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Fターム[4F073CA66]の内容

高分子成形体の処理 (12,894) | 波動エネルギーによる処理 (1,693) | 特定雰囲気下 (368) | ハロゲン単体(例;F2、Cl2) (5)

Fターム[4F073CA66]に分類される特許

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本発明は、とりわけ穏やかな条件下において、18Fでフッ素化することができる新規の化学化合物に関する。したがって、この新規の化学化合物は、フッ素化すべき基質を、フッ素化の間に、ポリマー上に固定する、本発明による新規のフッ素化方法の使用を可能にする。本方法は、本方法が、従来技術の方法よりも少なくかつ簡単な操作を必要とすることを特徴とする。したがって、とりわけ、放射性核種18Fを用いる作業の間の、実験室または病院での労働安全性が高まる。 (もっと読む)


【課題】優れた抗菌性と親水性を兼ね備え、その性能の持続性に優れ、且つ環境に優しい抗菌性フィルムを提供する。
【解決手段】下記一般式(1)または(2)で表される4級アンモニウム塩構造(A)を有する重合体セグメント(B)がフィルム表面に直接結合している抗菌性フィルム。また、4級アンモニウム塩構造(A)を有するビニルモノマーを、フィルム表面上にて原子移動ラジカル重合法によって重合させることによって重合体セグメント(B)を形成することを特徴とする抗菌性フィルムの製造方法。
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【課題】 PMMAやPCなどポリマー材料に、底面が平滑である溝や孔、もしくは底面に極微細な柱状構造を形成可能とするプラズマエッチング方法を提供する。
【解決手段】 真空容器内で所定間隔開けて互いに対向して設けられた一対の電極22,24を備え、真空容器12にマイクロ波を放射し、真空容器12を共振器としてその内で電子サイクロトロン共鳴によるプラズマを発生させるプラズマ処理装置10を設ける。真空容器12内の一方の電極24側に設けられた被エッチング材料30をプラズマによりドライエッチングする。被エッチング材料30はポリマー材料とし、酸素もしくは酸素を主体とした不活性ガスやハロゲン含有ガスとの混合ガスを用いて、これら混合ガスのプロセス圧力を、0.01Pa以上0.2Pa以下の条件で、プラズマ処理装置10の電極間に高周波の電力を印加してエッチングを行い、ポリマー材料に平滑加工面を形成する。 (もっと読む)


【課題】 簡便な装置において安全で容易にF2ガスによる表面改質を行う方法を提供する。
【解決手段】 含フッ素化合物を減圧状態で励起して活性種を生成させ、その後圧力を大気圧あるいはそれ以上に上昇させるとともに冷却することで、生成した活性種の全てを実質的に失活させることにより、含フッ素化合物からFガスを効率良く、充分な濃度と量とで発生させ、これにより表面改質を行う。
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【課題】表面の親水化により優れた密着性が付与される高分子フィルム表面の親水化処理方法およびそれにより得られる高分子フィルムを提供する。
【解決手段】大気圧プラズマ発生装置内の、対向する高圧電極1と低圧電極2の間に高分子フィルムGを配置させ、その装置内で発生した大気圧プラズマにより、上記高分子フィルムG表面を親水化処理する方法である。このとき、F2 ガスを必須成分として含有する雰囲気ガス中で大気圧プラズマによる処理を行う。 (もっと読む)


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