本発明は、極性の、好ましくは水性の溶媒から、好ましくはアスコルビン酸と2-ケト-L-グロン酸の混合物を含有する溶媒から、第3アミンおよび極性の有機希釈剤を含有する抽出剤を用いて液-液抽出を行うことによって、2-ケト-L-グロン酸を抽出する方法に関する。好ましくは、本発明の方法は2-ケト-L-グロン酸の逆抽出および該抽出剤の戻し入れ使用のための工程をも含む。本発明はまた、2-ケト-L-グロン酸からアスコルビン酸を生成させるため、およびそのようにして生成されたアスコルビン酸を単離する方法にも関する。 （もっと読む）

【課題】 圧縮機や脱水装置の能力が向上する運転条件を独立に設定可能とする。
【解決手段】 水分除去システム１は、２５℃、１気圧で気体である物質を作動物質として、作動物質の気体を液化させる液化手段２と、液化した作動物質を貯留する貯留槽３と、貯留槽３から水分を含む作動物質を取り出すとともに当該作動物質を気化することによって作動物質の気体と水分を分離する水分離手段４とが直列に接続され、かつ水分離手段４と液化手段２とが接続されて水分離手段４で気化された作動物質が液化手段２により再び液化される第１の循環路Ｃ１が形成され、貯留槽３と、貯留槽３から液化した作動物質を取り出すとともに当該作動物質を水分含有固体と接触させて水分を溶解して脱水を行う脱水手段５とが直列に接続され、かつ脱水手段５と貯留槽３とが接続されて脱水手段５から排出される水分を含む作動物質が貯留槽３に戻される第２の循環路Ｃ２が形成され、第１および第２の循環路Ｃ１，Ｃ２の系６，７が同時に又は別々に動作する。 （もっと読む）

【課題】
高い清浄度を有する半導体ウェーハの処理方法およびその装置を提供する。
【解決手段】
オゾン水処理工程では、オゾンガスを含む第１の超純水によりシリコンウェーハを処理する。第１の超純水は紫外線殺菌法で精製される。第１の超純水には、全有機物炭素量が１μｇ／Ｌ超２０μｇ／Ｌ以下含まれる。その結果、所定清浄度のシリコンウェーハが得られる。また、超純水リンス工程（必要により薬液洗浄工程を含む）では、第１の超純水に比べてＴＯＣ値が小さい第２の超純水によりシリコンウェーハを処理する。第２の超純水は紫外線酸化法で精製され、全有機物炭素量は１μｇ／Ｌ以下である。よって、高い清浄度を有したシリコンウェーハが得られる。 （もっと読む）