Fターム[4F209AM13]の内容
曲げ・直線化成形、管端部の成形、表面成形 (35,147) | 成形装置、成形操作のその他の特徴 (348) | 成形装置、部材の洗浄、清掃手段の特徴 (26) | 化学的手段によるもの(←洗浄剤) (4)
Fターム[4F209AM13]に分類される特許
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洗浄装置
【課題】被処理体の一面側の洗浄領域に洗浄液を局所的に供給して、被処理体の側面や他面側への洗浄液の回り込みを防止できる洗浄処理装置を提供する。
【解決手段】被処理体であるテンプレートTの転写パターン(洗浄領域)を当該転写パターンが下方に向くように保持機構4により吸着保持する。前記転写パターンを含み、テンプレートTの外縁よりも内方側の領域との間に洗浄液を満たして通流させるための通流空間を液収容部31により形成し、前記通流空間に液収容部31の底面に形成された第1の開口部31aからリンス液を供給し、前記転写パターンを囲むように液収容部31と転写パターン2外側領域との間に形成された隙間30を介して排液部32に排液する。リンス液は液収容部31内を通流するので、洗浄領域に局所的に供給され、テンプレートTの側面や他面側への洗浄液の回り込みを抑えながら洗浄処理を行うことができる。
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メンテナンス液
【課題】 パターン形成性に優れたインプリントを行うためのメンテナンス液を開示する。
【解決手段】エステルおよび/またはエーテル官能基を有する化合物を含有するインプリントを行うためのインクジェット装置のメンテナンス液。
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ナノインプリント方法
【課題】 被転写基板上に形成される欠陥の発生を抑制できるナノインプリント方法を提供すること。
【解決手段】 ナノインプリント方法は、パターンを含むテンプレート14に付着したパーティクル15を除去する工程と、テンプレート14を被転写基板11d,12に押し付け、テンプレート14の前記パターンを被転写基板11d,12に転写する工程とを含むナノインプリント方法であって、パーティクル15を除去する工程は、被転写基板11d,12の表面よりもテンプレート15に対する密着性が高い密着性部材12にテンプレート14を押し付ける工程と、密着性部材12からテンプレート14を離す工程とを含む。
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クリーニング方法
【課題】インプリントテンプレートをクリーニングする方法が提供される。
【解決手段】パターン形成されたガラス、クォーツまたは石英ガラスのうちの1つからなるインプリントテンプレート20のコンタミ21をクリーニングする方法であって、パターン形成された表面を還元流体46に露出させることからなる。インプリントテンプレートクリーニング装置は、インプリントテンプレート20をチャンバ40からチューブ43を経て流出する還元流体46に露出させるように構成される。
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