ａ（Ａｌ₂Ｏ₃・ＴｉＯ₂）＋ｂ（ＣａＯ・Ａｌ₂Ｏ₃・２ＳｉＯ₂）＋ｃ（ＳｒＯ・Ａｌ₂Ｏ₃・２ＳｉＯ₂）＋ｄ（ＢａＯ・Ａｌ₂Ｏ₃・２ＳｉＯ₂）＋ｅ（３Ａｌ₂Ｏ₃・２ＳｉＯ₂）＋ｆ（Ａｌ₂Ｏ₃＋ｇ（ＳｉＯ₂））＋ｈ（Ｆｅ₂Ｏ₃・ＴｉＯ₂）＋ｉ（ＭｇＯ・２ＴｉＯ₂）からなる組成を持ちチタン酸アルミニウムベースのセラミック体であって、ａ，ｂ，ｃ，ｄ，ｅ，ｆ，ｇ，ｈおよびｉが、（ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅ＋ｆ＋ｇ＋ｈ＋ｉ）＝１となるような各成分の質量分率であり、０．５＜ａ≦０．９５；０≦ｂ≦０．５；０≦ｃ≦０．５；０≦ｄ≦０．５；０＜ｅ≦０．５；０≦ｆ≦０．５；０≦ｇ≦０．１；０≦ｈ≦０．３；０≦ｉ≦０．３；ｂ＋ｄ＞０．０１であるセラミック体が提供される。このセラミック体を形成する方法が提供される。このセラミック体は、ディーゼル排気濾過などの、自動車の排ガス制御システムに有用である。
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高精度かつ生産性を損なうことなく、耐熱性に優れた圧電磁器組成物、ならびに圧電素子を提供する。Ｐｂ，Ｚｒ，Ｔｉを主成分とするペロブスカイト化合物を含む圧電磁器組成物において、副成分としてＣｒをＣｒ_２Ｏ_３換算で０．０２５〜０．２５０ｗｔ％含むようにした。本発明の圧電磁器組成物によれば、外部からの熱衝撃を受ける前および後の電気機械結合係数ｋ１５の変化率Δｋ１５を絶対値で３．０％以下とすることができる。 副成分としてＣｒをＣｒ_２Ｏ_３換算で０．０３０〜０．２００ｗｔ％含むことがより望ましい。 （もっと読む）

本発明は、エアロゾルデポジション法等で形成された微結晶セラミックス膜に、セラミックス自体は吸収しやすく、逆に金属では反射するという赤外線のセラミックス材料に対する光学特性を利用したレーザー照射による加熱処理を行うことにより、微結晶セラミックス膜が基板から剥離することなく粒成長及び欠陥回復が可能なセラミックス膜構造体、その形成方法及び装置を提供することを目的とする。
本発明のセラミックス膜構造体の形成方法は、金属基板上に微結晶セラミックス膜を形成した後、該微結晶セラミックス膜に赤外線レーザーを照射することを特徴とする。 （もっと読む）

出発化合物として使用すべきイオンを粉末状の酸化物及び／又は粉末状の炭酸塩の形で使用し、相互に混合し、次いでか焼して圧電セラミック材料にする、低温で焼結するＰＺＴ型の圧電セラミック材料の製造方法に関する。前記出発化合物のか焼の後に、前記混合物にリチウムをイオンの形で、ＰＺＴセラミックの質量に対して０．０１〜０．１質量％の範囲内の量で添加する。 （もっと読む）

【課題】 すぐれた熱安定性、耐腐食性を有し、耐摩耗性を有するジルコニア質焼結体からなるベアリングの提供。
【解決手段】 （ａ）主として正方晶からなるＹ_２Ｏ_３系ジルコニア質焼結体であって、（ｂ）Ｙ_２Ｏ_３／ＺｒＯ_２モル比が１．５／９８．５〜４／９６の範囲にあり、（ｃ）ＳｉＯ_２を０．０５〜２．５重量％含有し、（ｄ）Ａｌ_２Ｏ_３を０．０５〜３．０重量％含有し、（ｅ）平均結晶粒径が０．７μｍ以下であり、（ｆ）ＳｉＯ_２（重量％）×平均結晶粒径（μｍ）が０．０３〜０．５の範囲にあり、（ｇ）ＳｉＯ_２／（Ｎａ_２Ｏ、Ｋ_２Ｏ、ＣａＯ、Ｆｅ_２Ｏ_３合計）の重量比が５以上であり、（ｈ）かさ密度が５．７０ｇ／ｃｍ^３以上であることを特徴とする耐久性にすぐれたジルコニア質焼結体からなるベアリング。 （もっと読む）

【課題】高電気機械結合係数、低誘電率であるとともに、低温での焼成が可能なＰｂＺｒＯ₃−ＰｂＴｉＯ₃組成系の圧電磁器組成物を提供する。
【解決手段】ＰｂＺｒＯ₃−ＰｂＴｉＯ₃−Ｐｂ（Ｚｎ_1/3 Ｓｂ_2/3）Ｏ₃を主体とし、ＬｉとＢｉならびにＣｕの元素をそれぞれＬｉ₂ＣＯ₃、Ｂｉ₂Ｏ₃、ＣｕＯに換算して、０重量％＜Ｌｉ₂ＣＯ₃＜１．０重量％、０重量％＜Ｂｉ₂Ｏ₃＜１．０重量％、０重量％＜ＣｕＯ＜２．０重量％の範囲でそれぞれ含有させて圧電磁器組成物を構成する。 （もっと読む）