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Fターム[4D054AA05]の内容

静電分離 (6,201) | 用途 (1,052) | 電気集塵機を産業用、工業用に用いるもの (436) | 排ガス、ダストの集塵用 (277) | 高温排ガス用 (7)

Fターム[4D054AA05]に分類される特許

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【課題】塩素バイパス排ガスを、初期コスト及び運転コストを低く抑え、熱損失を抑制しながら処理する。
【解決手段】セメントキルン2の窯尻から最下段サイクロンに至るまでのキルン排ガス流路より燃焼ガスの一部G1を抽気するとともに、抽気した燃焼ガスを低温ガスにより冷却するプローブ3と、プローブで抽気されたガスに含まれるダストD2を集塵する少なくとも250℃以上、好ましくは300℃の耐熱性を有する集塵装置6と、集塵装置の後段に乾式脱硫装置8とを備える塩素バイパス排ガスの処理装置1。乾式脱硫装置は、乾式脱硫剤を用いて集塵装置から排出されたガスを脱硫することができ、集塵装置は、ろ過式電気集塵装置とすることができる。集塵後の抽気ガスの温度を250℃以上、好ましくは300℃以上、600℃以下とすることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】長期間に亙って連続運転性を向上させることができる電気集塵装置の電気集塵方法、電気集塵装置及びボイラシステムを提供する。
【解決手段】ボイラ11に供給する硫黄分量組成が異なる燃料23A、23Bを供給する燃料供給部22A、22Bと、燃料組成の異なる燃料を切り替える燃料切替部24と、ボイラ11からの排ガス中の窒素酸化物を除去する脱硝装置12と、窒素酸化物除去後のガス中の熱を回収する空気予熱器13と、熱回収後のガス中にアンモニウム14を添加しつつ煤塵を除去する電気集塵器15及び煤塵濃度計測部20を有する電気集塵装置と、除塵後のガス中の硫黄酸化物を除去する脱硫装置17と、前記煤塵濃度計測部20の計測の結果、所定の煤塵量閾値となった際、ボイラに供給する燃料組成中の硫黄分量が現在使用している燃料(主燃料)23Aよりも低い燃料(低S分燃料)23Bに切替える制御を実行する制御装置21とを具備する。 (もっと読む)


【課題】前段の設備のトラブル時や集じん器内部の湿気により、フィルタ部分が詰まりを起こした際の緊急避難用として、誘引引力およびガスの流れも通常の電気集じん器でのガスの流れと同じ状態に維持して、電気集じん効果を保ち、一定の集じん効率を確保する。
【解決手段】この電気集じん器10は、ケーシング12内におけるガスの流れを、メッシュフィルタ30を通して集じん電極16の内部へ流入した後、排気口45,47,49を通して集じん電極16の外部へ排気される電気集じん器であり、集じん電極16の一次側と二次側とを区切っている仕切板70を、シリンダ78を用いてケーシング12外部から開閉可能に構成した。 (もっと読む)


静電式集塵装置(6)の動作を制御する方法は、電力範囲及び/又は電力上昇率を直接的又は間接的に制御することを含む制御方式を、少なくとも1つの集電電極(28)と少なくとも1つの放電電極(26)との間に印加される電力に対して用いることを含む。上記プロセスガスの温度が測定される。上記制御方式が電力範囲を制御することを含む場合、電力範囲の上限値が、上記プロセスガスの温度が低い場合よりも高い場合の方が低くなるように、上記電力範囲は上記測定された温度に基づいて選択される。上記制御方式が電力上昇率を制御することを含む場合、電力上昇率が、上記プロセスガスの温度が低い場合よりも高い場合の方が低くなるように、上記電力上昇率は上記測定された温度に基づいて選択される。
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【課題】排気ガス処理装置において、設備コストの上昇を抑制しながら排気ガスの浄化性能の向上を図る。
【解決手段】ボイラ11に連結される排気ガス通路12に、エアヒータ13、ガスガスヒータの熱回収部14、電気集塵機15、脱硫装置16、ガスガスヒータの再加熱部17、煙突18を設けると共に、電気集塵機15の上流側における排気ガス通路12に過酸化水素を注入する過酸化水素注入装置21を設け、過酸化水素注入装置21に過酸化水素水タンク22を連結する。 (もっと読む)


30−150℃の温度を有し、かつ0.001−1 体積%のSOを含むオフガス(Off-gases)中のSOを除去する方法であって、オフガスから生成する硫酸を除去するエアロゾルフィルターの上流で、Hの水溶液をオフガス中に噴霧することによって、SOをHSOに酸化させることを特徴とする上記方法。
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【課題】静電フィルタの気体供給装置及びこれを含んで構成される静電フィルタ装置の効率を向上する。
【解決手段】気体供給装置1は、一定の断面積を有する導入路7と、静電フィルタに向けて断面積が広がる気体給入フード8と、調整剤の混合装置19とを含んで構成される。気体給入フード8の断面積拡大部には、1以上の流れ分配器が設けられる。前エッジ渦を発生させる第1の渦装置11が導入路に、前エッジ渦を発生させる第2の渦装置12が気体給入フードのうち流れ分配器の上流に、混合装置19が2つの渦装置のいずれかの領域に設けられる。 (もっと読む)


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