Ｘ線管の陰極のフィラメント電流をブースティング／ブランキングするために、Ｘ線管の管電流の時間変動が測定され、第１のメモリに保存される。そして反復的ブースティング／ブランキングが実行され、ブースティング／ブランキング電流が短い時間間隔Δｔの間フィラメントに印加され、保存された管電流の時間変動に基づいて短い時間間隔Δｔ後の管電流が決定され、管電流は第２のメモリに保存される。保存された管電流の時間変動に基づいて、管電流ＩＥがその目標値ＩＥ２未満であるかどうかが決定され、もしそうであればブースティング／ブランキング電流がさらなる時間間隔Δｔの間フィラメントに印加され、その他の場合は管電流ＩＥが目標値ＩＥ２に等しいことが決定される。従って、反復的ブースティング／ブランキングがいつでも中断され得るように、各時間間隔Δｔ後の管電流ＩＥがわかる（第２のメモリに保存された管電流データから決定され得る）。
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【課題】透視開始直後から安定して好適な透視画像を得ることができるＸ線装置を提供する。
【解決手段】本発明に係るＸ線装置は、時間ｔ_１において透視開始の指令が入力されると、管電圧制御部がパルス状管電圧Ｖ_Ｔを出力し始めるとともに、フィラメント加熱部がフィラメント電流Ｉ_Ｆを増大させてフィラメント１２を加熱し、発生させたＸ線によって被検体の透視を行う。ここで、管電圧制御部は、該指令が入力されてからフィラメントの温度が定常の透視状態の温度Ｔ_Ｆ１に到達するまでの所定の期間、パルス状管電圧Ｖ_Ｔのパルス幅を定常の透視状態のパルス幅（４ｍｓ）よりも広くなるように制御する。 （もっと読む）

【課題】現在のフィラメント加熱状態に応じたフラッシュ量を出力するＸ線高電圧装置を提供する。
【解決手段】Ｘ線管球のフィラメント加熱手段と、上記フィラメント加熱電流検出手段と、フィラメント加熱電流を制御する制御手段とからなり、撮影又は透視準備操作が行われる迄は所定条件でフィラメントが予備加熱され、上記準備操作が行われることにより一時的に上記予備加熱時よりもフィラメントに大電流を流すフラッシュが開始され、フラッシュ終了後、撮影又は透視に必要な条件でフィラメントが本加熱されるＸ線高電圧装置であって、上記準備操作が行われる時点から遡った一定期間の加熱量、並びに予め定めた標準の予備加熱量及びフラッシュ量を用いて上記フラッシュ時におけるフラッシュ量を算出する算出手段を備え、その算出結果に応じて、上記制御手段により上記フラッシュ時におけるフィラメント加熱電流を制御するものとする。
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【課題】フィラメントの加熱不足による画質低下とフィラメントの加熱制御の複雑化を解消して、非加熱状態のフィラメントを高速で最適温度まで加熱することができるＸ線管のフィラメント加熱装置を提供する。
【解決手段】Ｘ線管２のフィラメント(２Ｓ，２Ｌ)の温度を検出するフィラメント温度検出手段と、前記フィラメントの温度を設定する温度設定手段と、前記設定した目標の設定温度と前記フィラメント温度検出手段で検出した温度とが一致するように制御するための制御信号を生成するフィラメント加熱制御信号生成回路２１とを備え、前記制御信号に基づいて前記Ｘ線管のフィラメントに供給する加熱電力を制御する。 （もっと読む）