本発明は、反応性≡ＳｉＨ単位と≡ＳｉＯＨ単位との間の脱水素縮合によって架橋することができ且つイリジウム触媒錯体を使用するシリコーン組成物に関する。この触媒錯体は、
・一方の、次の式（Ｉ）：
（ＩｒΣΣ'₂）_n
｛ここで、
Ａ）ｎは１又は２であり、
ｎが１であるならば、Σは３電子ラジカル配位子ＬＸであり、
ｎが２であるならば、Σは、２個のイリジウム原子と共に３電子配位子ＬＸのように挙動する１電子ラジカル配位子Ｘであり、
Ｂ）Σ'は同一又は異なっていて（好ましくは、同一）、それぞれ２電子配位子Ｌを表わす。｝
のイリジウム錯体と、
・他方の、Ｒ₂Ｓ、Ｒ₂Ｏ、ＮＲ₃、カルベン及び有機燐化合物から選ばれる配位子Σ_d
とを一緒に反応させることによって得ることができる。 （もっと読む）

本発明は、ナノ構造化および／またはナノポーラス表面の新規作製方法、ナノ構造化および／またはナノポーラス表面を有するコーティング、および、前記コーティングを含む物品に関する。本発明はまた、特に反射防止膜としての、本発明のコーティングの使用に関する。表面ナノ構造化および／またはナノポーラスコーティングの作製方法は、ａ）ｉ）反応性ナノ粒子と、ｉｉ）少なくとも１種の溶媒と、ｉｉｉ）場合によって、少なくとも１つの重合可能な基を有する化合物とを含む混合物を、前記混合物が透明基材に塗布され、その表面で硬化した後、コーティングを有さない同じ基材と比較して、４００〜８００ｎｍの電磁スペクトルの少なくとも一部分について透過率を少なくとも０．５％増大させる量で基材に塗布するステップと、ｂ）基材に塗布された前記混合物において架橋および／または重合を誘導するステップとを含む方法である。 （もっと読む）