを配置し、ディフューザスプール３０に設けられた貫通孔３０ａと真空ポート５０とを第１の流路５２を介して連通することによって構成される。
本実施形態では、装着孔６０ａに第１のスリーブ３４を嵌入し、第１のスリーブ３４にディフューザスプール３０とノズル３２とを軸線方向に可動に装着した。ディフューザスプール３０は外周面に装着したパッキン３０ｂにより、第１のスリーブ３４の内周面とエアシールした状態で軸線方向に可動に設けられ、ノズル３２は基端側の外周面に装着したシール部材３２ａにより、第１のスリーブ３４の内周面とエアシールした状態で軸線方向に可動に設けられる。
【００１８】
ディフューザスプール３０の前端部はやや縮径して形成され、縮径部に付勢手段としてのスプリング３１が外挿される。スプリング３１は、この縮径部の基端部に形成された係止段差と、円筒部６０ｂに取り付けられた蓋４２との間を弾発するように装着される。これによって、ディフューザスプール３０、およびディフューザスプール３０の後端面に当接して配置されるノズル３２は、常時、後方（真空発生用供給ポート１０側）へ付勢された状態になる。ディフューザスプール３０とノズル３２の後方への移動位置（後退位置）は、第１のスリーブ３４に嵌入して装着される第２のスリーブ３５の前端面にノズル３２の後端面が当接することによって規制される。
【００１９】
図３に、ディフューザスプール３０とノズル３２とを組み合わせた部分の近傍の構造を拡大して示す。
真空ポート５０に連通して本体６０に設けられる第１の流路５２は、真空ポート５０から第１のスリーブ３４に向けて屈曲して設けられ、第１のスリーブ３４に設けられた開口３４ａ内で端部が開口する。ディフューザスプール３０にはノズル３２の噴出端の側方で開口する導入口３０ｃが設けられ、開口３４ａと導入口３０ｃとは近接配置される。
【００２０】
ディフューザスプール３０の導入口３０ｃよりも前側には段差突起３０ｄが設けられ、段差突起３０ｄが設けられた部位に、ディフューザスプール３０の外面を一周するようにＯリング等のシール部材３６が嵌装される。第１のスリーブ３４には、この段差突起３０ｄに嵌装されたシール部材３６に対向する配置に、シール部材３６が当接してエア流路を開閉する作用をなす弁座３４ｂが設けられる。
ディフューザスプール３０の段差突起３０ｄが形成された部位とパッキン３０ｂとで挟まれた部位は、第１のスリーブ３４の内周面との間が連絡流路となるように外周面がやや縮径する縮径部３０ｅに形成される。第１のスリーブ３４には、この縮径部３０ｅが形成された部位に連通する連通孔３４ｃが形成される。
【００２１】
連通孔３４ｃは、本体６０内に形成された第２の流路５４を介して真空破壊用供給ポート１４に連絡する。第２の流路５４は第１の流路５２とは本体６０内において交差しない配置に設けられ、図２に示すように、ニードルバルブ５６を経由して真空破壊用供給ポート１４に連通する。ニードルバルブ５６は真空破壊エアの流量調節用に設けられたもので、軸線方向に進退動することによって真空破壊用のエアの流量を調節することが可能に設けられる。
【００２２】
続いて、上述した真空発生器の作用について説明する。
図１は、上記本体６０に供給管１２と支管１６ａ、１６ｂを装着した状態である。供給管１２と支管１６ａ、１６ｂは真空発生用供給ポート１０と真空破壊用供給ポート１４の継手構造により、ポートに管体を挿入するだけで簡単に装着することができる。管体をポートから外す際には、開放リング１０ｂ、１４ｂを内方に押して係止爪１０ａ、１４ａによるロックを外して管体を引き抜くようにすればよい。
分岐用管継手２２に圧縮空気の供給源を接続することによって真空発生器の使用状態となる。
【００２３】
まず、圧縮空気の供給源から管体２０を経由して圧縮空気が供給されると、圧縮空気は分岐用管継手２２で分岐され、供給管１２と支管１６ｂ、１６ａとに供給される。
供給管１２に供給された圧縮空気は、図２に示すように、真空発生用供給ポート１０に送入され、真空ポート５０に真空圧力を発生させる。
すなわち、真空発生用供給ポート１０に送入された圧縮空気の圧力によりノズル３２が前進し、ディフューザスプール３０の段差突起３０ｄに嵌装したシール部材３６が第１のスリーブ３４に設けた弁座３４ｂに当接する。これによって、図３に示すように、連通孔３４ｃと開口３４ａとの間に形成された連絡流路５３が閉止され、第２の流路５４と第１の流路５２との連通が阻止され、第１の流路５２が開口３４ａ、導入口３０ｃを介してディフューザスプール３０と連通する。すなわち、真空ポート５０がエジェクタ機構に連通し、真空破壊用供給ポート１４と真空ポート５０とが遮断された状態になる。
【００２４】
ディフューザスプール３０とノズル３２とが前進し、ディフューザスプール３０の段差突起３０ｄに嵌装したシール部材３６が第１のスリーブ３４に設けた弁座３４ｂに当接した位置が、ディフューザスプール３０とノズル３２が前進位置（閉止位置）に移動した状態である。シール部材３６と弁座３４ｂは、第１の流路５２と第２の流路５４とを連絡する連絡流路５３を開閉させる作用をなすもので、連絡流路５３を開閉するバルブ部として設けられている。バルブ部の機能は、ディフューザスプール３０に弁座を設け、第１のスリーブ３４にＯリング等のシール部を設けることによっても達成される。
【００２５】
ノズル３２からディフューザスプール３０に噴射される圧縮空気は、エジェクタ作用により真空ポート５０を真空圧力とし、排気ポート４０からサイレンサーエレメント４６を通って外部に排出される（真空発生動作）。図２、３の矢印は、圧縮空気によるエジェクタ作用を示す。
このエジェクタ作用は真空発生用供給ポート１０に圧縮空気が送入されることによってなされるもので、圧縮空気の送入圧力により、スプリング３１による弾発作用に抗して、ディフューザスプール３０とノズル３２が前進し、真空破壊用供給ポート１４と真空ポート５０とを遮断し、真空発生用供給ポート１０からのみ圧縮空気を本体６０内に供給して真空発生させるものである。
【００２６】
真空発生状態は、圧縮空気の供給源からの圧縮空気の供給を停止することによって解除される。図４は、圧縮空気の供給を停止した直後の状態を示す。
圧縮空気の供給を停止すると、ディフューザスプール３０とノズル３２は、スプリング３１の弾発作用により、第２のスリーブ３５の端面にノズル３２の後端面が当接する後退位置（開放位置）に移動する。
ディフューザスプール３０が後退位置に移動すると、弁座３４ｂとシール部材３６とが離間し、第２の流路５４が連通孔３４ｃ、開口３４ａを介して第１の流路５２と連通する。すなわち、真空破壊用供給ポート１４と真空ポート５０とが連通する。
【００２７】
真空破壊用供給ポート１４と真空ポート５０とが連通すると、図１に示す支管１６ａ内に残留する圧縮空気が、第２の流路５４および第１の流路５２を経由して真空ポート５０に供給される。この支管１６ａに残留する圧縮空気が真空ポート５０に供給される作用は、チェック弁１８により支管１６ａに残留する圧縮空気が支管１６ｂ側に逆流することが阻止され、支管１６ａ内の残圧によってエアが供給されるものである。
すなわち、真空発生用供給ポート１０への圧縮空気の供給が停止されると、ディフューザスプール３０とノズル３２は、真空ポート５０と真空破壊用供給ポート１４とを連通する位置（真空破壊回路を開く位置）に移動し、支管１６ａに残留する圧縮空気が真空破壊用供給ポート１４から真空ポート５０に破壊エアとして供給されて真空破壊される。図４に、破壊エアの流れを破線によって示す。
【００２８】
図５は、本実施形態の真空発生器の回路図を示している。圧縮空気の供給源側に真空発生用バルブ８が設けられ、真空破壊用供給ポート１４はチェック弁１８を介して圧縮空気の供給源側に接続されることを示す。
本実施形態の真空発生器において特徴的な構成は、エジェクタ機構を構成するディフューザスプール３０とノズル３２とが、真空ポート５０と真空破壊用供給ポート１４との間の連通を制御する遮断弁３００としても作用する機能を備えていることである。
【００２９】
図は、圧縮空気が真空発生用供給ポート１０に供給されていない状態（真空破壊時）で、遮断弁３００を介して真空破壊用供給ポート１４と真空ポート５０とが連通している状態を示す。圧縮空気が供給された際には、遮断弁３００が真空破壊用供給ポート１４と真空ポート５０との間を遮断し、圧縮空気はエジェクタ３０、３２を通過して排気ポート４０から排出され、真空ポート５０に真空圧力が発生する。
【００３０】
本実施形態の真空発生器によれば、エジェクタ機構を構成するディフューザスプール３０とノズル３２とに遮断弁３００としての機能をもたせたことにより、遮断弁を別に設ける場合と比較して、真空発生器の構成を簡素化することができ、装置をコンパクトに形成することが可能になる。これによって、真空発生動作、真空破壊動作の応答特性（立ち上がり、立ち下がり）にもっとも大きく影響する、遮断弁３００から真空ポート５０までの真空破壊回路の容積を最小限にすることが可能となり、真空の立ち上がり、立ち下がりを高速で行うことが可能になる。
【００３１】
また、本実施形態の真空発生器では、チェック弁１８と真空破壊用供給ポート１４とを接続する支管１６ａ内に残留する圧縮空気を破壊用のエアとして利用するから、支管１６ａの長さおよび径を調節することによって、真空破壊用として供給される破壊エア量を調節することができる。すなわち、支管１６ａから破壊エアとして供給されるエア量は支管１６ａの内容積が大きくなると多くなり、支管１６ａの内容積が小さくなると少なくなるから、たとえば、支管１６ａの長さを長くすることによって、破壊エアのエア量を増やすことができ、破壊エアの吐出時間を長くすることができる。
したがって、本実施形態の真空発生器によれば、真空発生器を利用する搬送装置等での作業内容に応じて、支管１６ａの長さや径を変えることにより、破壊用のエア量を調節することができ、破壊エア量を調節して的確な作業を行うことができる。支管１６ａ、１６ｂを交換する作業は、きわめて容易である。
【００３２】
真空ポート５０への破壊エアの供給量については流量絞り弁（ニードルバルブ５６）を使用して調節することもできる。流量絞り弁を絞ることにより、真空回路に流入するエア量が減少し、破壊エアの吐出時間が長くなる。このように、流量絞り弁を調節することにより、真空破壊時に真空ポート５０に供給される破壊エアのエア量を調節し、適切な真空破壊を行うことができる。
【００３３】
図６は、上記実施形態で説明した真空発生器の本体６０を利用する真空発生器の他の構成例を示す回路図である。
上記実施形態では、チェック弁１８を利用して圧縮空気の供給源から真空発生用供給ポート１０と真空破壊用供給ポート１４へ圧縮空気を分岐させて供給する構成とした。図６は、圧縮空気の供給源に真空発生用バルブ８と真空破壊用バルブ９を接続し、真空発生用供給ポート１０への圧縮空気の供給と、真空破壊用供給ポート１４への圧縮空気の供給を、真空発生用バルブ８と真空破壊用バルブ９のON-OFFを交互に切り替えて制御するように構成した例である。
【００３４】
この実施形態の場合も、エジェクタ機構を構成するディフューザスプール３０とノズル３２とが遮断弁３００として機能し、真空発生用供給ポート１０に圧縮空気が送入された際には、真空破壊用供給ポート１４と真空ポート５０との間が遮断され、真空発生用供給ポート１０への圧縮空気の供給が停止すると、真空破壊用供給ポート１４と真空ポート５０とが連通して真空ポート５０に破壊エアが供給される。
破壊エアは圧縮空気の供給源から供給されるから、真空破壊用バルブ９の開閉タイミングを調節すること、流量絞り弁を調節することによって流量調整される。
【００３５】
本実施形態の真空発生器もきわめてコンパクトに形成され、真空の立ち上がりおよび立ち下がりの高速応答性のすぐれた真空発生器として提供される。
また、本発明に係る真空発生器は真空発生機構と真空破壊機構を組み込んだ小型の真空発生器として提供されるから、真空配管の末端で使用する真空発生器として好適に利用することができる。真空配管の末端で使用することによって、真空ポートからワークまでの容積を最小限とすることができ、これによっても真空の立ち上がり、立ち下がりを速くすることができる。
【図面の簡単な説明】
【００３６】
【図１】真空発生器の本体に供給管と支管とを接続した状態を示す説明図である。
【図２】真空発生器の本体の構成（真空動作時）を示す断面図である。
【図３】真空発生器の本体の構成を拡大して示す断面図である。
【図４】真空発生器の本体の構成（真空破壊時）を示す断面図である。
【図５】真空発生器の回路図である。
【図６】真空発生器の他の実施形態の構成を示す回路図である。
【図７】従来の真空発生器の構成を示す回路図である。
【符号の説明】
【００３７】
１０ 真空発生用供給ポート
１２ 供給管
１４ 真空破壊用供給ポート
１６ａ、１６ｂ 支管
１８ チェック弁
２２ 分岐用管継手
３０ ディフューザスプール
３０ｃ 導入口
３０ｄ 段差突起
３１ スプリング
３２ ノズル
３４ 第１のスリーブ
３４ａ 開口
３４ｂ 弁座
３４ｃ 連通孔
３６ シール部材
４０ 排気ポート
４４ 排気孔
４６ サイレンサーエレメント
５０ 真空ポート
５１ アタッチポート
５１ｂ フィルター
５２ 第１の流路
５４ 第２の流路
５６ ニードルバルブ
６０ 本体
６０ａ 装着孔
６０ｂ 円筒部
３００ 遮断弁
【特許請求の範囲】
【請求項１】
圧縮空気が供給される真空発生用供給ポートと、本体に内蔵されたエジェクタ機構により真空圧力が発生される真空ポートと、真空ポートに破壊エアを供給する真空破壊用供給ポートと、排気ポートとを備えた真空発生器において、
前記エジェクタ機構として、ディフューザスプールと前記真空発生用供給ポートから供給された圧縮空気をディフューザスプールに向けて噴射するノズルとを備え、
前記ディフューザスプールとノズルが、
前記真空発生用供給ポートに圧縮空気が送入された際には、前記真空破壊用供給ポートと前記真空ポートとの連通を遮断する閉止位置に移動し、
前記真空発生用供給ポートへの圧縮空気の送入が停止すると、前記真空破壊用供給ポートと前記真空ポートとを連通させる開放位置に移動することにより、
前記真空ポートと前記真空破壊用供給ポート間の連通を制御する遮断弁として形成されていることを特徴とする真空発生器。
【請求項２】
前記ディフューザスプールとノズルは、前記真空発生用供給ポートと前記排気ポートとを連通する装着孔内に、軸線方向に進退動可能に装着され、
前記ディフューザスプールの外周面と前記装着孔の内周面との間に、前記真空破壊用供給ポートに連通する第１の流路と、前記真空ポートに連通する第２の流路とを連絡する連絡流路が設けられ、
前記ディフューザスプールの外周面と前記装着孔の内周面とに、前記ディフューザスプールの進退動にともなって、前記連絡流路を開閉するバルブ部が設けられていることを特徴とする請求項１記載の真空発生器。
【請求項３】
前記ディフューザスプールとノズルは、前記装着孔に嵌入して装着されたスリーブに内挿され、前記ディフューザスプールの外周面と前記スリーブの内周面との間に前記バルブ部が設けられていることを特徴とする請求項２記載の真空発生器。
【請求項４】
前記スリーブには、前記ディフューザスプールに設けられた導入口に連通する開口が設けられ、
前記バルブ部は、前記開口よりも前側に設けられ、前記ディフューザスプールが前進位置に移動した際に前記連絡流路が閉止され、前記ディフューザスプールが後退位置に移動した際に前記連絡流路が開放されることを特徴とする請求項３記載の真空発生器。
【請求項５】
前記ディフューザスプールには、該ディフューザスプールを常時、閉止位置に移動させる向きの付勢手段が装着されていることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項記載の真空発生器。
【請求項６】
前記真空破壊用供給ポートに連通する第２の流路に連通して流量絞り弁が設けられていることを特徴とする請求項１記載の真空発生器。
【請求項７】
前記真空発生用供給ポートに、圧縮空気の供給源側に接続される供給管が接続され、
該供給管から分岐して、真空発生器の本体へ向かう一方向へのエアの通流のみを許容するチェック弁を介して、支管が接続されていることを特徴とする請求項１記載の真空発生器。
【請求項１】
圧縮空気が供給される真空発生用供給ポートと、本体に内蔵されたエジェクタ機構により真空圧力が発生される真空ポートと、真空ポートに破壊エアを供給する真空破壊用供給ポートと、排気ポートとを備えた真空発生器において、
前記エジェクタ機構として、ディフューザスプールと前記真空発生用供給ポートから供給された圧縮空気をディフューザスプールに向けて噴射するノズルとを備え、
前記ディフューザスプールとノズルが、
前記真空発生用供給ポートに圧縮空気が送入された際には、前記真空破壊用供給ポートと前記真空ポートとの連通を遮断する閉止位置に移動し、
前記真空発生用供給ポートへの圧縮空気の送入が停止すると、前記真空破壊用供給ポートと前記真空ポートとを連通させる開放位置に移動することにより、
前記真空ポートと前記真空破壊用供給ポート間の連通を制御する遮断弁として形成されていることを特徴とする真空発生器。
【請求項２】
前記ディフューザスプールとノズルは、前記真空発生用供給ポートと前記排気ポートとを連通する装着孔内に、軸線方向に進退動可能に装着され、
前記ディフューザスプールの外周面と前記装着孔の内周面との間に、前記真空破壊用供給ポートに連通する第１の流路と、前記真空ポートに連通する第２の流路とを連絡する連絡流路が設けられ、
前記ディフューザスプールの外周面と前記装着孔の内周面とに、前記ディフューザスプールの進退動にともなって、前記連絡流路を開閉するバルブ部が設けられていることを特徴とする請求項１記載の真空発生器。
【請求項３】
前記ディフューザスプールとノズルは、前記装着孔に嵌入して装着されたスリーブに内挿され、前記ディフューザスプールの外周面と前記スリーブの内周面との間に前記バルブ部が設けられていることを特徴とする請求項２記載の真空発生器。
【請求項４】
前記スリーブには、前記ディフューザスプールに設けられた導入口に連通する開口が設けられ、
前記バルブ部は、前記開口よりも前側に設けられ、前記ディフューザスプールが前進位置に移動した際に前記連絡流路が閉止され、前記ディフューザスプールが後退位置に移動した際に前記連絡流路が開放されることを特徴とする請求項３記載の真空発生器。
【請求項５】
前記ディフューザスプールには、該ディフューザスプールを常時、閉止位置に移動させる向きの付勢手段が装着されていることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項記載の真空発生器。
【請求項６】
前記真空破壊用供給ポートに連通する第２の流路に連通して流量絞り弁が設けられていることを特徴とする請求項１記載の真空発生器。
【請求項７】
前記真空発生用供給ポートに、圧縮空気の供給源側に接続される供給管が接続され、
該供給管から分岐して、真空発生器の本体へ向かう一方向へのエアの通流のみを許容するチェック弁を介して、支管が接続されていることを特徴とする請求項１記載の真空発生器。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【公開番号】特開２００７−５６７４６（Ｐ２００７−５６７４６Ａ）
【公開日】平成１９年３月８日（２００７．３．８）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００５−２４２３４０（Ｐ２００５−２４２３４０）
【出願日】平成１７年８月２４日（２００５．８．２４）
【出願人】（０００１５２９９６）株式会社日本ピスコ (9)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１９年３月８日（２００７．３．８）
【国際特許分類】
【出願日】平成１７年８月２４日（２００５．８．２４）
【出願人】（０００１５２９９６）株式会社日本ピスコ (9)
【Ｆターム（参考）】
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