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Fターム[4G047BD02]の内容

Fターム[4G047BD02]に分類される特許

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【課題】光電変換素子のバッファ層として、低コストに、かつ、より高い品質のバッファ層を得る。
【解決手段】化学浴析出装置1において、成膜用基板10の成膜面10aに対して膜を化学浴析出させるための反応液2を蓄える反応槽3と、成膜用基板10の裏面が密着固定されるステンレスからなる固定面21aを有し、少なくとも成膜面10aを反応液2に接触させるように成膜用基板10を保持する基板保持部20と、成膜用基板10をその裏面側から加熱する、固定面21aの裏側に装着されたヒーター30と、反応槽3中の反応液2の温度を制御する反応液温度制御部40とを備える。 (もっと読む)


【課題】無機半導体微粒子を出発物質とし、所望の特性を有する半導体薄膜の形成方法を適用した電子デバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】制御電極14、第1電極及び第2電極16、並びに、第1電極と第2電極16との間であって、絶縁層15を介して制御電極14と対向して設けられた、半導体薄膜から成る能動層17を備えた電子デバイスの製造方法において、半導体薄膜を、(a)無機半導体微粒子分散溶液を基体上に塗布、乾燥して、半導体微粒子層を形成した後、(b)半導体微粒子層を溶液に浸漬する各工程にて得る。 (もっと読む)


【課題】公知方法に対して他の材料組成で他の表面層の製造を可能にすることである。その際この方法は、それにもかかわらず生態的および経済的見地から簡単に実施できるべきである。
【解決手段】金属層を製造するために、所望の層厚に依存して循環的に実施すべき以下の処理工程:基板表面に層を形成するために、少なくとも1種の適当な出発物質を被覆する工程、形成された出発物質層を、不活性ガス流中でまたは蒸発により乾燥する工程、金属層を形成するために、乾燥した出発物質層を、湿った、還元作用する反応物質ガスでガス処理する工程、および未反応の出発成分または好ましくない副生成物を除去するために、形成された金属層を熱処理する工程工程を有する、任意の形状の基板上に薄い、難溶性の被覆を製造する方法。 (もっと読む)


種々の局面において、架橋・収縮した高分子物質内のナノ粒子を生成するための方法が提供され、この方法は、a)高分子物質を含む高分子溶液を提供する工程、b)一つまたは複数の前駆体部分の周りで少なくとも高分子物質の一部分を収縮させる工程、c)この高分子物質を架橋する工程、d)前駆体部分の一部分を改変して、一つまたは複数のナノ粒子を形成し、それによって複合ナノ粒子を形成する工程を包含する。種々の実施形態において、閉じ込められたナノ粒子の完全な熱分解によって、閉じ込められていないナノ粒子が生成され得、閉じ込められたナノ粒子の不完全な熱分解によって、炭素被覆されたナノ粒子が生成され得る。
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