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Fターム[4G001BD37]の内容

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Fターム[4G001BD37]に分類される特許

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【課題】溶融金属による浸食を軽減することにより長寿命化を達成することができるセラミックス焼結体及びこのセラミックス焼結体で構成された金属蒸着発熱体(ボート)を提供する。また、溶融金属のスプラッシュを低減させることができるセラミックス焼結体及びこのセラミックス焼結体で構成された金属蒸着発熱体(ボート)を提供する。
【解決手段】二硼化チタン(TiB)及び/又は二硼化ジルコニウム(ZrB)と、窒化硼素(BN)と、必要に応じて窒化アルミニウム(AlN)とを含有してなるセラミックス焼結体であって、これらの成分から選ばれた少なくとも一種の成分の濃度が、厚み方向において、有位に異なっている部分があることを特徴とするセラミックス焼結体。このセラミックス焼結体からなる金属蒸着発熱体(ボート)。 (もっと読む)


【課題】強度、耐摩耗性、耐腐食性、耐熱衝撃性に優れ、金属溶湯に対して飛躍的に濡れ難く、かつその経済性、耐久性、品質の安定したセラミック製の金属溶湯用部材を提供する。
【解決手段】吸水性を有する多孔質型に、難濡れ性を有する成分を含有しないスラリーを注入し、該多孔質型の気孔に水分を吸収させることにより着肉固化させた後、所定時間経過後に排泥して基材層を形成する第1の工程と、該基材層内に難濡れ性を有する成分を含有するスラリーを流し入れた後、所定時間経過後に排出して基材層内面に内層を形成する第2の工程と、乾燥後、所定の温度にて焼成し焼結・緻密化と同時に基材層と内層を一体化せしめる第3の工程からなることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】太陽電池等に用いられる高純度シリコンの製造において、アルカリ金属塩又はアルカリ金属炭酸塩を含むスラグを用いる精錬を行うための溶損や汚染の少ない精錬用ルツボを提供する。
【解決手段】アルカリ金属塩又はアルカリ金属炭酸塩を含むスラグ4を用いるシリコン精錬用ルツボは、ルツボの少なくともスラグが接触する部分8に溶損の少ないアルミナ材質を用い、スラグと接触しない部分および/またはルツボの外側7は割れが生じ難いアルミナとCを主成分とする材質、または、SiCとCを主成分とする材質から構成される。 (もっと読む)


【課題】 低い温度で十分に原材料からの転換率が得られ、粒子サイズが小さく、不純物が少ない粉末状の炭化ケイ素の製造方法を提供する。
【解決手段】 (A)Si元素および一種以上の遷移金属元素を含む合金、金属ケイ素粉末および遷移金属粉末を含む混合物、金属ケイ素粉末および遷移金属化合物を含む混合物のいずれかと、(B)鎖状飽和炭化水素、鎖状不飽和炭化水素、環状飽和炭化水素、アルコールおよび芳香族炭化水素からなる群から選択される一種類以上の置換または未置換の炭化水素とを、370〜800℃の温度範囲にて反応させる工程を含む炭化ケイ素の製造方法。 (もっと読む)


【課題】表面性状の滑らかなサイアロンセラミックス多孔体、その製造方法及び用途を提供する。
【解決手段】βサイアロンを主成分とする表面性状が滑らかなサイアロンセラミックス多孔体であって、(1)βサイアロンの組成の一般式Si6−z Al8−zにおいて、そのZ値が0.1以上3以下、(2)アスペクト比が1以上4以下のβサイアロン結晶粒の割合がβサイアロン結晶粒全体に対し60%以上であり、好適には、気孔率が30%以上70%以下、平均気孔径が0.2ミクロン以上2ミクロン以下であることを特徴とするサイアロンセラミック多孔体、その製造方法、及び当該セラミックス多孔体からなる耐食性部材。
【効果】高気孔率と高強度を両立し、かつ表面性状の滑らかな特性を有するサイアロンセラミックス多孔体及びその部材を提供できる。 (もっと読む)


【課題】 切削工具の基材の強度を低下させることなく被削材と工具刃先の化学反応による摩耗およびアブレッシブな機械的摩耗を低減し、工具寿命を改善することを目的とする。
【解決手段】 焼結体中の粒界相が5〜20%であり、サイアロン粒子中のαサイアロンの比率を示すα率が40%以下であり、Si6−ZAl8−Zで表されるβサイアロンのZ値が0.2〜1.0であり、焼結体の(βサイアロンの実測Z値)/(焼結体組成から計算される理論Z値)で表されるAlの固溶率Aが70%以上であるサイアロン製インサートおよびこれを備えた切削工具。 (もっと読む)


【課題】化学反応により合成した、微細な組織と高密度、高強度を有する窒化ケイ素−炭化ケイ素−窒化ホウ素複合材料、その製造方法及びその用途を提供する。
【解決手段】ケイ素、炭化ホウ素及び雰囲気中の窒素の化学反応を利用して作製した、ケイ素及び炭化ホウ素の混合粉末を、窒化ケイ素のマトリックス中に均一、且つ細かく分散した窒化ホウ素分散窒化ケイ素−炭化ケイ素−窒化ホウ素複合材料、その複合材料の製造方法、及び上記複合材料から成る耐熱材料、耐腐食材料、溶融金属に対する撥水性の良い耐腐食材など部材。
【効果】微細な組織を有し、高密度と高強度を持ち、窒化ケイ素−炭化ケイ素−窒化ホウ素複合材料を製造し、提供することができる。 (もっと読む)


【課題】金属ケイ素粒子を出発原料とし、除塵や脱塵に最適な細孔径、気孔率を有する窒化ケイ素質ハニカムフィルタの製造法を提供する。
【解決手段】金属ケイ素粒子と酸化物セラミックス中空粒子とを含む成形体を窒素雰囲気中で熱処理することにより金属ケイ素を実質的に窒化ケイ素とする窒化ケイ素質ハニカムフィルタの製造法であって、熱処理の過程で酸化物セラミックス中空粒子と反応して溶融物を生成する無機粒子を酸化物セラミックス中空粒子がそのままの形態で残留するのを実質的に防止する含有量で成形体中に含むことを特徴とする。 (もっと読む)


骨材としての炭化珪素粒子2が、窒化珪素3を結合材として、炭化珪素粒子2相互間に細孔5を保持した状態で結合してなる多孔質材料1であって、細孔5内の窒化珪素3表面に窒化珪素柱状体(窒化珪素ウィスカー)が存在しないか、又は不可避的に存在するとしても、太さが2μmより大きく且つアスペクト比が10より小さい柱状体の数が、太さが2μm以下またはアスペクト比が10以上である柱状体の数よりも多いことを特徴とする多孔質材料1。耐熱性及びガス透過性に優れた多孔質材料及びその製造方法、並びにハニカム構造体を提供する。
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【課題】高温アンモニアガスに対する耐性と耐磨耗性があり、しかもB放出の少ない3−5族化合物製造装置用部材を提供する。
【解決手段】窒化硼素と窒化珪素とを含む複合焼結体からなり、エタノール可溶の酸化硼素含有量が0.1質量%以下(0%を含む)で、相対密度が80%以上であることを特徴とする3−5族化合物製造装置用部材。平均粒径が5〜25μm、エタノール可溶の酸化硼素含有量が1質量%以下(0%を含む)である窒化硼素粉末を10質量%以上と、窒化珪素粉末を90質量%以下とを含み、両粉末の合計が90質量%以上(100%を含む)である混合粉末を、非酸化性雰囲気下又は真空中、焼結することを特徴とする上記3−5族化合物半導体用部材の製造方法。 (もっと読む)


【課題】ガスタービンの燃焼ガスに直接接触する部位に用いても腐食による消耗を抑制することができ、しかもガスタービン内で生じる熱サイクル環境に晒されても基体上に設けられた被覆層が剥離するのを防止できる耐食性ガスタービン用セラミック部品を提供することである。
【解決手段】ガスタービンの燃焼ガスと直接接触する部位に用いられるガスタービン用セラミック部品であり、窒化珪素を主成分とするセラミック基体2上に、密着促進層3、応力緩和層4、クラック進展防止層5、および周期律表第3a族元素で安定化された酸化ジルコニウムを主成分とする表面耐食層6がこの順に積層されており、各層における熱膨張係数には一定の関係を有する。 (もっと読む)


各々が、第一材料を含有する硬質粒子とレニウムもしくはNiベース超合金を含む第二の異なる材料を含有する結合剤マトリックスとを含有する超硬金属組成物。2ステップ焼結法を利用して、比較的低い焼結温度にして固体相で上記超硬合金を製造し、実質的に完全に緻密化した超硬合金を生産することができる。 (もっと読む)


【課題】高強度と高靭性に加えて高い熱伝導率を具備した窒化ケイ素質焼結体を提供する。
【解決手段】Y及び希土類元素(RE)からなる群から選ばれた少なくとも1種の元素とMgとが焼結助剤の成分として添加された窒化ケイ素質焼結体であって、Y及び前記希土類元素を希土類酸化物(RE)に換算し、前記Mgを酸化マグネシウム(MgO)に換算したとき、これら酸化物に換算した酸化物含有量の合計が0.6〜10wt%で、かつ(RE)/(MgO)で表される重量比が1より大きく、前記焼結助剤の成分、酸素、窒素、及びシリコンが含まれる、平均粒径100nm以下の微細粒子が前記窒化ケイ素質焼結体を構成する窒化ケイ素粒子内に析出している。 (もっと読む)


【課題】 耐フッ酸性に優れた窒化アルミニウム焼結体、およびそれを用いた静電チャックを提供する。
【解決手段】 窒化アルミニウム焼結体は、IIIa族元素から選択される少なくとも1種の元素の酸化物を0.5〜5質量%含有し、表面粗さがRa0.2μm以下に調整された面を備えている。また、この面に46質量%フッ酸溶液を接触させて1時間放置した後のその接触面の表面粗さはRa0.2μm以下に維持される。このような窒化アルミニウム焼結体を誘電体層2として用い、その下に設けられた電極3に電圧を印加することにより半導体ウエハ10を吸着する。 (もっと読む)


【課題】 窒化アルミニウム焼結体中の気孔を極力減少させることにより、均熱性に優れたサセプタを提供する。
【解決手段】 本発明の窒化アルミニウム焼結体は、含有するビスマスと塩素の量を一定値以下に制御する。すなわち、窒化アルミニウムを主成分とする窒化アルミニウム焼結体において、窒化アルミニウム焼結体中のビスマスの含有量が30ppm以下であり、かつ塩素の含有量が100ppm以下であることを特徴とする。前記窒化アルミニウム焼結体に、抵抗発熱体が形成されていることが好ましく、半導体加熱用部品として使用されることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】 温度変化に伴う体積抵抗率の変化が小さい窒化アルミニウム焼結体、およびそれを用いた静電チャックを提供する。
【解決手段】 サマリウムとランタンの少なくとも1種を酸化物換算で0.5質量%以上7.0質量%以下含有し、かつ、鉄およびニッケルの含有量が180ppm以下であり、残部が実質的に窒化アルミニウムからなり、23℃の体積抵抗率が5×108〜1×1014Ω・cmであり、かつ、200℃の体積抵抗率が5×108Ω・cm以上であって、23℃の体積抵抗率と200℃の体積抵抗率のそれぞれの常用対数を取ったときのその差が2以下である窒化アルミニウム焼結体を得る。この窒化アルミニウム焼結体を被吸着体を吸着する誘電体層2として用い、その下に設けられた電極3に電圧を印加することにより被吸着体10を吸着する。 (もっと読む)


【課題】窒化アルミニウム質焼結体の耐蝕性、特にハロゲン系腐食性ガスのプラズマに対する耐蝕性を、一層向上させる。
【解決手段】窒化アルミニウム質焼結体は、窒化アルミニウムを主成分とし、窒化アルミニウム結晶の多結晶構造を有しており、マグネシウムを含有している。本焼結体は、好ましくは、マグネシウムを酸化物換算で0.1重量%以上、20重量%以下含有しており、700℃における体積抵抗率が1×10Ω・cm以上であり、熱伝導率が80W/m・K以下であり、マグネシウムの少なくとも一部が窒化アルミニウム結晶に固溶しており、X線線回折により、実質的に構成相が窒化アルミニウム単相と見なされており、マグネシウムを除く金属不純物量が600ppm以下である。 (もっと読む)


【課題】 軽量化が図れ、強度が高い液晶製造装置用セラミック部材を提供すること。また、その電気抵抗が十分に高いこと。
【解決手段】 液晶製造装置に配置される液晶製造装置用セラミック部材において、20%〜40%の気孔率の炭化珪素であり、気孔の平均径が0.1μm〜1μmである液晶製造装置用セラミック部材。 (もっと読む)


多数の貫通孔が壁部を隔てて長手方向に並設され、これらの貫通孔のいずれか一方の端部を封止してなるセラミックブロックにて構成されたハニカム構造体である。このハニカム構造体は、それを構成するセラミックブロックが、熱伝導率に優れた、セラミック粒子と結晶質シリコンとからなる複合材にて形成され、熱拡散性に優れるだけでなく、比較的低温の温度分布が生じたり、長期間の冷熱サイクルが繰り返された場合であっても、熱応力の蓄積が極めて少なく、クラックが発生することがないので、耐熱衝撃性に優れている。
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【課題】電気抵抗の低温側極大現象を抑制したセラミックス焼結体を提供する。熱衝撃性と耐食性に優れた長寿命のボートを提供する。
【解決手段】TiBを40〜60質量%、BNを40〜60質量%、並びに金属及び/又は金属化合物を金属分として0.2〜3質量%を含み、当該金属及び/又は金属化合物の金属がFe、V、Mn、Cu及びSiから選ばれた少なくとも一種であり、相対密度が90%以上であるセラミックス焼結体。ストロンチウム及び/又はストロンチウム化合物をSr分として0.2〜7.5質量%を更に含有させてなる上記セラミックス焼結体。これらのセラミックス焼結体で構成された金属蒸発用発熱体(ボート)。 (もっと読む)


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