【課題】突入流量の上限値を規定し、バーナ内の水素ガス濃度を抑えることで、水素への切り替え時の小爆発を防止することができる光ファイバ用ガラス母材の製造装置及び製造方法を提供する。
【解決手段】水素用ＭＦＣ１５は、窒素ガスから水素ガスへの切り替え時に、逆流防止機能を有する逆止弁４０によって設定流量よりも大きな流量の水素ガスが瞬間的に流れる突入流量の最大値を４０ＳＬＭ以下（例えば、３０ＳＬＭ）に設定して、バーナ１６内の水素ガス濃度が４％以下になるように水素ガスの流量制御を行っている。これにより、窒素ガスから水素ガスへの切り替え時に突入流が発生してもオーバーシュート最大流量を４０ＳＬＭ以下に抑えるので、バーナ１６の出口付近での小爆発を防止することができる。 （もっと読む）

【課題】脱水処理を短時間で行うことにより生産性の向上と共にコスト削減を図ることができるシリカガラス材の製造方法を提供する。
【解決手段】シリカガラス材の製造方法は、真空加熱炉１１の炉心管１２内にスート法を用いて製造された多孔質ガラス母材１を収容し、炉心管１２の外側に配置したヒータ１３により多孔質ガラス母材１を加熱することで該多孔質ガラス母材１を脱水させる脱水工程を含む。そして、脱水工程における温度を、脱水処理可能な温度に一定時間保持し、その後冷却して一定時間保持し、その後再度、脱水処理可能な温度に加熱して一定時間保持する昇降温を繰り返し行う。 （もっと読む）

【課題】炉心管の内部で光ファイバ母材が膨張したために炉心管が破裂するのを防止する。
【解決手段】光ファイバ母材の脱水焼結装置１は、脱水焼結する光ファイバ母材３を収容する炉心管５と、この炉心管５の外周で前記光ファイバ母材３を加熱するヒータ７を備えた加熱炉９と、前記炉心管５と前記加熱炉９に脱水焼結用ガスを供給すべく少なくとも脱水用ガス管路２１と焼結用ガス管路１７を連結した供給側ガス管路１３と、前記炉心管５と前記加熱炉９の脱水焼結用ガスを排気する排気側ガス管路１５を備える。また、前記焼結用ガス管路１７内の圧力を検出すべく設置した圧力検出装置２９と、この圧力検出装置２９で検出した測定値が予め設定した設定値を超えた場合に前記供給側ガス管路１３内の脱水焼結用ガスを排気すべく開放する開放側バルブ３３を備えたガス圧調整用管路３１と、を設けたことを特徴とする。 （もっと読む）

光ファイバ・プリフォーム組立体のクラッド部を形成する方法は、ガラス・コア・ケーンを型穴に配置し、前記型穴にシリカガラス・スートを負荷する工程を有してなる。振動エネルギーが鋳型本体に印加される際に、シリカガラス・スートを軸方向に圧縮して、ガラス・コア・ケーンの周りにスート成形体を形成する。ここで、スート成形体は光ファイバ・プリフォームのクラッド部組立体であり、ガラス・コア・ケーンは光ファイバ・プリフォーム組立体のコア部である。
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【課題】 石英炉心管内を清浄に保ち、処理ガラス表面の異常を防ぎ、析出物質の浮遊を防ぐ。
【解決手段】 多孔質ガラス母材３を挿入した炉心管１に処理ガスを供給して多孔質ガラス母材３を加熱処理する多孔質ガラス母材の製造方法であって、加熱処理した多孔質ガラス母材３を炉心管１から取り出した後、炉心管１の加熱部ＨＴに隣接する低温域ＬＴ１，ＬＴ２に対し、パージガスを噴出しながら外部へ排気する。低温域ＬＴ１，ＬＴ２には、パージガスを噴出させるガス吹き付けノズルｇｎ１，ｇｎ２と、排気管ｅｐ１，ｅｐ２を設ける。ガス吹き付けノズルｇｎ１，ｇｎ２は、軸線１５を上下方向に配置した炉心管１の低温域ＬＴ１，ＬＴ２の下側に配置し、排気管ｅｐ１，ｅｐ２は、低温域ＬＴ１，ＬＴ２の上側に配置することが望ましい。 （もっと読む）

【課題】ＭＣＶＤ法＋液浸法で作製した光ファイバのコア部分において、コアの径方向に渡って液浸添加物が均一に添加された光ファイバ母材の製造方法の提供。
【解決手段】ＭＣＶＤ法＋液浸法で光ファイバ母材を製造する際に、液浸前にガラス微粒子層のかさ密度を増加するために用いる加熱炉は、電気炉又は誘導加熱炉であり、前記ガラス管のうち少なくともガラス微粒子が堆積された部分を全て同時に加熱できるように、加熱手段が複数設置されているか、又は前記ガラス管内のうち少なくともガラス微粒子が堆積された部分を全て同時に加熱できるほど十分に長い加熱手段を有している加熱炉であること、且つ前記加熱炉による加熱処理は、ガラス微粒子層の収縮が起こらない温度での第１の加熱処理、第１の加熱処理よりも高くかつ透明ガラス化しない温度での第２の加熱処理の少なくとも２段階の熱処理を行うことを特徴とする光ファイバ母材の製造方法。 （もっと読む）

【課題】光ファイバ母材中の水酸基を十分なレベルまで低減でき、しかも特別の装置や操作条件を必要とすることのない光ファイバ母材の製造方法とその装置の提供。
【解決手段】気相合成法により得られた多孔質ガラス母材に脱水剤による脱水処理を施す際に、この脱水処理を、４０℃における透湿係数１．０×１０^−１１ｇ・ｃｍ／ｃｍ^２・ｓ・ｃｍＨｇ以下の配管を通して供給される脱水剤によって行い、前記脱水剤を通す透湿係数１．０×１０^−１１ｇ・ｃｍ／ｃｍ^２・ｓ・ｃｍＨｇ以下の配管の外側が空隙を隔てて外部配管で囲繞され、前記空隙に露点−８０℃以下のガスを流すことを特徴とする光ファイバ母材の製造方法。 （もっと読む）

【課題】石英製の炉心管に失透部分が形成されても、低コストで損傷を抑えて炉心管を長期的に用いることができ、設備費の削減を図ることが可能な加熱炉、ガラスの加熱方法及び加熱炉の維持方法を提供する。
【解決手段】本発明の加熱炉１は、石英製の炉心管２とその昇温部２ａの外周に配置したヒータ３を有し、炉心管２の昇温部２ａと同軸上に並んで設けられた延長部８の上端から被加熱物であるガラス体Ｇ１を炉心管２内に出し入れ可能であり、ヒータ３の延長部８側の端部から延長部８の上端までの長さＬを、昇温部２ａの内径Ｄの５倍以上としている。 （もっと読む）

【課題】 光ファイバの水素耐性向上のための重水素の使用量が少なく、また曝露にかかる時間を短縮できる光ファイバ用母材及び光ファイバの提供。
【解決手段】 石英ガラスからなり、コア領域とその外周を囲むクラッド領域とを有する出発母材の外周に、外付け工程により石英ガラスを付加した外付け領域が設けられた光ファイバ用母材であって、前記外付け領域は、その径方向断面のうち、ＯＨ濃度が０．４ｐｐｍ〜３ｐｐｍの範囲である領域が８０％以上を占めていることを特徴とする光ファイバ用母材。該光ファイバ用母材を紡糸して光ファイバを作製し、次いで該光ファイバを重水素含有雰囲気中に曝露して波長６３０ｎｍ帯のＮＢＯＨＣに起因する吸収損失が実質的に無くなるまで重水素曝露処理を行って耐水素特性の向上した光ファイバを得る製造方法。 （もっと読む）

【課題】光ファイバ製造工程の中のＯＶＤ工程（外付け工程）から次の焼結工程へ移行する際に、光ファイバ用スート母材を機械的に搬送する。
【解決手段】ＯＶＤ工程（外付け工程）から取り出されるスート母材３はその長手方向がほぼ水平状態に位置している。このスート母材３の後方端側をグリッパ部材２７で把持すると共に前記スート母材３の前方端側を引き上げ装置４１で引き上げる際に、前方側を上昇するように円弧状に形成したガイド部材２９Ｌ，２９Ｒで前記グリッパ部材２７を案内することにより、引き上げ装置４１の引き上げ力だけで前記スート母材３が容易に且つ機械的にその長手方向がほぼ水平状態からほぼ垂直状態に変更されると共に前記スート母材３の全体を上昇して焼結工程へ搬送する。 （もっと読む）

光ファイバ母材中の水酸基を十分なレベルまで低減でき、しかも特別の装置や操作条件を必要とすることのない脱水方法とそのための装置を得る。気相合成法により光ファイバ母材を製造するに当たって、ガラス微粒子を堆積せしめて得られる多孔質コア母材を脱水剤で脱水処理する際、透湿係数が１．０×１０^−１１ｇ・ｃｍ／ｃｍ^２・ｓ・ｃｍＨｇ以下の材料からなる供給配管及び主供給管を通して脱水剤を脱水装置へ供給して脱水処理を行い、光ファイバ母材を製造する。
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【課題】炉心管の継ぎ目からのプロセスガスの漏れを確実になくすこととアルゴンガスの消費量を少なくする。
【解決手段】光ファイバ母材の製造方法は、加熱された炉心管７に多孔質母材３を挿入しながら、加熱すると共に前記炉心管７内にプロセスガス２５を供給して前記多孔質母材３を透明ガラス化するものである。この製造方法において、前記炉心管７の継ぎ目３１の周囲をシール室３５で覆うと共に前記シール室３５の内部に不活性ガス３７を封入する。 （もっと読む）

本発明は、a)前処理された所定のパターン/領域を材料に達するまで放射線を照射すること；b)材料を処理して、前処理されたパターン/領域に反応性基を生成させること；およびc)原子層堆積法によって材料をドーピングして、ドーパントがドーピングされたパターン/領域を材料に生成させることを特徴とする、材料を選択的にドーピングする方法に関する。本発明はさらに、選択的にドーピングされた材料、選択的にドーピングされた材料を製造するためのシステム、および前記方法の使用に関する。
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